Real Time Electron Beam Testing Method
Real Time Electron Beam Testing Method
批准号:
61460141
负责人:
FUJIOKA Hiromu
金额:
$1.98万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
财政年份:
1986
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1986 至 1987
中文摘要
随着集成电路向更快的运行速度和更高的封装密度发展的趋势,利用扫描电子显微镜频闪技术进行电子束测试已成为不可缺少的重要方法,并已广泛应用于半导体制造的各个阶段。本文介绍了一种由扫描电子显微镜、宽带信号检测系统和数字化示波器组成的真实的时间电子束测试系统,该系统利用电子束的真实的时间系统,对电子束进行了测试。集成电路上具有0.1ms- 20 ms的低重复率的电压信号可以以10 ns的高时间分辨率测量。
英文摘要
With the trend in integrated circuit developments towards faster operating speed and increasing packing density, electron beam testing by scanning electron microscope stroboscopy has becme an indispensably important method and has been widely used in the various phases of semiconductor manufacturing. This stroboscopic method, however, has a basic drawback that signals with low repetition rates or nonrepetitive signals cannot be detected.To overcme this drawback, a real time electron beam testing system which consists of a scanning electron microscope, a broadband signal detection system, and a digitizing oscilloscope has been developed.By using the real time system, voltage signals on the integrated circuits with low repetition rates of 0.1 ms- 20 ms can be measured with a high time resolution of 10 ns.
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藤岡弘: 日本学術振興会第132委員会研究会(電子ビームテスティングシンポジウム).
藤冈浩:日本学术振兴会第132届委员会研究小组(电子束测试研讨会)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H,Fujioka, K,Nakamae, M,Hirota, K,Ura, and S,Takashima: "Real time electron beam testing and its applications" Proc. Symposium on Electron beam Testing, Osaka. 17-22 (1987)
H,Fujioka,K,Nakamae,M,Hirota,K,Ura 和 S,Takashima:“实时电子束测试及其应用”Proc。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
藤岡弘: 第35回応用物理学関係連合講演会資料, 29pK5. (1988)
藤冈浩:第 35 届应用物理学会讲座材料,29pK5 (1988)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
H. Fujioka: J. Appl. Phys. E: Sci. Instrum. ,.
H.藤冈:J.Appl。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
藤岡弘: 日本学術振興会第132委員会第101回研究会資料. 17-22 (1987)
藤冈浩:日本学术振兴会第132届委员会第101次研究会议资料17-22(1987)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 7 条
Fundamental study on design for testing of multi-layer structure VLSIs
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批准号:10450137
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B).
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资助金额:$6.08万
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财政年份:1998
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负责人:FUJIOKA Hiromu
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依托单位:
Automatic hierarchical tracing of VLSI transistor-level performance faults with CAD-linked electron beam test system from CAD layout data
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批准号:08455164
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$3.07万
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财政年份:1996
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负责人:FUJIOKA Hiromu
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依托单位:
Fundamental research on low energy electron beam assisted selective etching and deposition for submicron LSI fabrication
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批准号:03452181
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
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资助金额:$2.11万
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财政年份:1991
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负责人:FUJIOKA Hiromu
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依托单位:
海外基金