Far-UV C AlGaN-based electron beam pumped laser

远紫外 C AlGaN 电子束泵浦激光器

基本信息

  • 批准号:
    22H00304
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 27.04万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 财政年份:
    2022
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2022-04-01 至 2025-03-31
  • 项目状态:
    未结题

项目摘要

本研究課題では、電子線励起による人体に影響がなく且つ殺菌能力の高い深紫外領域のレーザーをAlGaN系材料で実現することを目標としている。その実現には、大きな光学利得を得ることが可能な高品質な結晶と低い光学ロスの実現が不可欠である。初年度である令和4年度はAlGaN結晶の高品質化、基板を剥離する技術、さらには光学ロスを低減するのに必要不可欠な高反射率ミラーの開発を主に検討した。高品質AlGaNの作製に関してはAlNナノピラーを周期的に形成し、その上に結晶を作製する手法のさらなる改善に取り組んだ。結果として、転位密度が1.5×10^8cm^-2という比較的高品質な結晶を得ることに成功したが、表面平坦性が低いなどの課題が残された。令和5年度はAlN基板を導入してその有用性を検証する予定である。また、その基板剥離技術として加熱した水を用いた手法により高Al組成のAlGaNを1cm角程度というウェハーレベルの剥離が可能であることを実証した。こちらに関してはApplied Physics Expressという学術論文として報告した(Eri Matsubara et al 2022 Appl. Phys. Express 15 116502)。さらにミラー形成に関しては、誘電体多層膜を用いた高反射率ミラーの形成方法を検討した。ただ、波長280nm程度までは比較的吸収が少ない誘電体材料を形成することに成功したが、特に高屈折率材料において吸収が十分に低い材料が得られていないため、令和5年度はこの問題を解決するために共同研究先から本学にECRスパッタリング装置を譲渡してもらい、プロセス開発を進めることによって極めて吸収の少ない材料を開発することによって問題の解決を図る予定である。初年度としては、目的に向けて実験を進め問題点を抽出することができており当初の予定通りの研究の進捗であると考えられる。
This research topic で は, electronic wire wound up に よ る health effects に が な く and つ sterilization ability の high い deep uv field の レ ー ザ ー を AlGaN materials で be presently す る こ と を target と し て い る. そ の be presently に は, big き な optical gains を have る こ と が may な high-quality low crystallization な と い optical ロ ス の be が now do not owe で あ る. Early annual で あ る make and 4 year は AlGaN crystallization の high quality base board, を stripping す る technology, さ ら に は optical ロ ス を low cut す る の に need not owe な high reflectivity ミ ラ ー の open 発 を main に beg し 検 た. High-quality AlGaN の cropping に masato し て は AlN ナ ノ ピ ラ ー に form し を cycle and そ の に on crystallization を cropping す る gimmick の さ ら な る improve に group take り ん だ. Results と し が て, planning a density of 1.5 * 10 ^ 8 cm ^ 2 と い う comparison of high quality な crystallization を る こ と に successful し た が, surface flatness が low い な ど の subject が residual さ れ た. In the fifth year of the Reiwa era, the <s:1> AlN substrate を was introduced, and the <s:1> てそ <s:1> <s:1> usefulness を検 certificate する was determined to be である. ま た, そ の substrate stripping technology と し て heating し た water を use い た gimmick に よ り of high Al の AlGaN を 1 cm Angle degree と い う ウ ェ ハ ー レ ベ ル の stripping が may で あ る こ と を card be し た. Youdaoplaceholder2 ちらに related to て て Applied Physics Expressと う う academic paper と て て report た た (Eri Matsubara et al 2022 Appl. Phys. Express 15 116502). さ ら に ミ ラ ー form に masato し て は, electricity body multilayer を with い た high reflectivity ミ ラ ー の formation method を 検 beg し た. た だ, degree of wavelength of 280 nm ま で は comparison of 収 が less な い electric material lure を form す る こ と に successful し た が, に high rate of inflectional material に お い て suction 収 が が from materials is very low に い ら れ て い な い た め, make and 5 year は こ の を solve す る た め に joint research first か ら this study に ECR ス パ ッ タ リ ン グ device を 譲 し て も ら い, プ ロ セ ス open 発 を into め る こ と に よ っ て extremely め て suction 収 の less な い material を open 発 す る こ と に よ っ て の solve を 図 る designated で あ る. Early annual と し て は, purpose に to け て be 験 を into め problem point を spare す る こ と が で き て お り の original designated general り の の research into 捗 で あ る と exam え ら れ る.

项目成果

期刊论文数量(14)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Fabrication of vertical UV light-emitting devices by separation of sapphire substrates
分离蓝宝石衬底制造垂直紫外发光器件
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Motoaki Iwaya;Toma Nishibayashi;Moe Shimokawa;Ryota Hasegawa;Eri Matsubara;Ryoya Yamada;Yoshinori Imoto;Ryosuke Kondo;Ayumu Yabutani;Sho Iwayama;Tetsuya Takeuchi;Satoshi Kamiyama;Hideto Miyake;Kohei Miyoshi;Koichi Naniwae;Akihiro Yamaguchi
  • 通讯作者:
    Akihiro Yamaguchi
Development of AlGaN-based laser diodes in the UV-A to UV-B regions
UV-A 至 UV-B 区域的 AlGaN 基激光二极管的开发
  • DOI:
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Motoaki Iwaya;Sho Iwayama;Tetsuya Takeuchi;Satoshi Kamiyama;Hideto Miyake
  • 通讯作者:
    Hideto Miyake
High-quality n-type conductive Si-doped AlInN/GaN DBRs with hydrogen cleaning
采用氢清洗的高质量 n 型导电硅掺杂 AlInN/GaN DBR
  • DOI:
    10.35848/1882-0786/ac9bc9
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Kana Shibata;Tsuyoshi Nagasawa;Kenta Kobayashi;Ruka Watanabe;Takayuki Tanaka;Tetsuya Takeuchi;Satoshi Kamiyama;Motoaki Iwaya;and Toshihiro Kamei
  • 通讯作者:
    and Toshihiro Kamei
A method for exfoliating AlGaN films from sapphire substrates using heated and pressurized water
一种使用加热加压水从蓝宝石衬底上剥离 AlGaN 薄膜的方法
  • DOI:
    10.35848/1882-0786/ac97dc
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    2.3
  • 作者:
    Matsubara Eri;Hasegawa Ryota;Nishibayashi Toma;Yabutani Ayumu;Yamada Ryoya;Imoto Yoshinori;Kondo Ryosuke;Iwayama Sho;Takeuchi Tetsuya;Kamiyama Satoshi;Shojiki Kanako;Kumagai Shinya;Miyake Hideto;Iwaya Motoaki
  • 通讯作者:
    Iwaya Motoaki
AlGaN-Based UV-B Laser Diodes Fabricated on Lattice-Relaxed AlGaN Formed on Sapphire Substrates
在蓝宝石衬底上形成的晶格弛豫 AlGaN 上制造的基于 AlGaN 的 UV-B 激光二极管
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Motoaki Iwaya;Sho Iwayama;Tetsuya Takeuchi ;Satoshi Kamiyama;Hideto Miyake
  • 通讯作者:
    Hideto Miyake
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組成傾斜p-AlGaN層とp-Al0.4Ga0.6Nコンタクト層を有する深紫外LED
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  • 发表时间:
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  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    岩月 梨恵;速水 一輝;石黒 永孝;竹内 哲也;上山 智;岩谷 素顕
  • 通讯作者:
    岩谷 素顕
その場Mg活性化を用いたGaNトンネル接合
使用原位镁激活的 GaN 隧道结
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    神谷 直樹;伊藤 太一;岩月 梨恵;上山 智;岩谷 素顕;竹内 哲也
  • 通讯作者:
    竹内 哲也
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  • DOI:
  • 发表时间:
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    平岩 恵;村永 亘;岩山 章;清原 一樹;竹内 哲也;上山 智;岩谷 素顕;赤﨑 勇
  • 通讯作者:
    赤﨑 勇
窒化物半導体トンネル接合に向けた高濃度ドーピング
氮化物半导体隧道结的高浓度掺杂
  • DOI:
  • 发表时间:
    2011
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    加賀 充;山下 浩司;矢木 康太;岩谷 素顕;竹内 哲也;上山 智;赤崎 勇;天野 浩
  • 通讯作者:
    天野 浩
分子吸着金属表面からの走査トンネル顕微鏡発光の理論:分子励起子,分子振動子,界面プラズモン,光子の多体量子ダイナミクス
分子吸附金属表面的扫描隧道微观光发射理论:分子激子、分子振荡器、界面等离子体和光子的多体量子动力学
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    鈴木 健太;財部 覚;高須賀 大貴;小出 典克; 竹内 哲也;岩谷 素顕;上山 智;赤﨑 勇;三輪邦之
  • 通讯作者:
    三輪邦之

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  • DOI:
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  • 发表时间:
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Fabrication of vertical AlN devices
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    $ 27.04万
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  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 27.04万
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    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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  • 批准号:
    2112247
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 27.04万
  • 项目类别:
    Standard Grant
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  • 批准号:
    21K14503
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 27.04万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
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  • 批准号:
    21H01389
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 27.04万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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  • 批准号:
    20K21006
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 27.04万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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  • 批准号:
    20H02633
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 27.04万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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知道了