Entspiegelung von optischen Oberflächen für den VUV-Spektralbereich

在此基础上，设计了一种新型的纳米结构防反射材料。在Verwendung SelbstOrganisierer Masken erfolgen下，我们将在石英玻璃中获得纳米结构。这是一个很难解决的问题，因为这是一个很大的问题。平行的大足在另一种情况下是不受侵蚀的。从现在开始，波浪式机械设备的腐蚀速度和波纹的粗化程度都不同。不同的是，不对称的波纹、不对称的波纹。他说：“这是一件非常重要的事情。

Ziel des Teilprojektes ist die Entwicklung eines Verfahrens, das die Herstellung nanostrukturierter antireflektierender Quarzglasoberflächen ermöglicht. Dabei soll die Nanostrukturierung der Quarzglasoberflächen vorrangig unter Verwendung selbstorganisierender Masken erfolgen. Bedingt durch Probleme bei der Abscheidung der GaSb- Maskenschichten konnten die Arbeiten dazu noch nicht abgeschlossen werden. Parallel dazu wurde ein alternativer Ansatz zur Direktstrukturierung von SiO2 mittels Ar- Ionenstrahlerosion untersucht. Durch diese Versuche konnte gezeigt werden, dass die Gradienten-Abhängigkeit der (lokalen) Erosionsrate der wichtigste Mechanismus bei der Ripple-Entwicklung auf diesen Oberflächen ist und im Wesentlichen auch für die Facettierung und das Coarsening der Ripple-Strukturen verantwortlich ist. Durch die geplante Untersuchungen zu Kr und Xe als Projektil-Ionen erwarten wir eine Verbesserung des Ordnungsgrades der Strukturen und erhalten zusätzlich, durch geeignete Wahl des Einfallswinkels, die Möglichkeit gezielt Einfluss auf die Form der Ripples (symmetrische bzw. asymmetrische Ripple-Flanken, Flankenwinkel) zu nehmen. Aus diesem Grund sollen beide Strukturierungsansätze in der zweiten Förderphase weiterverfolgt werden.