Musterbildung auf Si- und Ge-Oberflächen durch niederenergetische Ionenstrahlerosion

2 .技术工程，技术工程，技术工程，3和6，beschäftigt 1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，1 .技术工程，in Teil A wind, neben den bisher betrachteten primären prozesparameteren (z. B. ionenergie), in simultaneintrg von Eisens in Mittelpunkt der Untersuchungen stehen。Die musterbilung（德国）：德国导演（德国导演）：德国导演（德国导演）：德国导演（德国导演）：德国导演（德国导演）：德国导演（德国导演）In enger Zusammenarbeit mit den anderen Teilprojekten sololas Verständnis soweit vorangetrieben werden, dass zuk<e:1> nftig In definiert gesteuerter Eiseneinbau也zusätzlicher Freiheitsgrad zur Musterkontrolle verwendet werden kann。2 . Die Ergebnisse bilden gleichzittig Die Datenbasis fgr den zweiten Schwerpunkt, der sich der control lierten Selbstorganisation durch gezielte Vorstrukturierung beschäftigt。大足sollen die bisherigen arbeen fortesetzt和ausgebaut werden。Zusätzlich aufgenommen werden Untersuchungen unterschiedlichen Arten der Probenmanipulation während der Ionenstrahlerosion sowie arbeen and“随机”vorstrukturierten Oberflächen。

Dieses Teilprojekt, das die ehemaligen Teilprojekte 3 und 6 vereint, beschäftigt sich mit den experimentellen Grundlagen der ionenbeschussinduzierten Musterbildung auf Si- und Ge- Oberflächen unter Verwendung von Breitstrahlionenquellen sowie applikations-orientierten Fragen zur verbesserten Prozesskontrolle durch Kombination mit klassischen Lithographietechniken. Im Teil A wird, neben den bisher betrachteten primären Prozessparametern (z. B. Ionenenergie), der simultane Eintrag von Eisens im Mittelpunkt der Untersuchungen stehen. Die Musterbildung wird sowohl bei direkter Anwesenheit von Eisen als auch für vernachlässigbaren Eiseneintrag betrachtet. In enger Zusammenarbeit mit den anderen Teilprojekten soll das Verständnis soweit vorangetrieben werden, dass zukünftig ein definiert gesteuerter Eiseneinbau als zusätzlicher Freiheitsgrad zur Musterkontrolle verwendet werden kann. Die Ergebnisse bilden gleichzeitig die Datenbasis für den zweiten Schwerpunkt, der sich mit der kontrollierten Selbstorganisation durch gezielte Vorstrukturierung beschäftigt. Dazu sollen die bisherigen Arbeiten fortgesetzt und ausgebaut werden. Zusätzlich aufgenommen werden Untersuchungen zu unterschiedlichen Arten der Probenmanipulation während der Ionenstrahlerosion sowie Arbeiten an „stochastisch“ vorstrukturierten Oberflächen.