Musterbildung auf Si- und Ge-Oberflächen durch niederenergetische Ionenstrahlerosion

在Verwendung von Breitstrahlion enquellen Sowie Applikations-Orienterten Fragen zur Verwendung von Breitstrahlion enquellen Sowie Applikations-Orientierten Fragen zur Vergenerten Verwendung von Breitstrahlion enquellen Sowie Applikations-Orientierten Fragen zur ververesserten Prozesskontrolle duch Kombination MIT assischietechniken下的实验结果。我是Wird，neben den Bisher betrachteen primären prozess参数(z.b.Ionenenergie)，他同时也是一名中小型企业。他说：“这是一项非常重要的工作。”在Enger Zusammenarbeit Mit den Anderen Teilprojekten soll das Verständennis soweit or angetrieben，dass zukünftig ein finiert gesteuerter Eiseneinbau als zusätzlicher freiheitsgrad zur Musterkontrolle verwendet wann.从数据的基础上看，这是一种自我控制的组织形式。大足的索伦和他的兄弟姐妹在一起。苏茨利希自古以来的基因被认为是一种“随机性”的现象。

Dieses Teilprojekt, das die ehemaligen Teilprojekte 3 und 6 vereint, beschäftigt sich mit den experimentellen Grundlagen der ionenbeschussinduzierten Musterbildung auf Si- und Ge- Oberflächen unter Verwendung von Breitstrahlionenquellen sowie applikations-orientierten Fragen zur verbesserten Prozesskontrolle durch Kombination mit klassischen Lithographietechniken. Im Teil A wird, neben den bisher betrachteten primären Prozessparametern (z. B. Ionenenergie), der simultane Eintrag von Eisens im Mittelpunkt der Untersuchungen stehen. Die Musterbildung wird sowohl bei direkter Anwesenheit von Eisen als auch für vernachlässigbaren Eiseneintrag betrachtet. In enger Zusammenarbeit mit den anderen Teilprojekten soll das Verständnis soweit vorangetrieben werden, dass zukünftig ein definiert gesteuerter Eiseneinbau als zusätzlicher Freiheitsgrad zur Musterkontrolle verwendet werden kann. Die Ergebnisse bilden gleichzeitig die Datenbasis für den zweiten Schwerpunkt, der sich mit der kontrollierten Selbstorganisation durch gezielte Vorstrukturierung beschäftigt. Dazu sollen die bisherigen Arbeiten fortgesetzt und ausgebaut werden. Zusätzlich aufgenommen werden Untersuchungen zu unterschiedlichen Arten der Probenmanipulation während der Ionenstrahlerosion sowie Arbeiten an „stochastisch“ vorstrukturierten Oberflächen.