课题基金 / 基金详情

高温超伝導体ヘテロエピタキシの表面・界面評価と光電応用

高温超伝導体ヘテロエピタキシの表面・界面評価と光電応用
高温超导异质外延及光电应用的表面/界面评估
批准号：
02226105
负责人：
小林 猛
金额：
$10.56万
依托单位：
Osaka University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
1990
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1990 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-02226105/
关键词：
高温超伝導エピタキシャル薄膜表面ホットキャリヤ

项目摘要

项目成果

小林 猛的其他基金

相似基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
高温超伝導のエレクトロニクス応用の基盤であるエピタキシャル成長に関して,新しい高圧スパッタリング法を導入して,その抬積機構について研究した。薄膜の成長はスパッタリング粒子がタ-ゲットの直上で後方散乱を受けることと,チャンバ内を粒性プラズマに乗って拡散することで進行することが判明した。これを解析的に解く方法を提案した。解析解は実験結果を矛盾なく説明することができた。高圧スパッタリングを使うと超低速の薄膜成長速度が得られる。これを利用して0.9A^^°/分という超低速の成長によるYBaCuOエピタキシャル薄膜の作製をおこなった。膜厚が50^^°(単位格子が4個)という超薄膜を作製して,超伝導臨界温度として50Kを得た。このように良好な超伝導特性が超薄膜で得られる背景には,超低速成長のマイグレ-ション効果がとりあげられよう。エピタキシャル成長の不可欠な条件の一つにマイグレ-ション時間の供給があるが,本研究では極限的条件を与えてこれを実証したことになる。高温超伝導体の電子物性を調べるために,常伝導状態の高電界効果を世界に先駆けて研究した。YBCOエピタキシャル膜は2〜4KV/cmという比較的低い電界下で電流の飽和傾向を示すことが明らかになった。この実験は半導体で周知のホットキャリヤ効果で説明できることも併せて明らかになった。キャリヤは2次元系であり,有効質量は3〜5程度であることも判明した。これらの結果は、フォノン散貼を主体にしたものであり,高温超伝導にフォノンが強くかかわっていることを示唆する重要な結果である。
期刊论文(14)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
U.Kabasawa,K.Sakuta,T.Kobayashi: "Catastrophic Local Degradation of YBaCuO Epitaxial Film Induced by High Electric Field Application" Jpn.J.Appl.Phys.29. L453-L455 (1990)
U.Kabasawa、K.Sakuta、T.Kobayashi：“高电场引起的 YBaCuO 外延膜的灾难性局部退化”Jpn.J.Appl.Phys.29。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
K.Sakuta,K.Asano,T.Kobayashi: "Selective Heteroepitaxial Growth of (100)MgO/(001)YBCO on MgO Substrate and its Superconductivity" Jpn.J.Appl.Phys.29. 1668-1674 (1990)
K.Sakuta、K.Asano、T.Kobayashi：“MgO 基板上 (100)MgO/(001)YBCO 的选择性异质外延生长及其超导性”Jpn.J.Appl.Phys.29。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
K.Sakuta,M.Iyori,T.Kobayashi: "Effect of Discharge Gas Pressure on YBaCuO Epitaxial Film Formation by Reactive RF Magnetron Sputtering" Jpn.J.Appl.Phys.29. L601-L613 (1990)
K.Sakuta，M.Iyori，T.Kobayashi：“放电气压对反应射频磁控溅射 YBaCuO 外延薄膜形成的影响”Jpn.J.Appl.Phys.29。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
K.Sakuta,Y.Sakaguchi,T.Kobayashi: "Highly Reliable YBCO Epitaxial Film Growth by the Pressure Controlled Reactive Sputtering" IEEE Trans.on Magnetism. 27. (1991)
K.Sakuta、Y.Sakaguchi、T.Kobayashi：“通过压力控制反应溅射实现高度可靠的 YBCO 外延薄膜生长”IEEE Trans.on Magnetism。
DOI： --
发表时间：
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 7 条
    正電荷リポソーム包埋型磁性ナノ粒子を用いる温熱療法と臨床研究を目指した基盤整備
    • 批准号：
      20015044
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
    • 资助金额：
      $6.66万
    • 财政年份：
      2008
    • 负责人：
      小林 猛
    • 依托单位：
      Chubu University
    未来型生体・環境複合量子センシング技術創成の企画調査
    • 批准号：
      15636004
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.47万
    • 财政年份：
      2003
    • 负责人：
      小林 猛
    • 依托单位：
      Osaka University
    磁界印加オーロラPLDに於ける有機ターゲット粒子高度イオン化現象の機構解明
    • 批准号：
      15360011
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $9.86万
    • 财政年份：
      2003
    • 负责人：
      小林 猛
    • 依托单位：
      Osaka University
    ストレス誘導型遺伝子発現による新規癌ターゲット療法の開発
    • 批准号：
      13555224
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $4.48万
    • 财政年份：
      2001
    • 负责人：
      小林 猛
    • 依托单位：
      Nagoya University
    海外基金