多次元周期構造体を用いた波長選択性デバイス
多次元周期構造体を用いた波長選択性デバイス
批准号:
13026101
负责人:
花泉 修
金额:
$25.47万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 2003
中文摘要
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英文摘要
フォトニック結晶中に取り入れる発光材料としてTi : SiO_2スパッタ膜を作製した。SiO_2(65mm^φ)上にTiタブレット(20mm^φ)をのせたもめをターゲットとし,PLスペクトルを測定すると,組成の異なるいくつかのサンプルにおいてSi : SiO_2スパッタ膜と同じ0.4μm近傍にピークを持つことが分かった。Ti組成比がある程度以上になると発光しないことが分かった。すなわち,Ti : SiO_2スパシタ膜においても青色の発光が得られることが分かった。組成比の異なるSi:SiO^2膜も同じ波長域にPLピークを持つことから,吸収端エネルギーには依存しない共通の発光起源を持つ可能性があることが示された。また,組成比によらず固定した発光ピークを有することは素子応用上はメリットとなり得る。現在,フォトニック結晶構造への取り入れとEL化を試みている。次に,水素化アモルファスシリコン酸化膜(a-SiO_x : H)を用いて反射型ルゲートフィルタを作製した。石英基板上に反射型フィルタを作製し、計算値と一致するスペクトル特性を得た。ルゲート部の屈折率プロファイルとしてはλ/4多層膜形および正弦波形を,光学膜厚モニタ系を適当して精度良く実現できた。またルゲートフィルタの屈折率プロファイルについて検討し、a-SiO_x : H膜は広い波長帯域(>100nm)の反射型フィルタに適するという知見を得た。反射型フィルタ以外にも、a-SiO_x : H膜をTOチューナブルフィルタへ応用した。石英基板上にa-Si : H/SiO_2交互多層膜を成膜して透過型フィルタ(帯域3.5nm)を作製し、中心波長の温度係数が0.20nm/℃と大きな値を得た.透過帯域が数nmのTOチューナブルフィルタの適用可能性を示せた.
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H.Yoda: "a-Si : H/SiO_2 multilayer films fabricated by radio-frequency magnetron sputtering for optical filters"Applied Optics. (to be published). (2004)
H.Yoda:“通过射频磁控溅射制造光学滤波器的a-Si:H/SiO_2多层薄膜”应用光学。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
O.Hanaizumi: "Fabrication and assessment of Si : SiO_2 sputtered films emitting white light without annealing"Jpn. J. Appl. Phys.. 41・10A. L1084-L1087 (2002)
O.Hanaizumi:“无需退火即可发射白光的 Si:SiO_2 溅射薄膜的制造和评估”Jpn. Phys. 41・10A (2002)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
O. Hanaizumi: "Introducing CdS into two- and three-dimensional photonic crystals"Optical and Quantum Electronics. Vol.34, No.1/3. 71-77 (2002)
O. Hanaizumi:“将 CdS 引入二维和三维光子晶体”光学和量子电子学。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
花泉修: "Ti : SiO_2スパッタ膜からの青色発光の観測"電子情報通信学会論文誌C. J86-C・11. 1218-1219 (2003)
Osamu Hanaizumi:“Ti: SiO_2 溅射薄膜的蓝光发射观察” IEICE Transactions C. J86-C·11 (2003)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
O.Hanaizumi: "Blue-light emission from squttered Si : SiO_2 films without annealing"Appl. Phys. Lett.. 82・4. 538-540 (2003)
O.Hanaizumi:“未经退火的硅薄膜的蓝光发射”,Phys. 82・4(2003)。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 9 条
Develop of RPL radiometer realizing measurement of heavy ion distribution and real time profiling
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批准号:21K12522
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$2.66万
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财政年份:2021
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负责人:花泉 修
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依托单位:
3次元サブミクロン周期構造中へ活性材料を取り入れる技術と素子応用の研究
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批准号:12875057
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项目类别:Grant-in-Aid for Exploratory Research
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资助金额:$1.28万
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财政年份:2000
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负责人:花泉 修
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依托单位:
IIIV族活性層のバンド端近傍における複素屈折率変化の高精度測定法の研究
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批准号:08750347
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1996
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负责人:花泉 修
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依托单位:
歪み格子量子井戸よりなる光励起垂直入射型光増幅器の作製に関する研究
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批准号:07750399
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1995
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负责人:花泉 修
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依托单位:
キャリヤ注入型マイクロ光スイッチの作製とメカニズムの解明
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批准号:06750365
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.77万
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财政年份:1994
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负责人:花泉 修
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依托单位:
IIIVヘテロ構造のバンド端近傍における複素屈折率変化量の高感度測定法の研究
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批准号:05750324
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.58万
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财政年份:1993
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负责人:花泉 修
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依托单位:
共振器型マイクロ光スイッチの作製およびその光ファイバ集積化に関する研究
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批准号:04750374
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.64万
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财政年份:1992
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负责人:花泉 修
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依托单位:
キャリア注入に伴うIIIVヘテロ構造の複素屈折率変化のメカニズムに関する研究
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批准号:02750310
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.45万
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财政年份:1990
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负责人:花泉 修
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依托单位:
光立体回路技術の研究
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批准号:61790134
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.27万
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财政年份:1986
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负责人:花泉 修
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依托单位: