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量子ドットによる歪み誘起バンドギャップ変化を利用した太陽電池用材料の創製

利用量子点应变引起的带隙变化创建太阳能电池材料

基本信息

批准号：
14050011
负责人：
宇佐美徳隆
金额：
$ 1.86万
依托单位：
Tohoku University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2002
资助国家：
日本
起止时间：
2002 至无数据
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究においては、ナノスケールGe量子ドット構造を内包するSi結晶の作製と、高効率太陽電池材料としての有用性について検討を行った。太陽電池の基本構造は、ナノスケールGe量子ドットとSiの積層構造をpn接合の空乏層内に導入した構造である。高効率化実現のためには、Ge量子ドットによって吸収されるSiを透過する太陽光長波長成分が、光電流として有効に発電に寄与することが要請される。その実現にためには、再結合中心の少ない良質な結晶作製技術の確立するとともに、Geドットのポテンシャル形状とpn接合による内部電界の制御により有効に光励起キャリアを取り出せるデバイス構造設計が重要となる。今年度は、Si基板上にGe量子ドット積層構造を作製し、太陽電池に加工して動作確認を行うとともに、分光感度特性評価によりSiを透過する長波長域での感度発現を目標として研究を遂行した。試料は、ジシランとゲルマンを原料とするガスソース分子線エピタキシー法により作製した。P型Si(100)基板上に、8原子層のGeと39nmのSiを繰り返しの基本構造として10〜100回積層した後に、1μmのSiキャップ層を成長した。太陽電池への加工プロセスは、表面にスピンコートしたOCD溶液からの不純物拡散によるn型層の形成、裏面・表面への電極用金属の蒸着からなり、高効率化のために一般的プロセスとして取り入れられている表面テクスチュア形成、反射防止膜形成、BSF構造などは取り入れていない。作製した太陽電池の分光感度特性を評価したところ、Geドットを内包するデバイスにおいては、Si太陽電池を透過する波長域において感度が発現した。長波長での量子効率は、積層回数を増加させるに伴い増加した。よって、Geで吸収された光の一部は発電に寄与していることが確認できた。今後は、デバイス構造やプロセスの最適化により、Si太陽電池を上回る変換効率を実現することが課題である。

This study is about the production and use of high-efficiency solar cell materials and the practicality of high-efficiency solar cell materials. The basic structure of the solar cell, the quantum structure of the solar cell, the layered structure of Si, and the introduction of the depleted layer into the pn junction structure. High-efficiency conversion technology, Ge quantum technology absorption technology, Si transmission technology The long-wavelength component of sunlight and the effective photocurrent are the same as that of the photoelectric current.その実成にためには、Recombination center のないGood quality な crystal production technology established するとともに、GeドットのポテンシャルThe shape of the pn joint and the control of the internal electric field are effective and the light is excited and the light is taken out and the structural design is important. This year, Ge quantum multilayer structure on Si substrate was fabricated and solar cell processing was confirmed and the operation was carried out.もに、Evaluation of spectral sensitivity characteristics 価によりSiをThrough the sensitivity of the long wavelength domain, the target is realized and the research is carried out. The sample was made from the raw material of ジシランとゲルマンを, とするガスソース molecular line, エピタキシー method, により. On the P-type Si (100) substrate, the basic structure of 8 atomic layers of Ge and 39nm of Si and the thickness of 10 to 100 laminated layers and the growth of 1μm Si layers are achieved. Solar cell processing is done, the surface is processed, the OCD solution is used, the impurities are dispersed, the n-type layer is formed, and the metal for the electrode is evaporated on the inside and the surface.なり、High-efficiency のためにGeneral プロセスとしてtake り入れられている surface テクスチュア formation, anti-reflection film formation, BSF structure などは Take out the れていない. The spectroscopic sensitivity characteristics of the solar cell produced are evaluatedバイスにおいては、Si solar cell has a high sensitivity and sensitivity in the wavelength range. The quantum efficiency of the long wavelength is increased, and the number of stacked layers is increased.よって、GeでAbsorb the された光の一は発电に Send and していることがConfirmationできた. In the future, we will focus on the optimization of the solar cell structure and Si solar cell conversion efficiency.