量子ドットによる歪み誘起バンドギャップ変化を利用した太陽電池用材料の創製

利用量子点应变引起的带隙变化创建太阳能电池材料

基本信息

  • 批准号:
    14050011
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.86万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 财政年份:
    2002
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2002 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究においては、ナノスケールGe量子ドット構造を内包するSi結晶の作製と、高効率太陽電池材料としての有用性について検討を行った。太陽電池の基本構造は、ナノスケールGe量子ドットとSiの積層構造をpn接合の空乏層内に導入した構造である。高効率化実現のためには、Ge量子ドットによって吸収されるSiを透過する太陽光長波長成分が、光電流として有効に発電に寄与することが要請される。その実現にためには、再結合中心の少ない良質な結晶作製技術の確立するとともに、Geドットのポテンシャル形状とpn接合による内部電界の制御により有効に光励起キャリアを取り出せるデバイス構造設計が重要となる。今年度は、Si基板上にGe量子ドット積層構造を作製し、太陽電池に加工して動作確認を行うとともに、分光感度特性評価によりSiを透過する長波長域での感度発現を目標として研究を遂行した。試料は、ジシランとゲルマンを原料とするガスソース分子線エピタキシー法により作製した。P型Si(100)基板上に、8原子層のGeと39nmのSiを繰り返しの基本構造として10〜100回積層した後に、1μmのSiキャップ層を成長した。太陽電池への加工プロセスは、表面にスピンコートしたOCD溶液からの不純物拡散によるn型層の形成、裏面・表面への電極用金属の蒸着からなり、高効率化のために一般的プロセスとして取り入れられている表面テクスチュア形成、反射防止膜形成、BSF構造などは取り入れていない。作製した太陽電池の分光感度特性を評価したところ、Geドットを内包するデバイスにおいては、Si太陽電池を透過する波長域において感度が発現した。長波長での量子効率は、積層回数を増加させるに伴い増加した。よって、Geで吸収された光の一部は発電に寄与していることが確認できた。今後は、デバイス構造やプロセスの最適化により、Si太陽電池を上回る変換効率を実現することが課題である。
在这项研究中,我们研究了含有纳米级量子点结构的Si晶体及其作为高效的太阳能电池材料的有用性。太阳能电池的基本结构是一种结构,在该结构中,将纳米级量子点的层压结构和Si的层压结构引入到PN连接的耗尽层中。为了达到高效率,要求通过GE量子点吸收的SI的长波长太阳能有效地有助于发电作为光电流。为了实现这一目标,重要的是要建立几乎没有重组中心的高质量晶体制造技术,并设计可以通过控制PN连接的GE DOTS和内部电场的潜在形状来有效地提取光激励载体的设备结构。今年,在SI底物上制造了GE量子点层压结构,并处理到太阳能电池中并确认操作,并进行了研究,目的是在长波长范围内产生灵敏度,从而通过光谱敏感性传输SI,从而通过光谱特征传播SI。通过使用Diasilane和Demane作为原材料来制备样品。在P型Si(100)底物上,将8个原子层和39 nm Si的原子层叠层10至100倍,作为重复的基本结构,然后生长了1μmSiCap层。太阳能电池的处理过程包括通过从表面上旋转的OCD溶液扩散形成N型层,并在背面和表面上沉积的电极沉积金属,并且不融合表面纹理形成,抗反应膜形成,BSF结构等,这些结构通常用于高效率。当评估制造的太阳能电池的光谱灵敏度特性时,在包含通过SI太阳能电池传输的波长中的GE点的设备中发现了灵敏度。长波长的量子效率随堆叠数量的增加而增加。因此,已经证实,GE吸收的一些光导致了发电。未来的挑战是通过优化设备结构和过程来实现超过SI太阳能电池的转化效率。

项目成果

期刊论文数量(12)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
K.Sawano, N.Usami et al.: "Planarization of SiGe virtual substrates by CMP and its application to strained Si modulation-doped structures"J.Cryst.Growth. (発表予定).
K.Sawano、N.Usami 等人:“通过 CMP 实现 SiGe 虚拟衬底的平面化及其在应变 Si 调制掺杂结构中的应用”J.Cryst.Growth。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Kutsukake, N.Usami et al.: "Fabrication of homogeneous SiGe-on-insulator through thermal diffusion of Ge on Si-on-insulator substrate"Jpn.J.Appl.Phys.. 42. L232-L234 (2003)
K.Kutsukake、N.Usami 等人:“通过 Ge 在 Si-on-insulator 衬底上的热扩散制造均质 SiGe-on-insulator”Jpn.J.Appl.Phys.. 42. L232-L234 (2003)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
K.Kutsukake, N.Usami et al.: "Fabrication of SiGe-on-insulator by rapid thermal annealing of Ge on Si-on-insulator substrate"Appl.Surf.Sci.. (発表予定).
K.Kutsukake、N.Usami 等人:“通过在绝缘体上硅衬底上快速热退火 Ge 来制造绝缘体上硅Ge”Appl.Surf.Sci..(待提交)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Y.Azuma, N.Usami et al.: "Growth of SiGe bulk crystal with uniform composition by utilizing feedback control system of the crystal-melt interface position for precise control of the growth temperature"J.Cryst.Growth. 250. 298-304 (2003)
Y.Azuma、N.Usami 等人:“利用晶体-熔体界面位置的反馈控制系统精确控制生长温度,生长具有均匀成分的 SiGe 块状晶体”J.Cryst.Growth。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
N.Usami et al.: "Strain distribution of Si thin film grown on multicrystalline-SiGe with microscopic compositional distribution"J.Appl.Phys.. 92. 7098-7101 (2002)
N.Usami 等人:“在多晶 SiGe 上生长的 Si 薄膜的应变分布,具有微观成分分布”J.Appl.Phys.. 92. 7098-7101 (2002)
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

宇佐美 徳隆其他文献

シリコンナノ結晶/酸化シリコンを複合化した導電性パッシベーション膜の検討
纳米硅晶/氧化硅复合材料导电钝化膜的研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    津幡 亮平;後藤 和泰;黒川 康良;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
斜入射スパッタリング法により作製したWO3薄膜のEC特性に対する成膜圧力の影響
沉积压力对斜入射溅射法制备WO3薄膜EC特性的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊谷 風雅;後藤 和泰;山田 繁;伊藤 貴司;宇佐美 徳隆;黒川 康良;堀越悠爾,田野裕貴,井上泰志,高井治
  • 通讯作者:
    堀越悠爾,田野裕貴,井上泰志,高井治
MPB 組成近傍Pb(Zr,Ti)O3 エピタキシャル膜のナノ双晶構造
近 MPB 成分的 Pb(Zr,Ti)O3 外延薄膜的纳米孪晶结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木口 賢紀;青柳 健大;宇佐美 徳隆;舟窪 浩;今野 豊彦
  • 通讯作者:
    今野 豊彦
Engineering Heterointerface for High-efficiency Silicon Solar Cells
高效硅太阳能电池的异质界面工程
  • DOI:
    10.1380/vss.66.86
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    後藤 和泰;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
アルカリ金属フッ化物処理によるBaSi2薄膜の電気特性制御
碱金属氟化物处理对BaSi2薄膜电性能的控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    原 康祐;Du Weijie;有元 圭介;山中 淳二;中川 清和;都甲 薫;末益 崇;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆

宇佐美 徳隆的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('宇佐美 徳隆', 18)}}的其他基金

Challenge to improve the efficiency of a droplet-based electricity generator by controlling the surface and interface and its application to solar cells that generate electricity even in the rain
通过控制表面和界面来提高基于液滴的发电机效率的挑战及其在即使在雨中也能发电的太阳能电池中的应用
  • 批准号:
    22K18807
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Creation of functional metastable silicon-based multiple element materials by controlling light elements
通过控制轻元素创建功能性亚稳态硅基多元素材料
  • 批准号:
    20H00303
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Selective area growth of GaN on glass using an AIC seed layer for micro-LED applications
使用 AIC 种子层在玻璃上选择性区域生长 GaN,用于 micro-LED 应用
  • 批准号:
    17F17366
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Research on carrier selective contact materials for monocrystalline silicon solar cells
单晶硅太阳能电池载流子选择性接触材料的研究
  • 批准号:
    17F17723
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
太陽電池用高品質シリコン多結晶インゴットの成長技術の開発
太阳能电池用高品质多晶硅锭生长技术开发
  • 批准号:
    14F04356
  • 财政年份:
    2014
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
シリコン多結晶の微細組織制御と高効率薄膜太陽電池への応用
硅多晶微结构控制及其在高效薄膜太阳能电池中的应用
  • 批准号:
    10F00058
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
絶縁体上SiGe仮想基板の形成機構の解明と高機能電子デバイスへの応用
绝缘体上SiGe虚拟衬底的形成机理及其在高性能电子器件中的应用
  • 批准号:
    15686013
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
シリコン系混晶半導体のグローバル成長制御
硅基混晶半导体的全局生长控制
  • 批准号:
    13025205
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
半導体量子ドットの構造制御と新機能素子への応用に関する研究
半导体量子点结构调控及其在新型功能器件中的应用研究
  • 批准号:
    09750007
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
超微細構造半導体の結晶成長および配列制御に関する研究
超微结构半导体晶体生长与取向控制研究
  • 批准号:
    08750007
  • 财政年份:
    1996
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

相似海外基金

レアメタルフリー超低コストCTS系薄膜太陽電池の高効率化
提高无稀有金属超低成本CTS薄膜太阳能电池的效率
  • 批准号:
    20J13953
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Novel crystal growth technology using Na-addition for developing high-efficiency In-free compound thin-film solar cells
使用Na添加的新型晶体生长技术开发高效无In化合物薄膜太阳能电池
  • 批准号:
    19H02663
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
Research on low-cost and high-efficiency pn hetero- and homojunction Cu2O-based solar cells
低成本高效率pn异质结和同质结Cu2O基太阳能电池研究
  • 批准号:
    18K04945
  • 财政年份:
    2018
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Bottom up growth of Si based nanowires on insulating substrates
绝缘基板上硅基纳米线的自下而上生长
  • 批准号:
    17H07351
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
中間バンド型Ge量子ドット太陽電池の実現に向けた量子ドットの形成・積層
量子点的形成和堆叠以实现中带Ge量子点太阳能电池
  • 批准号:
    16J01701
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 1.86万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了