太陽電池用高品質シリコン多結晶インゴットの成長技術の開発
太陽電池用高品質シリコン多結晶インゴットの成長技術の開発
批准号:
14F04356
负责人:
宇佐美 徳隆
金额:
$1.47万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-25 至 2017-03-31
中文摘要
本研究では、太陽電池用高品質多結晶インゴットの成長法として、ルツボ底部に粒状シリコンを一層のみ敷き詰めた後、その上からさらに窒化珪素離型剤をコーティングし、その後は一般的なキャスト法と同様に原料をすべて溶かしインゴットを成長する方法を提案している。この方法で目指す多結晶は、直径数mm程度の均質な微細粒と、高いランダム粒界密度を有する。ランダム粒界により結晶中の歪みが緩和されることで転位発生が抑制される。一般的な製造法と比較して、本研究提案の手法では、種結晶を使用しないため、種結晶を溶融させないための精密な温度制御は不要である。また、種結晶を介した不純物拡散の増加がないため歩留りの低下が抑えられると考えられる。さらに、核生成制御にシリコンを使用するため、インゴットへの不純物混入を避けることができる。本年度は、底に敷き詰めるシリコンの形状を直径1~数mm程度の粒状、不定形のチャンクを用いて成長を行い、その効果について検討した。その結果、いずれの結晶でも、従来技術で成長した結晶よりも転位密度が低下することが分かった。転位密度のインゴット下部から上部に向かう増加率は、チャンクを用いた場合の方が粒状シリコンと比較して大きいことがわかった。粒状シリコンおよびチャンクを用いて成長した結晶では、インゴット端部の不純物汚染領域の幅が、従来法と比較して低下した。この結果は、核生成制御にシリコンを使用することにより、インゴットへの不純物混入を避けることができるという予測を実証するものである。
英文摘要
本研究では、太陽電池用高品質多結晶インゴットの成長法として、ルツボ底部に粒状シリコンを一層のみ敷き詰めた後、その上からさらに窒化珪素離型剤をコーティングし、その後は一般的なキャスト法と同様に原料をすべて溶かしインゴットを成長する方法を提案している。この方法で目指す多結晶は、直径数mm程度の均質な微細粒と、高いランダム粒界密度を有する。ランダム粒界により結晶中の歪みが緩和されることで転位発生が抑制される。一般的な製造法と比較して、本研究提案の手法では、種結晶を使用しないため、種結晶を溶融させないための精密な温度制御は不要である。また、種結晶を介した不純物拡散の増加がないため歩留りの低下が抑えられると考えられる。さらに、核生成制御にシリコンを使用するため、インゴットへの不純物混入を避けることができる。本年度は、底に敷き詰めるシリコンの形状を直径1~数mm程度の粒状、不定形のチャンクを用いて成長を行い、その効果について検討した。その結果、いずれの結晶でも、従来技術で成長した結晶よりも転位密度が低下することが分かった。転位密度のインゴット下部から上部に向かう増加率は、チャンクを用いた場合の方が粒状シリコンと比較して大きいことがわかった。粒状シリコンおよびチャンクを用いて成長した結晶では、インゴット端部の不純物汚染領域の幅が、従来法と比較して低下した。この結果は、核生成制御にシリコンを使用することにより、インゴットへの不純物混入を避けることができるという予測を実証するものである。
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DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2016.12.066
发表时间:
2017-06
期刊:
Journal of Crystal Growth
影响因子:
1.8
作者:
[G. A. Babu;I. Takahashi;Tetsuro Muramatsu;N. Usami]
通讯作者:
G. A. Babu;I. Takahashi;Tetsuro Muramatsu;N. Usami
Low density of dislocation clusters in high performance multicrystalline silicon ingots
高性能多晶硅锭中的低位错簇密度
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[G .Anandhababu, I. Takahashi, S. Matsushima, and N. Usami]
通讯作者:
and N. Usami
Improved multicrystalline silicon ingot quality using single layer silicon beads coated with silicon nitride as seed layer
使用涂有氮化硅的单层硅珠作为晶种层提高多晶硅锭质量
DOI:
10.1016/j.jcrysgro.2016.02.021
发表时间:
2016
期刊:
Journal of Crystal Growth
影响因子:
1.8
作者:
[G .Anandhababu, I. Takahashi, S. Matsushima, and N. Usami]
通讯作者:
and N. Usami
Siビーズ核形成層によるハイパフォーマンス多結晶Siの育成
使用硅珠成核层生长高性能多晶硅
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[村松哲郎, 高橋勲, G. Anandha babu, 宇佐美徳隆]
通讯作者:
宇佐美徳隆
On the growth mechanism of a muticrystalline silicon ingot with small grains by using single layer silicon beads
单层硅珠生长小晶粒多晶硅锭的机理研究
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[T. Muramatsu, I.Takahashi, G.Anandha Babu, and N.Usami]
通讯作者:
and N.Usami
共 6 条
Challenge to improve the efficiency of a droplet-based electricity generator by controlling the surface and interface and its application to solar cells that generate electricity even in the rain
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批准号:22K18807
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项目类别:Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
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资助金额:$4.08万
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财政年份:2022
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
Creation of functional metastable silicon-based multiple element materials by controlling light elements
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批准号:20H00303
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$29.54万
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财政年份:2020
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
Selective area growth of GaN on glass using an AIC seed layer for micro-LED applications
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批准号:17F17366
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2017
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
Research on carrier selective contact materials for monocrystalline silicon solar cells
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批准号:17F17723
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.47万
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财政年份:2017
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
シリコン多結晶の微細組織制御と高効率薄膜太陽電池への応用
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批准号:10F00058
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.64万
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财政年份:2010
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
絶縁体上SiGe仮想基板の形成機構の解明と高機能電子デバイスへの応用
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批准号:15686013
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
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资助金额:$16.56万
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财政年份:2003
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
量子ドットによる歪み誘起バンドギャップ変化を利用した太陽電池用材料の創製
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批准号:14050011
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.86万
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财政年份:2002
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
シリコン系混晶半導体のグローバル成長制御
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批准号:13025205
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$1.41万
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财政年份:2001
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
半導体量子ドットの構造制御と新機能素子への応用に関する研究
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批准号:09750007
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.6万
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财政年份:1997
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
超微細構造半導体の結晶成長および配列制御に関する研究
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批准号:08750007
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.77万
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财政年份:1996
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负责人:宇佐美 徳隆
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依托单位:
海外基金