太陽電池用高品質シリコン多結晶インゴットの成長技術の開発

太阳能电池用高品质多晶硅锭生长技术开发

基本信息

  • 批准号:
    14F04356
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.47万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 财政年份:
    2014
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2014-04-25 至 2017-03-31
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究では、太陽電池用高品質多結晶インゴットの成長法として、ルツボ底部に粒状シリコンを一層のみ敷き詰めた後、その上からさらに窒化珪素離型剤をコーティングし、その後は一般的なキャスト法と同様に原料をすべて溶かしインゴットを成長する方法を提案している。この方法で目指す多結晶は、直径数mm程度の均質な微細粒と、高いランダム粒界密度を有する。ランダム粒界により結晶中の歪みが緩和されることで転位発生が抑制される。一般的な製造法と比較して、本研究提案の手法では、種結晶を使用しないため、種結晶を溶融させないための精密な温度制御は不要である。また、種結晶を介した不純物拡散の増加がないため歩留りの低下が抑えられると考えられる。さらに、核生成制御にシリコンを使用するため、インゴットへの不純物混入を避けることができる。本年度は、底に敷き詰めるシリコンの形状を直径1~数mm程度の粒状、不定形のチャンクを用いて成長を行い、その効果について検討した。その結果、いずれの結晶でも、従来技術で成長した結晶よりも転位密度が低下することが分かった。転位密度のインゴット下部から上部に向かう増加率は、チャンクを用いた場合の方が粒状シリコンと比較して大きいことがわかった。粒状シリコンおよびチャンクを用いて成長した結晶では、インゴット端部の不純物汚染領域の幅が、従来法と比較して低下した。この結果は、核生成制御にシリコンを使用することにより、インゴットへの不純物混入を避けることができるという予測を実証するものである。
This study で は, solar cells with high quality crystal イ ン ゴ ッ ト の growth method と し て, ル ツ ボ に at the bottom of the granular シ リ コ ン を layer の み apply き wall め た, そ の on か ら さ ら に smothering the stating, mold tonic を コ ー テ ィ ン グ し, そ の は after general な キ ャ ス と ト method with others に materials を す べ て soluble か し イ ン ゴ ッ ト を growth す を proposal し る method Youdaoplaceholder0 て る. The で method で refers to す polycrystalline す, diameter in mm, degree of <s:1> homogeneous な fine particles と, high <s:1> ラ ダム particle boundary density を and する. Youdaoplaceholder0, ダム, ダム grain boundaries, によ, される in crystals, <s:1> distortion みが moderates される, とで転, とで転 sites occur が inhibition される. な manufacturing method と compared commonly し て, this research proposal の で は, crystallization を using し な い た め, kinds of crystallization を melt さ せ な い た め の precision な temperature suppression は don't で あ る. ま た, kinds of crystallization を interface し た impurity content company, scattered の raised plus が な い た め step left り の low が え suppression ら れ る と exam え ら れ る. さ ら に, nuclear generating suppression に シ リ コ ン を use す る た め, イ ン ゴ ッ ト へ の impurity content with を avoid け る こ と が で き る. This year は, bottom に apply き wall め る シ リ コ ン の shape を の granular diameter 1 to several mm, amorphous の チ ャ ン ク を with い て growth line を い, そ の unseen fruit に つ い て beg し 検 た. そ の results, い ず れ の crystallization で も, 従 to grow で し た crystallization よ り も planning a low density が す る こ と が points か っ た. Lower part of planning a density の イ ン ゴ ッ ト か ら upper に to か う は rights and rate, チ ャ ン ク を with い た occasions の party が granular シ リ コ ン と compare し て big き い こ と が わ か っ た. Granular シ リ コ ン お よ び チ ャ ン ク を with い て growth し た crystallization で は, イ ン ゴ ッ ト end の impurity pollution areas の が picture, 従 と compared to method し て low し た. こ の results は, nuclear generating suppression に シ リ コ ン を use す る こ と に よ り, イ ン ゴ ッ ト へ の impurity content with を avoid け る こ と が で き る と い を う to test card be す る も の で あ る.

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Towards optimized nucleation control in multicrystalline silicon ingot for solar cells
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2016.12.066
  • 发表时间:
    2017-06
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    G. A. Babu;I. Takahashi;Tetsuro Muramatsu;N. Usami
  • 通讯作者:
    G. A. Babu;I. Takahashi;Tetsuro Muramatsu;N. Usami
Low density of dislocation clusters in high performance multicrystalline silicon ingots
高性能多晶硅锭中的低位错簇密度
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    G .Anandhababu;I. Takahashi;S. Matsushima;and N. Usami
  • 通讯作者:
    and N. Usami
Improved multicrystalline silicon ingot quality using single layer silicon beads coated with silicon nitride as seed layer
使用涂有氮化硅的单层硅珠作为晶种层提高多晶硅锭质量
  • DOI:
    10.1016/j.jcrysgro.2016.02.021
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.8
  • 作者:
    G .Anandhababu;I. Takahashi;S. Matsushima;and N. Usami
  • 通讯作者:
    and N. Usami
Siビーズ核形成層によるハイパフォーマンス多結晶Siの育成
使用硅珠成核层生长高性能多晶硅
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    村松哲郎;高橋勲;G. Anandha babu;宇佐美徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美徳隆
On the growth mechanism of a muticrystalline silicon ingot with small grains by using single layer silicon beads
单层硅珠生长小晶粒多晶硅锭的机理研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2016
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    T. Muramatsu;I.Takahashi;G.Anandha Babu;and N.Usami
  • 通讯作者:
    and N.Usami
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

宇佐美 徳隆其他文献

シリコンナノ結晶/酸化シリコンを複合化した導電性パッシベーション膜の検討
纳米硅晶/氧化硅复合材料导电钝化膜的研究
  • DOI:
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    津幡 亮平;後藤 和泰;黒川 康良;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
MPB 組成近傍Pb(Zr,Ti)O3 エピタキシャル膜のナノ双晶構造
近 MPB 成分的 Pb(Zr,Ti)O3 外延薄膜的纳米孪晶结构
  • DOI:
  • 发表时间:
    2012
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    木口 賢紀;青柳 健大;宇佐美 徳隆;舟窪 浩;今野 豊彦
  • 通讯作者:
    今野 豊彦
斜入射スパッタリング法により作製したWO3薄膜のEC特性に対する成膜圧力の影響
沉积压力对斜入射溅射法制备WO3薄膜EC特性的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    熊谷 風雅;後藤 和泰;山田 繁;伊藤 貴司;宇佐美 徳隆;黒川 康良;堀越悠爾,田野裕貴,井上泰志,高井治
  • 通讯作者:
    堀越悠爾,田野裕貴,井上泰志,高井治
アルカリ金属フッ化物処理によるBaSi2薄膜の電気特性制御
碱金属氟化物处理对BaSi2薄膜电性能的控制
  • DOI:
  • 发表时间:
    2015
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    原 康祐;Du Weijie;有元 圭介;山中 淳二;中川 清和;都甲 薫;末益 崇;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆
Engineering Heterointerface for High-efficiency Silicon Solar Cells
高效硅太阳能电池的异质界面工程
  • DOI:
    10.1380/vss.66.86
  • 发表时间:
    2023
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    後藤 和泰;宇佐美 徳隆
  • 通讯作者:
    宇佐美 徳隆

宇佐美 徳隆的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('宇佐美 徳隆', 18)}}的其他基金

Challenge to improve the efficiency of a droplet-based electricity generator by controlling the surface and interface and its application to solar cells that generate electricity even in the rain
通过控制表面和界面来提高基于液滴的发电机效率的挑战及其在即使在雨中也能发电的太阳能电池中的应用
  • 批准号:
    22K18807
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Challenging Research (Exploratory)
Creation of functional metastable silicon-based multiple element materials by controlling light elements
通过控制轻元素创建功能性亚稳态硅基多元素材料
  • 批准号:
    20H00303
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
Selective area growth of GaN on glass using an AIC seed layer for micro-LED applications
使用 AIC 种子层在玻璃上选择性区域生长 GaN,用于 micro-LED 应用
  • 批准号:
    17F17366
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Research on carrier selective contact materials for monocrystalline silicon solar cells
单晶硅太阳能电池载流子选择性接触材料的研究
  • 批准号:
    17F17723
  • 财政年份:
    2017
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
シリコン多結晶の微細組織制御と高効率薄膜太陽電池への応用
硅多晶微结构控制及其在高效薄膜太阳能电池中的应用
  • 批准号:
    10F00058
  • 财政年份:
    2010
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
絶縁体上SiGe仮想基板の形成機構の解明と高機能電子デバイスへの応用
绝缘体上SiGe虚拟衬底的形成机理及其在高性能电子器件中的应用
  • 批准号:
    15686013
  • 财政年份:
    2003
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (A)
量子ドットによる歪み誘起バンドギャップ変化を利用した太陽電池用材料の創製
利用量子点应变引起的带隙变化创建太阳能电池材料
  • 批准号:
    14050011
  • 财政年份:
    2002
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
シリコン系混晶半導体のグローバル成長制御
硅基混晶半导体的全局生长控制
  • 批准号:
    13025205
  • 财政年份:
    2001
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
半導体量子ドットの構造制御と新機能素子への応用に関する研究
半导体量子点结构调控及其在新型功能器件中的应用研究
  • 批准号:
    09750007
  • 财政年份:
    1997
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
超微細構造半導体の結晶成長および配列制御に関する研究
超微结构半导体晶体生长与取向控制研究
  • 批准号:
    08750007
  • 财政年份:
    1996
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)

相似海外基金

A general continuum theory of polycrystalline materials
多晶材料的一般连续介质理论
  • 批准号:
    EP/X037800/1
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Research Grant
Collaborative Research: Identifying Hydrogen-Density Based Laws for Plasticity in Polycrystalline Materials
合作研究:确定基于氢密度的多晶材料塑性定律
  • 批准号:
    2303108
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Standard Grant
Creation of iodide transparent polycrystalline scintillators with high light yield and low afterglow
高光产率、低余辉的碘化物透明多晶闪烁体的研制
  • 批准号:
    23K13689
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Early-Career Scientists
Development of multiscale simulation method for nano-polycrystalline thermoelectric materials
纳米多晶热电材料多尺度模拟方法的发展
  • 批准号:
    23KJ0511
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
Investigating the role of grain boundaries in local deformation using the polycrystalline with columnar grains
使用柱状晶多晶研究晶界在局部变形中的作用
  • 批准号:
    23K19178
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
SRAS++ single crystal elasticity matrix measurement in polycrystalline materials
多晶材料中的 SRAS 单晶弹性矩阵测量
  • 批准号:
    EP/X000915/1
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Research Grant
Collaborative Research: Identifying Hydrogen-Density Based Laws for Plasticity in Polycrystalline Materials
合作研究:确定基于氢密度的多晶材料塑性定律
  • 批准号:
    2303109
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Standard Grant
EAGER: Superlattice-induced polycrystalline and single-crystalline structures in conjugated polymers
EAGER:共轭聚合物中超晶格诱导的多晶和单晶结构
  • 批准号:
    2203318
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Standard Grant
DMREF/Collaborative Research: Grain Interface Functional Design to Create Damage Resistance in Polycrystalline Metallic Materials
DMREF/合作研究:晶粒界面功能设计以提高多晶金属材料的抗损伤能力
  • 批准号:
    2118673
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
CAREER: Fundamentals of Modeling Deformation Twinning in Polycrystalline Materials Driven by Diffraction-Based Micromechanical Data
职业:基于衍射的微机械数据驱动的多晶材料变形孪生建模基础
  • 批准号:
    2143808
  • 财政年份:
    2022
  • 资助金额:
    $ 1.47万
  • 项目类别:
    Continuing Grant
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了