权益分类	功能权益	普通用户	{{item.name}}会员
{{category.name}}	{{benefitItem.name}}

固体・液体原料からのマイクロプラズマプロセスの診断およびパルス発生法との融合

固体/液体原料微等离子体过程的诊断以及与脉冲发生方法的集成

基本信息

批准号：
18030018
负责人：
清水禎樹
金额：
$ 3.26万
依托单位：
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2007
资助国家：
日本
起止时间：
2007 至 2008
项目状态：
已结题

项目摘要

本研究では,大気圧マイクロプラズマによるナノ粒子合成・デポジションへの応用を検討した.研究代表者らはこれまでに,金属ワイヤーを原料に利用したナノ粒子合成,局所デポジション技術を開発し,酸化モリブデンや酸化タングステンなどの酸化物ナノ粒子,最近ではモリブデン,タングステンなどの金属粒子を合成,大気中でデポジションさせることに成功している.また,プロセスの発光分光や生成粒子観察結果を基に,ナノ粒子の生成メカニズムを明らかにしてきた.平成19年度は,この手法で合成,デポジション可能なナノ粒子種の更なる拡大を目指した研究開発を行った.金などの貴金属,スズなどの低融点材料のナノ粒子は,昨年度までの連続発生マイクロプラズマを利用する手法では不可能であったが,プラズマの発生法をパルス化したことで,これらのナノ粒子の合成が可能になった.本開発手法のパルス発生では,ミリ秒オーダーで電力のオン・オフを重畳させた基本周波数450MHzの高周波をコイルに印加し,マイクロプラズマを間歇的に発生させた.このパルス発生のための電圧波形が金ナノ粒子生成に深く影響することを見出し,様々検討を重ね,典型的な矩形波によるパルス波形を印加した場合より,約15倍の量の金ナノ粒子を合成する手法の開発に成功した.得られた金ナノ粒子は,平均粒径約8nmであり,標準偏差1.2nmという,優れた単分散性金ナノ粒子であった.また,その金ナノ粒子を所望の箇所にデポジションさせ,微小金薄膜を作製することが可能になった.上記のような金ナノ粒子以外にも,スズなどの低融点金属粒子の合成が可能になり,従来の連続発生法と併せて,大気圧マイクロプラズマで合成・デポジション可能なナノ粒子種が拡大された.

In this study, we investigated the application of particle synthesis in large particle sizes. Research representatives have been working on the development of particle synthesis techniques for the use of raw materials for metals, the development of acidification techniques for the use of acidified particles, and the recent successful synthesis of metal particles for the use of acidified particles. In addition, the emission spectrum of the light source and the observation results of the generated particles are based on the emission spectrum of the generated particles. In 2019, the research and development of particle species was carried out by means of synthesis, analysis and analysis. Gold is a precious metal, and the particles of the material with low melting point are synthesized in the past year. The development method of the invention is to generate a high frequency wave with a basic frequency of 450MHz in three seconds, and to generate an intermittent high frequency wave with a basic frequency of 450MHz. The voltage waveform of this wave generation has a deep influence on the generation of metal particles. The typical rectangular wave waveform is about 15 times the amount of metal particles. The average particle size is about 8nm, and the standard deviation is 1.2 nm. The gold particles are expected to be produced in small gold films, which are expected to be produced in small gold films. In addition to the above mentioned metal particles, the synthesis of low melting point metal particles is possible.