Development of desktop plasma CVD apparatus for wear-resistant film deposition on cutting tools for

开发用于在切削刀具上沉积耐磨膜的台式等离子体CVD装置

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A novel method to fabricate functional oxide thin film: Hybrid approach of atmospheric-pressure plasma and chemical solution deposition process
一种制备功能性氧化物薄膜的新方法：常压等离子体和化学溶液沉积工艺的混合方法
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    清水禎樹;伯田幸也
  • 通讯作者：
    伯田幸也
Development of co-sputtertring method using open-air micro-plasma jet and its application to synthesis of binary compound materials
露天微等离子体射流共溅射方法的发展及其在二元化合物材料合成中的应用
  • DOI：
  • 发表时间：
    2017
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    清水禎樹;伯田幸也
  • 通讯作者：
    伯田幸也
A simple method to synthesize nanoparticles via metal target etching using an atmospheric plasma jet and its application to fabrication of functional nanocomposite film
一种利用大气等离子体射流通过金属靶蚀刻合成纳米粒子的简单方法及其在功能纳米复合薄膜制造中的应用
  • DOI：
  • 发表时间：
    2018
  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
  • 作者：
    清水禎樹;伯田幸也;清水禎樹
  • 通讯作者：
    清水禎樹
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  • 影响因子：
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  • 作者：
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  • 通讯作者：
    Hideki Takei
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  • 发表时间：
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  • 期刊：
  • 影响因子：
    0
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  • 通讯作者：
    石川 善恵，越崎 直人
原子層 VS2 の電子状態 : μ-ARPES
原子层VS2的电子态：μ-ARPES
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  • 发表时间：
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  • 影响因子：
    0
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  • 通讯作者：
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  • 发表时间：
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  • 期刊：
  • 影响因子：
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  • 作者：
    Yoshiki Shimizu;Yoshihide Mawatari;Masato Yamamura;Hiroyuki Kage
  • 通讯作者：
    Hiroyuki Kage

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