Development of desktop plasma CVD apparatus for wear-resistant film deposition on cutting tools for
Development of desktop plasma CVD apparatus for wear-resistant film deposition on cutting tools for
开发用于在切削刀具上沉积耐磨膜的台式等离子体CVD装置
批准号：
16K06806
负责人：
Yoshiki Shimizu
金额：
$3.0万
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2019-03-31
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A novel method to fabricate functional oxide thin film: Hybrid approach of atmospheric-pressure plasma and chemical solution deposition process
一种制备功能性氧化物薄膜的新方法：常压等离子体和化学溶液沉积工艺的混合方法
一种制备功能性氧化物薄膜的新方法：常压等离子体和化学溶液沉积工艺的混合方法
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[清水禎樹, 伯田幸也]
通讯作者：
伯田幸也
Development of co-sputtertring method using open-air micro-plasma jet and its application to synthesis of binary compound materials
露天微等离子体射流共溅射方法的发展及其在二元化合物材料合成中的应用
露天微等离子体射流共溅射方法的发展及其在二元化合物材料合成中的应用
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[清水禎樹, 伯田幸也]
通讯作者：
伯田幸也
A simple method to synthesize nanoparticles via metal target etching using an atmospheric plasma jet and its application to fabrication of functional nanocomposite film
一种利用大气等离子体射流通过金属靶蚀刻合成纳米粒子的简单方法及其在功能纳米复合薄膜制造中的应用
一种利用大气等离子体射流通过金属靶蚀刻合成纳米粒子的简单方法及其在功能纳米复合薄膜制造中的应用
DOI：
--
发表时间：
2018
期刊：
影响因子：
--
作者：
[清水禎樹, 伯田幸也, 清水禎樹]
通讯作者：
清水禎樹
国内基金
海外基金
ＣＶＤ金刚石生长过程中伴生C60的研究
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批准号：59682005
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项目类别：专项基金项目
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资助金额：12.0万元
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批准年份：1996
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负责人：王豪
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依托单位：
激光ＣＶＤ纳米氮化硅的成核生长机理研究
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批准号：59402003
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项目类别：青年科学基金项目
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资助金额：7.0万元
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批准年份：1994
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负责人：王卫乡
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依托单位：