Theoretical Design of Nano-Device and Nano-Interface by First Principles Approach
采用第一性原理方法进行纳米器件和纳米界面的理论设计
基本信息
- 批准号:18063003
- 负责人:
- 金额:$ 32.38万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2009
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
In this four years project, we have obtained many important results which lead a breakthrough of nano-technologies. The primary results are as follows. (1) Proposal of new physics between different dimensional systems. (2) Guiding principles for MONOS memories with high program/erase endurance, (3) Band structure design of graphene based materials. (4) Clarification of nano-scale capacitances. (5) Theoretical proposal of breakdown of Schottky barrier limits. (6) Anomaly of effective masses in Si nano-structures. (7) Serious effect of atomic vacancies for strained Ge channels.
在这四年的项目中,我们取得了许多重要成果,导致纳米技术的突破。主要结果如下。(1)不同维度系统之间的新物理学的建议。(2)具有高编程/擦除耐久性的MONOS存储器的指导原则。(3)石墨烯基材料的能带结构设计。(4)纳米级电容的澄清。(5)肖特基势垒极限击穿的理论建议。(6)硅纳米结构中有效质量的反常。(7)原子空位对应变锗沟道的严重影响。
项目成果
期刊论文数量(116)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
Energetics of nanoscale graphene ribbons: Edge geometries and electronic structures
- DOI:10.1103/physrevb.77.041408
- 发表时间:2008-01-01
- 期刊:
- 影响因子:3.7
- 作者:Okada, Susumu
- 通讯作者:Okada, Susumu
Theoretical studies on the charge trap mechanism of MONOS type memories - Relationship between atomistic information and program/erase actions
MONOS型存储器电荷陷阱机制的理论研究-原子信息与编程/擦除动作的关系
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:A. Otake;K. Yamaguchi;K. Kobayashi;K. Shiraishi
- 通讯作者:K. Shiraishi
Atomistic origin of high-quality "novel SiON" gate dielectric
高品质“新型 SiON”栅极电介质的原子起源
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Inoke;K. Kaneko;M. Weyland;P. A. Midgley;K. Higashida and Z. Horita;K.Yamaguchi
- 通讯作者:K.Yamaguchi
Theoretical study of the time-dependent phenomena on a two-dimensional electron gas weakly coupled with a discrete level
离散能级弱耦合二维电子气瞬态现象的理论研究
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:M. Muraguchi;Y. Takada;S. Nomura;K. Shiraishi
- 通讯作者:K. Shiraishi
MONOS型メモリにおけるSiN層のN空孔型欠陥の原子構造と電子構造
MONOS存储器SiN层N空位型缺陷的原子结构和电子结构
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:T. Uesugi;Y. Inoue;Y. Takigawa;K. Higashi;山口慶太
- 通讯作者:山口慶太
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SHIRAISHI Kenji其他文献
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{{ truncateString('SHIRAISHI Kenji', 18)}}的其他基金
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$ 32.38万 - 项目类别:
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