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イミドイル金属活性種とそのフッ素化合物合成への応用

亚氨基金属活性物种及其在氟化合物合成中的应用

基本信息

批准号：
15036249
负责人：
網井秀樹
金额：
$ 1.28万
依托单位：
Kobe University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
财政年份：
2003
资助国家：
日本
起止时间：
2003 至无数据
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/en/grant/KAKENHI-PROJECT-15036249/
关键词：
有機フッ素化合物イミドイル金属種有機金属化学

项目摘要

含フッ素イミドイル金属活性種は、アシルアニオン等価体として作用する、有機フッ素化合物合成において有用な活性種である。本研究の目的は、含フッ素イミドイル金属種の構造、及びその一連の反応について調査することである。私たちはイミドイル金属種の有用な合成化学的展開を期待し、含フッ素イミドイル金属種からのC-F結合切断反応(選択的脱フッ素化反応)に照準を絞って研究を進めた。具体的にはイミドイル金属種1からのジアニオン等価体の創製である。トリフルオロ酢酸より1段階で容易に得られる塩化イミドイル2の環元的ダブルシリル化反応を行なった。塩化トリフルオロアセトイミドイル(2)に対し、金属マグネシウム/塩化トリメチルシリルを作用させると、脱塩素及び脱フッ素-シリル化反応が進行し、ジフルオロビスシリルエナミン(3)が高収率で得られた。本反応は、イミドイル金属種からのC-F結合切断が鍵反応となっている。すなわち、本反応は、低原子価マグネシウムを用いる還元的C-Cl結合切断によるイミドイルマグネシウム種4、及びイミドイルシラン5の生成、それに続くイミドイルシラン5からの還元的C-F結合切断(脱フッ素-シリル化)を経由して進行して、ジフルオロビスシリルエナミン(3)を与えたと考えられる。本反応で得られた生成物3は、アシルアニオン及びエノラート等価体として働く有用なジアニオン等価体である。各々の反応点で異なる求電子剤と反応させることにより、多様なフッ素化合物に変換することができた。

It contains trace elements, metal active compounds, metal active compounds, and organic compounds to synthesize useful active compounds. The purpose of this study is to make a variety of metal materials containing trace elements, and to make a direct response to the production of metals. The development and development of useful synthetic chemistry of metal materials, the combination of metal cutting and reverse reaction (selected de-miscification reaction), the development of metal chemical synthesis chemistry, the combination of trace elements and metal alloys (optional de-miscification reaction) has been improved in the field of synthetic chemistry. Specific materials, such as those of metal species, are used in the production of metal products. It is easy to change the quality of the environment in the first paragraph of this period. In order to improve the performance of the chemical reaction, the effect of the chemical reaction on the chemical reaction of the metal, the chemical, the temperature, the temperature and the temperature. In this paper, we use the combination of metal and metal to cut off the reaction. In this anti-microwave, low-atomic and high-energy devices, the combination of the C-Cl of each element is used to cut off the production of the first half of the circuit, and the production of the first half of the circuit, the first step is to cut off the C-color F bond of the first half of the circuit, and the other is used to cut off the C-color F bond of each element. I don't know what to do. I don't know what to do. In this paper, you can find the product 3, the product, the product and the product. In each case, the electronic devices are used to determine the chemical composition of the compound, and the chemical composition of the compound.