Synthetic methods of heteroatom-doped graphene through photoirradiation
Synthetic methods of heteroatom-doped graphene through photoirradiation
光辐照合成杂原子掺杂石墨烯的方法
批准号：
16K17519
负责人：
Utsunomiya Toru
金额：
$2.75万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2016
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2016-04-01 至 2018-03-31
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Correlation of chemical state and adhesion force to nanotribological properties of graphene oxide
化学状态和附着力与氧化石墨烯纳米摩擦学性能的相关性
化学状态和附着力与氧化石墨烯纳米摩擦学性能的相关性
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[高橋 正光, 佐々木 拓生, 山口 智広, Kunhua Yu，Yudi Tu，Toru Utsunomiya，Takashi Ichii，Hiroyuki Sugimura]
通讯作者：
Kunhua Yu，Yudi Tu，Toru Utsunomiya，Takashi Ichii，Hiroyuki Sugimura
酸化グラフェンの熱アシスト光還元
氧化石墨烯的热辅助光还原
氧化石墨烯的热辅助光还原
DOI：
--
发表时间：
2016
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Tu Yudi, Utsunomiya Toru, Ichii Takashi, Sugimura Hiroyuki, 屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之]
通讯作者：
屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
Heteroatom-doping to graphene oxide through the photo-irradiation techniques
通过光辐照技术对氧化石墨烯进行杂原子掺杂
通过光辐照技术对氧化石墨烯进行杂原子掺杂
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toru Utsunomiya, Masahiro Soga, Yudi Tu, Takashi Ichii, Hiroyuki Sugimura]
通讯作者：
Hiroyuki Sugimura
厚さ低減=還元? 酸化グラフェンの構造に関する新たな知見
厚度减薄=氧化石墨烯结构新认识？
厚度减薄=氧化石墨烯结构新认识？
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Yudi Tu, Toru Utsunomiya, Takashi Ichii, and Hiroyuki Sugimura, 屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之]
通讯作者：
屠宇迪，宇都宮徹，一井崇，杉村博之
Heteroatom-doping to graphene oxide through the photochemical treatments using vacuum ultraviolet light
通过真空紫外光光化学处理对氧化石墨烯进行杂原子掺杂
通过真空紫外光光化学处理对氧化石墨烯进行杂原子掺杂
DOI：
--
发表时间：
2017
期刊：
影响因子：
--
作者：
[Toru Utsunomiya, Masahiro Soga, Makoto Yoneda, Yudi Tu, Takashi Ichii, Hiroyuki Sugimura]
通讯作者：
Hiroyuki Sugimura
共 20 条
Chemical etching of semiconductors assisted by graphene derivatives towords nano- and micro- fabrication.
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批准号：20H02450
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项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额：$11.48万
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财政年份：2020
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负责人：Utsunomiya Toru
-
依托单位：
海外基金