Fabrication of High Dielectric Ultrathin-Film Utilizing Inactivated Si(110) Single Domain Surface and Evaluation of Its Physical Property
Fabrication of High Dielectric Ultrathin-Film Utilizing Inactivated Si(110) Single Domain Surface and Evaluation of Its Physical Property
批准号:
26870416
负责人:
Kakiuchi Takuhiro
金额:
$2.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2016-03-31
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水の解離吸着によるSi(110)-16×2清浄面の表面構造と局所価電子状態の変化
水解离吸附导致Si(110)-16×2洁净表面表面结构和局域价电子态的变化
DOI:
--
发表时间:
2014
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Quang Ngoc Phan, Takashi Uebansou, Takaaki Shimohata, Mutsumi Nakahashi, Kazuaki Mawatari and Akira Takahashi, 原田 新, 渡辺崇人,三戸太郎,大内淑代,野地澄晴, 垣内拓大,西浦伸吾,川本淳滋,長岡伸一,間瀬一彦]
通讯作者:
垣内拓大,西浦伸吾,川本淳滋,長岡伸一,間瀬一彦
X線光電子分光法、光電子-オージェ電子分光法による水素吸着Si(110)-16x2シングルドメイン表面の研究
X射线光电子能谱和光电子俄歇电子能谱研究氢吸附的Si(110)-16x2单畴表面
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[垣内拓大, 中納佑二, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者:
間瀬一彦
Si(110)-16x2シングルドメイン表面上に作製したHfおよびHfO2超薄膜の界面を選別した局所価電子状態
在 Si(110)-16x2 单畴表面上制造的 Hf 和 HfO2 超薄膜界面处选择的局部价态
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[垣内拓大, 池田恭平, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者:
間瀬一彦
低速電子回折と光電子分光法によるHf蒸着Si(110)-16x2シングルドメイン表面の研究
慢电子衍射和光电子能谱研究 Hf 沉积的 Si(110)-16x2 单畴表面
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[垣内拓大, 桂木拓磨, 中納佑二, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者:
間瀬一彦
Si(110)-16x2シングルドメイン表面上に作製したSiO2超薄膜の膜厚に依存した表面局所価電子状態の変化
Si(110)-16x2单畴表面制备的SiO2超薄膜的表面局域价电子态随膜厚的变化
DOI:
--
发表时间:
2016
期刊:
影响因子:
--
作者:
[垣内拓大, 池田恭平, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者:
間瀬一彦
共 9 条
Growth processes and low-dimensional physical properties on ultrathin high-k materials film fabricated on concave-convex Si surface by spectroscopic observation
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批准号:17K06030
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
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资助金额:$3.16万
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财政年份:2017
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负责人:Kakiuchi Takuhiro
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依托单位:
国内基金
海外基金
拓扑绝缘体新材料以及表面物性的第一性原理研究
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批准号:11374033
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项目类别:面上项目
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资助金额:76.0万元
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批准年份:2013
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负责人:冯万祥
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依托单位:
任意曲面物体表面物性及深度轮廓的激光光热检测技术研究
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批准号:60877063
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项目类别:面上项目
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资助金额:32.0万元
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批准年份:2008
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负责人:王钦华
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依托单位:
贮氢电极材料的结构及表面物性对电极寿命影响的研究
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批准号:58770054
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项目类别:面上项目
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资助金额:4.5万元
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批准年份:1987
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负责人:王启东
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依托单位: