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Fabrication of High Dielectric Ultrathin-Film Utilizing Inactivated Si(110) Single Domain Surface and Evaluation of Its Physical Property

Fabrication of High Dielectric Ultrathin-Film Utilizing Inactivated Si(110) Single Domain Surface and Evaluation of Its Physical Property
钝化Si(110)单畴表面高介电超薄膜的制备及其物性评价
批准号:
26870416
负责人:
Kakiuchi Takuhiro
金额:
$2.5万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2014
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2014-04-01 至 2016-03-31

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水の解離吸着によるSi(110)-16×2清浄面の表面構造と局所価電子状態の変化
水解离吸附导致Si(110)-16×2洁净表面表面结构和局域价电子态的变化
DOI: --
发表时间: 2014
期刊:
影响因子: --
作者: [Quang Ngoc Phan, Takashi Uebansou, Takaaki Shimohata, Mutsumi Nakahashi, Kazuaki Mawatari and Akira Takahashi, 原田 新, 渡辺崇人,三戸太郎,大内淑代,野地澄晴, 垣内拓大,西浦伸吾,川本淳滋,長岡伸一,間瀬一彦]
通讯作者: 垣内拓大,西浦伸吾,川本淳滋,長岡伸一,間瀬一彦
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DOI: --
发表时间: 2015
期刊:
影响因子: --
作者: [垣内拓大, 中納佑二, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者: 間瀬一彦
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DOI: --
发表时间: 2016
期刊:
影响因子: --
作者: [垣内拓大, 池田恭平, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者: 間瀬一彦
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DOI: --
发表时间: 2015
期刊:
影响因子: --
作者: [垣内拓大, 桂木拓磨, 中納佑二, 長岡伸一, 間瀬一彦]
通讯作者: 間瀬一彦
9
    Growth processes and low-dimensional physical properties on ultrathin high-k materials film fabricated on concave-convex Si surface by spectroscopic observation
    • 批准号:
      17K06030
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额:
      $3.16万
    • 财政年份:
      2017
    • 负责人:
      Kakiuchi Takuhiro
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    拓扑绝缘体新材料以及表面物性的第一性原理研究
    • 批准号:
      11374033
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      76.0万元
    • 批准年份:
      2013
    • 负责人:
      冯万祥
    • 依托单位:
    任意曲面物体表面物性及深度轮廓的激光光热检测技术研究
    • 批准号:
      60877063
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      32.0万元
    • 批准年份:
      2008
    • 负责人:
      王钦华
    • 依托单位:
    贮氢电极材料的结构及表面物性对电极寿命影响的研究
    • 批准号:
      58770054
    • 项目类别:
      面上项目
    • 资助金额:
      4.5万元
    • 批准年份:
      1987
    • 负责人:
      王启东
    • 依托单位: