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Amorphe Suboxide des Siliziums: Elektronische Eigenschaften und Anwendungen in der integrierten Optik

Amorphe Suboxide des Siliziums: Elektronische Eigenschaften und Anwendungen in der integrierten Optik
硅的非晶低氧化物:电子特性及其在集成光学中的应用
批准号:
5133214
负责人:
Professor Dr. Martin Stutzmann
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Research Grants
财政年份:
1998
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1997-12-31 至 2002-12-31

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项目成果

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Dieser Verlängerungsantrag dient dem wissenschaftlichen Abschluß der laufenden Arbeiten zu grundlegenden strukturellen und elektronischen Eigenschaften von Silizium-Suboxiden sowie zu deren Anwendungen in der Optoelektronik, insbesondere als Leuchtdioden auf Siliziumbasis. Die Dichte, die energetische Lage und der Ladungszustand von lokalisierten Defekten in undotierten und dotierten Suboxiden soll als Funktion des Sauerstoffgehaltes genauer untersucht werden, um so wichtige Parameter für die numerische Simulation der Diodenkennlinien zu überprüfen und abzustimmen. Die Ergebnisse sollen auch eine Abschätzung der Dotiereffizienz in den Suboxiden ermöglichen und deren Zusammenhang mit der mittleren Koordinationszahl aufklären. Licht-induzierte Metastabilitäten (skalar und vektoriell (polarisationsabhängig) sollen ebenfalls als Funktion des Sauerstoffgehaltes untersucht werden. Durch Implantation soll Erbium in Suboxide mit unterschiedlichem Sauerstoffanteil und damit Bandlücke eingebracht werden. Die Photolumineszenz- bzw. Elektrolumineszenzeigenschaften Er-dotierter Schichten und Dioden sollen als Funktion der Er-Konzentration und der Temperatur gemessen und die Er-Lumineszenzintensität bei Zimmertemperatur soll geeignet optimiert werden. Die Integration der Er-dotierten Schichten in einen Resonator mit a-Si:H/a-SiOx Bragg-Spiegeln soll eine weitere Verstärkung der Er-Emission bewirken.
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