课题基金 / 基金详情

イオン注入法による固相エピタキシャル成長現象の制御

イオン注入法による固相エピタキシャル成長現象の制御
通过离子注入控制固相外延生长现象
批准号：
X00090----455004
负责人：
石原 宏
金额：
$1.6万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1979
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1979 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00090----455004/
关键词：

项目摘要

项目成果

石原 宏的其他基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
クロマチンインスレーター複合体によるクロマチン制御機構
  • 批准号：
    20052022
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $3.65万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    石原 宏
  • 依托单位：
    Kumamoto University
有機強誘電体ゲート有機トランジスタの不揮発性メモリ応用に関する研究
  • 批准号：
    07F07111
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    2007
  • 负责人：
    石原 宏
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
強誘電体ゲートトランジスタの高信頼性化に関する研究
  • 批准号：
    06F06135
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.66万
  • 财政年份：
    2006
  • 负责人：
    石原 宏
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
制作者の体験からみた箱庭療法の「治療的要因」に関する心理臨床学的研究