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走査形電子ビーム加熱による金属シリサイド層のエピタキシャル成長

走査形電子ビーム加熱による金属シリサイド層のエピタキシャル成長
扫描电子束加热外延生长金属硅化物层
批准号：
X00090----555004
负责人：
石原 宏
金额：
$1.73万
依托单位：
Tokyo Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
财政年份：
1980
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
1980 至 --
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-X00090----555004/
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クロマチンインスレーター複合体によるクロマチン制御機構
  • 批准号：
    20052022
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
  • 资助金额：
    $3.65万
  • 财政年份：
    2008
  • 负责人：
    石原 宏
  • 依托单位：
    Kumamoto University
有機強誘電体ゲート有機トランジスタの不揮発性メモリ応用に関する研究
  • 批准号：
    07F07111
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.41万
  • 财政年份：
    2007
  • 负责人：
    石原 宏
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
強誘電体ゲートトランジスタの高信頼性化に関する研究
  • 批准号：
    06F06135
  • 项目类别：
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额：
    $1.66万
  • 财政年份：
    2006
  • 负责人：
    石原 宏
  • 依托单位：
    Tokyo Institute of Technology
制作者の体験からみた箱庭療法の「治療的要因」に関する心理臨床学的研究