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Randabschluß und Sperreigenschaften des MOS-gesteuerten, bidirektionalen Schalters, MBS

Randabschluß und Sperreigenschaften des MOS-gesteuerten, bidirektionalen Schalters, MBS
MOS 控制的双向开关 MBS 的边缘终止和锁定特性
批准号:
5183200
负责人:
Professor Dr. Anton Heuberger
金额:
$0.0万
依托单位国家:
德国
项目类别:
Priority Programmes
财政年份:
1999
资助国家:
德国
项目状态:
已结题
起止时间:
1998-12-31 至 2001-12-31

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
Ziel des Forschungsvorhabens is es,mit Hilfe der Graulithographie kontinuierlich gekrümmte Feldplattenstrukturen als Randabschlür hochsperrende Leistungsbauelemente herzustellen.该方法基于一个具有特定粒度的项目,通过三维抗蚀结构的韦尔登进行。在z.B.中,Dogeignete Ätzverfahren können beliebig gekrümmte Lackstrukturen。dielektrische Oxidschichten übertragen韦尔登。Das ISIT wird innerhalb des Projekts die Entwicklung der Grauton-Strukturerzeugung für Feldplattenanwendung sowie die Waferprozessierung durchführen und für MBS-Randabschlüsse beritstellen.新的验证方法将在与法的合作中进行。西门子公司生产的一种部件。布伦瑞克工业大学优化了Feldplattenprofile,并在为韦尔登进行的整体模拟中进行了仿真。Des weiteren wird das ISiT die Technology für die Herstellung von Grabenstrukturen als alternatives Konzept für einseitig sperrende Randabschlüsse bereitstellen.
英文摘要
Ziel des Forschungsvorhabens ist es, mit Hilfe der Graulithographie kontinuierlich gekrümmte Feldplattenstrukturen als Randabschluß für hochsperrende Leistungsbauelemente herzustellen. Das Verfahren der Grautonlithographie basiert auf einer Projektionsbelichtung mit einer speziellen Grautonmaske, mit der dreidimensionale Resiststrukturen erzeugt werden können. Durch geeignete Ätzverfahren können beliebig gekrümmte Lackstrukturen in z.B. dielektrische Oxidschichten übertragen werden. Das ISiT wird innerhalb des Projekts die Entwicklung der Grauton-Strukturerzeugung für Feldplattenanwendung sowie die Waferprozessierung durchführen und für MBS-Randabschlüsse bereitstellen. Die Verifikation dieser neuen Methode wird in Kooperation mit der Fa. Siemens an Bauelementewafer durchgeführt. Die TU Braunschweig übernimmt die Berechnung optimierter Feldplattenprofile, die am ISiT mittels Simulation in entsprechende Grautonmuster für die Lithographiemaske übersetzt werden. Des weiteren wird das ISiT die Technologie für die Herstellung von Grabenstrukturen als alternatives Konzept für einseitig sperrende Randabschlüsse bereitstellen.
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