機械と量子化学の融合によるマルチフィジックス型MEMSプロセスシミュレータの開発
機械と量子化学の融合によるマルチフィジックス型MEMSプロセスシミュレータの開発
批准号:
13J04457
负责人:
伊藤 寿
金额:
$1.73万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2013
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2013-04-01 至 2016-03-31
中文摘要
本研究の目的は、微小スケールでのMEMS加工プロセスに関して、量子化学に基づくマルチフィジックスシミュレーションを活用することで、最適プロセスの理論設計の実現することであった。平成27年度は、前年度までに開発したエッチングシミュレータの改良を行い、シリコンカーバイド(SiC)のエッチングプロセスにおける反応メカニズムの解明などを行った。エッチングプロセスの理論設計のため、連続的なラジカルの照射機能、生成分子の消滅機能等を実装したエッチングシミュレータを開発した。また、前年度に引き続き、複数種のエッチャント照射機能、並びに量子化学計算における照射ラジカルと基板を別々に計算可能にするアルゴリズムの導入に取り組み、計算精度の向上を実現した。平成27年度の研究計画の通り、開発したシミュレータを用いて、SiCのエッチングシミュレーションを行った。SF5ラジカルとO(酸素)を同時に用いたSiCエッチングシミュレーションにより、O原子がCOやCO2分子の蒸発によってC原子の脱離を促進し、エッチング速度を低下させうるC-C結合の形成を抑制するメカニズムを明らかにした。また、C-C結合の生成を抑制する最適なSF5、O(酸素)混合比を算出し、エッチング速度の面で有利なエッチング条件を示した。これは、原子・電子レベルの化学反応ダイナミクスの計算結果から、実際のプロセス設計が実現した点で有益であり、量子化学計算の新たな活用手段を示した点で意義深い。また、研究計画の通り、エッチングシミュレータを応用したCVDシミュレータの開発を行った。開発したCVDシミュレータを用い、WF6、SiH4、H2分子の3種類を用いたWxSiy薄膜の成膜プロセスに関して、生成分子の解析を行った。研究の成果は、平成27年度の研究計画の通り、学術論文、並びに海外での国際会議にて発表した。
英文摘要
本研究の目的は、微小スケールでのMEMS加工プロセスに関して、量子化学に基づくマルチフィジックスシミュレーションを活用することで、最適プロセスの理論設計の実現することであった。平成27年度は、前年度までに開発したエッチングシミュレータの改良を行い、シリコンカーバイド(SiC)のエッチングプロセスにおける反応メカニズムの解明などを行った。エッチングプロセスの理論設計のため、連続的なラジカルの照射機能、生成分子の消滅機能等を実装したエッチングシミュレータを開発した。また、前年度に引き続き、複数種のエッチャント照射機能、並びに量子化学計算における照射ラジカルと基板を別々に計算可能にするアルゴリズムの導入に取り組み、計算精度の向上を実現した。平成27年度の研究計画の通り、開発したシミュレータを用いて、SiCのエッチングシミュレーションを行った。SF5ラジカルとO(酸素)を同時に用いたSiCエッチングシミュレーションにより、O原子がCOやCO2分子の蒸発によってC原子の脱離を促進し、エッチング速度を低下させうるC-C結合の形成を抑制するメカニズムを明らかにした。また、C-C結合の生成を抑制する最適なSF5、O(酸素)混合比を算出し、エッチング速度の面で有利なエッチング条件を示した。これは、原子・電子レベルの化学反応ダイナミクスの計算結果から、実際のプロセス設計が実現した点で有益であり、量子化学計算の新たな活用手段を示した点で意義深い。また、研究計画の通り、エッチングシミュレータを応用したCVDシミュレータの開発を行った。開発したCVDシミュレータを用い、WF6、SiH4、H2分子の3種類を用いたWxSiy薄膜の成膜プロセスに関して、生成分子の解析を行った。研究の成果は、平成27年度の研究計画の通り、学術論文、並びに海外での国際会議にて発表した。
期刊论文(23)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
登录
查看更多内容
Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations of Mechanisms of SiO2 Etching Processes for CF2 and CF3 Radicals
CF2 和 CF3 自由基的 SiO2 蚀刻过程机理的紧束缚量子化学分子动力学模拟
DOI:
10.1021/jp5015252
发表时间:
2014
期刊:
The Journal of Physical Chemistry C
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Ito, Takuya Kuwahara, Kentaro Kawaguchi, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, Seiji Samukawa, Momoji Kubo]
通讯作者:
Momoji Kubo
Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulation on SiC Etching Process by SF6/O2 Plasma
SF6/O2 等离子体刻蚀 SiC 过程的紧束缚量子化学分子动力学模拟
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Ito, Takuya Kuwahara, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo]
通讯作者:
and Momoji Kubo
Theoretical Study on Plasma Etching Processes of SiO_2 by Fluorocarbon Radicals : Tight-binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Approach
氟碳自由基等离子体刻蚀SiO_2过程的理论研究:紧束缚量子化学分子动力学方法
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Ito, Takuya Kuwahara, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, Seiji Samukawa, Momoji Kubo]
通讯作者:
Momoji Kubo
Atomistic Etching Mechanisms of SiO_2 Surface by Fluorocarbon Radicals : Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulations
氟碳自由基对 SiO_2 表面的原子刻蚀机理:量子化学分子动力学模拟
DOI:
--
发表时间:
2013
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Ito, Takuya Kuwahara, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, Seiji Samukawa, Momoji Kubo]
通讯作者:
Momoji Kubo
Tight-Binding Quantum Chemical Molecular Dynamics Simulation of Etching Process for Quantum Dots Solar Cells
量子点太阳能电池蚀刻过程的紧束缚量子化学分子动力学模拟
DOI:
--
发表时间:
2015
期刊:
影响因子:
--
作者:
[Hiroshi Ito, Takuya Kuwahara, Yuji Higuchi, Nobuki Ozawa, and Momoji Kubo]
通讯作者:
and Momoji Kubo
共 20 条
クロロフィルを分解するマグネシウム脱離酵素の触媒機構の解明
-
批准号:23K05691
-
项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
-
资助金额:$2.25万
-
财政年份:2023
-
负责人:伊藤 寿
-
依托单位:
キシログルカン関連タンパク質群の酸素反応機構の解析
-
批准号:97J00745
-
项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
-
资助金额:$1.54万
-
财政年份:1998
-
负责人:伊藤 寿
-
依托单位:
国内基金
海外基金
登录
查看更多内容
导航级MEMS陀螺能量损耗及其失配机理研究
-
批准号:2026JJ50499
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2026
-
负责人:樊波
-
依托单位:
基于MEMS惯性传感器的工业机器人标定与校正方法技术开发
-
批准号:
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2026
-
负责人:王捍兵
-
依托单位:
面向MEMS重力仪的低频噪声抑制关键技术研究
-
批准号:JCZRQNB202600477
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2026
-
负责人:
-
依托单位:
用于凝血和血小板功能检测的谐振式MEMS智能传感器研发
-
批准号:
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2026
-
负责人:蔡先法
-
依托单位:
基于级联超构表面与MEMS谐振镜的光机协同机制与高频广角光束扫描技术研究
-
批准号:JCZRQNB202600599
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2026
-
负责人:
-
依托单位:
掺钪氮化铝薄膜压电MEMS水声传感器关键技术研究
-
批准号:JCZRMS202601290
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2026
-
负责人:
-
依托单位:
高可靠高精度超薄柔性硅基MEMS智能压力传感器技术研究
-
批准号:Z25A020018
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2025
-
负责人:陈颖
-
依托单位:
基于MEMS/4D打印水凝胶异质集成的感染创面智能感知-动态修复系统研发
-
批准号:
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2025
-
负责人:
-
依托单位:
基于硅基集成MEMS变压器与自适应电路协同设计的隔离电源芯片研究
-
批准号:
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:--
-
批准年份:2025
-
负责人:毛雨晴
-
依托单位:
基于ScAlN薄膜的高灵敏度压电MEMS超声
相控阵研究
-
批准号:
-
项目类别:省市级项目
-
资助金额:10.0万元
-
批准年份:2025
-
负责人:刘文娟
-
依托单位: