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Application of silicon carbonitride films to the charge trapping nonvolatile memories
碳氮化硅薄膜在电荷捕获非易失性存储器中的应用
基本信息
- 批准号：26420280
- 负责人：
- 金额：$ 3.16万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2014
- 资助国家：日本
- 起止时间：2014-04-01 至 2017-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（23）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
Experimental Extraction of the Charge Centroid in SiCN-Based Charge Trapping Memories Using the Constant-Current Carrier Injection Method
使用恒流载流子注入方法实验提取 SiCN 基电荷捕获存储器中的电荷质心
- DOI：10.1149/07532.0051ecst
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Sheikh Rashel Al Ahmed;Kaihei Kato;Kiyoteru Kobayashi
- 通讯作者：Kiyoteru Kobayashi
定電流キャリヤ注入法を用いた MONOS構造の正孔捕獲特性の評価（Ⅱ）
采用恒流载流子注入法评估MONOS结构的空穴捕获特性（二）
- DOI：
- 发表时间：2015
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：田中伸;S. R. A. Ahmed;加藤海平;福山耕作;尾崎航佑;小林清輝
- 通讯作者：小林清輝
不揮発性半導体メモリのSiNX電荷捕獲層の正孔捕獲特性
非易失性半导体存储器中SiNX电荷捕获层的空穴捕获特性
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：加藤海平;S. R. A. Ahmed;小林清輝
- 通讯作者：小林清輝
Hole trapping characteristics of SiCN-based charge trapping memories using the constant-current carrier injection method
采用恒流载流子注入法的SiCN基电荷捕获存储器的空穴捕获特性
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. R. A. Ahmed;S. Tanaka;and K. Kobayashi
- 通讯作者：and K. Kobayashi
Charge retention characteristics of charge trapping nonvolatile memories with silicon carbonitride (SiCN) dielectrics (II)
碳氮化硅 (SiCN) 电介质的电荷捕获非易失性存储器的电荷保持特性 (II)
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：S. R. A. Ahmed;F. Uehara;小林清輝
- 通讯作者：小林清輝
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Kobayashi Kiyoteru其他文献
Determination of Charge Centroid and Density of Holes Trapped in Metal-Oxide-Nitride-Oxide-Semiconductor-type Non-Volatile Memory Devices
金属-氧化物-氮化物-氧化物-半导体型非易失性存储器件中电荷质心和俘获空穴密度的测定
- DOI：
- 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Mino Hiroshi;Kobayashi Kiyoteru;Rahul Agrawal and Kiyoteru Kobayashi;R. Agrawal and K. Kobayashi;Rahul Agrawal and Kiyoteru Kobayashi;Kiyoteru Kobayashi - 通讯作者：
Kiyoteru Kobayashi
First-Principles Calculations of Energy Levels in Metal-Doped Silicon Nitride for Charge Trap Memory Applications
用于电荷陷阱存储器应用的金属掺杂氮化硅能级的第一原理计算
- DOI：
- 发表时间：
2020 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Mino Hiroshi;Kobayashi Kiyoteru;Rahul Agrawal and Kiyoteru Kobayashi;R. Agrawal and K. Kobayashi;Rahul Agrawal and Kiyoteru Kobayashi - 通讯作者：
Rahul Agrawal and Kiyoteru Kobayashi
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$ 3.16万 - 项目类别：
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26288074 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
BRIGE: Microwear Mechanism of Carbon Film under Extremely High Speed Surface Contact accounting for Phase Transition and Oxidation
BRIGE：极高速表面接触下碳膜的微磨损机制，考虑相变和氧化
- 批准号：
1228059 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Standard Grant
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- 批准号：
24360042 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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23350038 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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液体等离子体中碳膜沉积过程及其表面改性过程实时测量方法的建立及过程的阐明
- 批准号：
23654203 - 财政年份：2011
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
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- 批准号：
23246038 - 财政年份：2011
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$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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- 批准号：
21360131 - 财政年份：2009
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)