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Development of Highly-Durable Surface Textured Forming Die by In-Plane Hetero-Structuring of Diamond Like Carbon Films

Development of Highly-Durable Surface Textured Forming Die by In-Plane Hetero-Structuring of Diamond Like Carbon Films
通过类金刚石碳膜的面内异质结构开发高耐用表面纹理成型模具
批准号：
26820327
负责人：
Shimizu Tetsuhide
金额：
$2.5万
依托单位：
Tokyo Metropolitan University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份：
2014
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2014-04-01 至 2016-03-31
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-26820327/
关键词：
表面テクスチャリングドライ加工ダイヤモンド状炭素マイクロ金型ヘテロ構造耐摩耗性ボールオンディスク試験イオン化物理蒸着法マイクロ加工ダイヤモンド状炭素膜

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Development of in-situ observation system of dynamic contact interface between dies and materials during microforming operation
DOI： 10.1051/matecconf/20152109008
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [Tetsuhide Shimizu;T. Kakegawa;M. Yang]
通讯作者： Tetsuhide Shimizu;T. Kakegawa;M. Yang
Growth and mechanical properties of (Ti, Al) N films at inner wall of sub-millimeter scale small holes deposited by HIPIMS
HIPIMS沉积亚毫米级小孔内壁(Ti,Al)N薄膜的生长及力学性能
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Shimizu, Y. Teranishi, K. Morikawa, Y. Kondo, H. Nagasaka, M. Yang]
通讯作者： M. Yang
工具摩耗の原因と コーティングや機能面付与の効果
刀具磨损的原因以及涂层和功能表面的影响
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Shimizu, Y. Teranishi, K. Morikawa, Y. Kondo, H. Nagasaka, M. Yang, 清水徹英]
通讯作者： 清水徹英
熱フィラメントCVD法による窒化ホウ素膜の形成と純チタンに対する耐凝着性評価
热丝CVD法氮化硼膜的成膜及纯钛的耐附着性评价
DOI： --
发表时间： 2015
期刊：
影响因子： --
作者： [Yuichi Takeuchi, Michio Hori, Shinya Tada, Yoichi Oda, Jin Yong，安原重雄，清水徹英，楊明]
通讯作者： Jin Yong，安原重雄，清水徹英，楊明
共 17 条
    Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge
    • 批准号：
      17KK0136
    • 项目类别：
      Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
    • 资助金额：
      $9.07万
    • 财政年份：
      2018
    • 负责人：
      Shimizu Tetsuhide
    • 依托单位：
      Tokyo Metropolitan University
    Synthesis of high toughness boron carbon nitride coatings by selective ion extraction in HiPIMS plasma discharge
    • 批准号：
      16K06801
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.16万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Shimizu Tetsuhide
    • 依托单位：
      Tokyo Metropolitan University