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Synthesis of high toughness boron carbon nitride coatings by selective ion extraction in HiPIMS plasma discharge
HiPIMS 等离子体放电选择性离子萃取合成高韧性氮化硼碳涂层
基本信息
- 批准号：16K06801
- 负责人：
- 金额：$ 3.16万
- 依托单位：
- 依托单位国家：日本
- 项目类别：Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
- 财政年份：2016
- 资助国家：日本
- 起止时间：2016-04-01 至 2019-03-31
- 项目状态：已结题
- 来源：
- 关键词：
项目摘要
项目成果
期刊论文数量（0）
专著数量（0）
科研奖励数量（0）
会议论文数量（0）
专利数量（0）
In-situ observation of lubricant flow on laser textured die surface in sheet metal forming
金属板材成形中激光纹理模具表面润滑剂流动的现场观察
- DOI：10.1016/j.proeng.2017.10.983
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：Vorholt Jochen;Shimizu Tetsuhide;Kobayashi Hiroyuki;Heinrich Lukas;Flosky Hendrik;Vollertsen Frank;Yang Ming
- 通讯作者：Yang Ming
高密度イオン化PVD法によるAlTiNの残留応力制御とそのナノ積層化の効果
高密度电离PVD法控制AlTiN残余应力及其纳米分层效应
- DOI：
- 发表时间：2017
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：清水徹英;高橋秀治;小宮英敏;寺西義一;楊明
- 通讯作者：楊明
Reactive growth of HfN and TiO2 using peak current regulated high-power impulse magnetron sputtering
使用峰值电流调节高功率脉冲磁控溅射反应生长 HfN 和 TiO2
- DOI：
- 发表时间：2016
- 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：T. Shimizu;M. Villamayor;J. Keraudy;D. Lundin;U. Helmersson
- 通讯作者：U. Helmersson
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Shimizu Tetsuhide其他文献
フェムト秒レーザー粒子集積プロセスにおける 集光部近傍の伝熱解析
飞秒激光粒子集成过程中光聚焦部分附近的传热分析
- DOI：
- 发表时间：
2022 - 期刊：
- 影响因子：0
- 作者：
Hu Jun;Shimizu Tetsuhide;Yoshino Tomoaki;Shiratori Tomomi;Yang Ming;西山宏昭，沼田洸，青山昌央 - 通讯作者：
西山宏昭，沼田洸，青山昌央
Investigation on Material Deformation Characteristics of Ultrasound-assisted Microcompression with Dynamic Force Sensing Technology
动态力传感技术超声辅助微压缩材料变形特性研究
- DOI：
10.18494/sam.2019.2359 - 发表时间：
2019 - 期刊：
- 影响因子：1.2
- 作者：
Hu Jun;Shimizu Tetsuhide;Yang Ming - 通讯作者：
Yang Ming
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
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10.1541/ieejfms.142.101 - 发表时间：
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- 影响因子：0
- 作者：
Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori - 通讯作者：
Oda Akinori
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{{ truncateString('Shimizu Tetsuhide', 18)}}的其他基金
Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge
基于 HiPIMS 放电中离子传输行为了解硼碳氮化物薄膜的生长机制
- 批准号：
17KK0136 - 财政年份：2018
- 资助金额：
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Development of Highly-Durable Surface Textured Forming Die by In-Plane Hetero-Structuring of Diamond Like Carbon Films
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- 批准号：
26820327 - 财政年份：2014
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
相似国自然基金
一种基于HiPIMS电源的复杂结构陶瓷表面溅射沉积金属薄膜的机理研究
- 批准号：n/a
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- 批准号：51375475
- 批准年份：2013
- 资助金额：80.0 万元
- 项目类别：面上项目
相似海外基金
Residual stress control of boroncarbon nitride coatings by bipolar-HiPIMS
双极-HiPIMS 控制氮化硼涂层的残余应力
- 批准号：
21H01674 - 财政年份：2021
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
HiPIMS-DLC for Peri-implantitis Control
用于控制种植体周围炎的 HiPIMS-DLC
- 批准号：
20K10053 - 财政年份：2020
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge
基于 HiPIMS 放电中离子传输行为了解硼碳氮化物薄膜的生长机制
- 批准号：
17KK0136 - 财政年份：2018
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
HiPIMS-CVD Hybrid Process for Advanced Functional Coatings: Proof of concept
用于高级功能涂层的 HiPIMS-CVD 混合工艺：概念验证
- 批准号：
EP/N031717/1 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Research Grant
HiPIMS-CVD Hybrid Process for Advanced Functional Coatings: Proof of concept
用于高级功能涂层的 HiPIMS-CVD 混合工艺：概念验证
- 批准号：
EP/N031687/1 - 财政年份：2016
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Research Grant
HIPIMS-Hartstoffschichten hoher Haftfestigkeit auf Zerspanwerkzeugen für die Hartbearbeitung
HIPIMS 硬质材料层在硬加工切削刀具上具有高粘合强度
- 批准号：
215143655 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Research Grants
High Efficiency CuInSe2 Photovoltaic Modules Deposited at Low Temperature by High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS)
高功率脉冲磁控溅射 (HIPIMS) 低温沉积高效 CuInSe2 光伏组件
- 批准号：
EP/J011398/1 - 财政年份：2012
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Research Grant
Plasma-Diagnostik zur in situ Messung konventioeneller Plasmen und hoch metallionenhaltiger HIPIMS-Plasmen zum Ionenätzen und für die Abscheidung von Dünnschichten.
用于离子蚀刻和薄膜沉积的传统等离子体和含高金属离子的 HIPIMS 等离子体的原位测量的等离子体诊断。
- 批准号：
53940308 - 财政年份：2008
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
Priority Programmes
Fundamentals of High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) - Plasma Studies and Materials Synthesis
高功率脉冲磁控溅射 (HIPIMS) 基础知识 - 等离子体研究和材料合成
- 批准号：
EP/D049202/1 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
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High power impulse magnetron sputtering (HIPIMS)
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- 批准号：
345848-2007 - 财政年份：2006
- 资助金额：
$ 3.16万 - 项目类别：
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