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Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge

Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge
基于 HiPIMS 放电中离子传输行为了解硼碳氮化物薄膜的生长机制
批准号：
17KK0136
负责人：
Shimizu Tetsuhide
金额：
$9.07万
依托单位：
Tokyo Metropolitan University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
财政年份：
2018
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2018 至 2020
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-17KK0136/
关键词：
イオン化物理蒸着HiPIMS炭窒化ホウ素膜イオン質量分析イオン流束イオンエネルギー分布化学結合状態炭化窒化ホウ素t-BN相FTIRXPS運動量変換エミッシブプローブグリッドレスプローブイオンエネルギープラズマ電位イオン化率マグネトロン磁場グリッドプローブ炭化ホウ素イオンイオン輸送エネルギアナライザ型質量分析パルスプラズマ

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Experimental verification of deposition rate increase, with maintained high ionized flux fraction, by shortening the HiPIMS pulse
通过缩短 HiPIMS 脉冲，在保持高电离通量分数的情况下，沉积速率增加的实验验证
DOI： 10.1088/1361-6595/abec27
发表时间： 2021
期刊： Plasma Sources Science and Technology
影响因子： 3.8
作者： [Shimizu T, Zanska M, Villoan R P, Brenning N, Helmersson U, Lundin Daniel]
通讯作者： Lundin Daniel
Impact of magnetic field configuration in HiPIMS discharge of W in Ar atmosphere
磁场配置对 Ar 气氛中 W 的 HiPIMS 放电的影响
DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： [Yuta Yamamura, Yoshikazu Teranishi, Hidetoshi Komiya, Ming Yang, Tetsuhide Shimizu]
通讯作者： Tetsuhide Shimizu
Linkoping(リンショーピン)大学(スウェーデン)
林雪平大学（瑞典）
DOI： --
发表时间： 2019
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
第96回IUVSTA国際ワークショップ「HiPIMS Today」
第 96 届 IUVSTA 国际研讨会“HiPIMS Today”
DOI： --
发表时间： 2021
期刊：
影响因子： --
作者： []
通讯作者：
共 14 条
    Synthesis of high toughness boron carbon nitride coatings by selective ion extraction in HiPIMS plasma discharge
    • 批准号：
      16K06801
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.16万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      Shimizu Tetsuhide
    • 依托单位：
      Tokyo Metropolitan University
    Development of Highly-Durable Surface Textured Forming Die by In-Plane Hetero-Structuring of Diamond Like Carbon Films
    • 批准号：
      26820327
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额：
      $2.5万
    • 财政年份：
      2014
    • 负责人：
      Shimizu Tetsuhide
    • 依托单位：
      Tokyo Metropolitan University
    国内基金
    海外基金
    一种基于HiPIMS电源的复杂结构陶瓷表面溅射沉积金属薄膜的机理研究
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      10.0万元
    • 批准年份：
      2022
    • 负责人：
      刘向力
    • 依托单位：
      哈尔滨工业大学（深圳）
    高铝AlCrON纳米复合涂层的HiPIMS制备及其塑性变形行为研究
    • 批准号：
    • 项目类别：
      省市级项目
    • 资助金额：
      10.0万元
    • 批准年份：
      2019
    • 负责人：
      吴正涛
    • 依托单位：
      广东工业大学
    HIPIMS制备环境自适应C/MoSx复合润滑薄膜的界面结构调控及摩擦机理