Understanding the growth mechanism of boron carbon nitride films based on the ion transportation behavior in HiPIMS deischarge

基于 HiPIMS 放电中离子传输行为了解硼碳氮化物薄膜的生长机制

基本信息

  • 批准号:
    17KK0136
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 9.07万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Fund for the Promotion of Joint International Research (Fostering Joint International Research)
  • 财政年份:
    2018
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2018 至 2020
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

项目成果

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Experimental verification of deposition rate increase, with maintained high ionized flux fraction, by shortening the HiPIMS pulse
通过缩短 HiPIMS 脉冲,在保持高电离通量分数的情况下,沉积速率增加的实验验证
  • DOI:
    10.1088/1361-6595/abec27
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    3.8
  • 作者:
    Shimizu T;Zanska M;Villoan R P;Brenning N;Helmersson U;Lundin Daniel
  • 通讯作者:
    Lundin Daniel
Impact of magnetic field configuration in HiPIMS discharge of W in Ar atmosphere
磁场配置对 Ar 气氛中 W 的 HiPIMS 放电的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yuta Yamamura;Yoshikazu Teranishi;Hidetoshi Komiya;Ming Yang;Tetsuhide Shimizu
  • 通讯作者:
    Tetsuhide Shimizu
Linkoping(リンショーピン)大学(スウェーデン)
林雪平大学(瑞典)
  • DOI:
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
第96回IUVSTA国際ワークショップ「HiPIMS Today」
第 96 届 IUVSTA 国际研讨会“HiPIMS Today”
  • DOI:
  • 发表时间:
    2021
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
Effect of Peak Current Density on Inner-wall Deposition of Ti Films by High-power Impulse Magnetron Sputtering
峰值电流密度对高功率脉冲磁控溅射内壁沉积Ti薄膜的影响
  • DOI:
    10.1380/vss.63.404
  • 发表时间:
    2020
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    小宮 英敏;寺西 義一;シャア アナ;楊 明;清水 徹英
  • 通讯作者:
    清水 徹英
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In-situ observation of lubricant flow on laser textured die surface in sheet metal forming
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  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Vorholt Jochen;Shimizu Tetsuhide;Kobayashi Hiroyuki;Heinrich Lukas;Flosky Hendrik;Vollertsen Frank;Yang Ming
  • 通讯作者:
    Yang Ming
フェムト秒レーザー粒子集積プロセスにおける 集光部近傍の伝熱解析
飞秒激光粒子集成过程中光聚焦部分附近的传热分析
  • DOI:
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Hu Jun;Shimizu Tetsuhide;Yoshino Tomoaki;Shiratori Tomomi;Yang Ming;西山宏昭,沼田洸,青山昌央
  • 通讯作者:
    西山宏昭,沼田洸,青山昌央
Investigation on Material Deformation Characteristics of Ultrasound-assisted Microcompression with Dynamic Force Sensing Technology
动态力传感技术超声辅助微压缩材料变形特性研究
  • DOI:
    10.18494/sam.2019.2359
  • 发表时间:
    2019
  • 期刊:
  • 影响因子:
    1.2
  • 作者:
    Hu Jun;Shimizu Tetsuhide;Yang Ming
  • 通讯作者:
    Yang Ming
Surface Texturing of Die Surface toward the Realization of Dry Forming Operation
模具表面的表面纹理化以实现干式成型操作
  • DOI:
    10.18914/tribologist.63.07_474
  • 发表时间:
    2018
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Ekeroth Sebastian;Ikeda Shuga;Boyd Robert D.;Shimizu Tetsuhide;Helmersson Ulf;清水 徹英
  • 通讯作者:
    清水 徹英
Substrate Surrounding Type Magnetron Sputtering Equipment Comparison of HiPIMS and DCMS Drive
基板环绕式磁控溅射设备 HiPIMS 与 DCMS 驱动器比较
  • DOI:
    10.1541/ieejfms.142.101
  • 发表时间:
    2022
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Suematsu Kota;Kousaka Hiroyuki;Furuki Tatsuya;Shimizu Tetsuhide;Ohta Takayuki;Oda Akinori
  • 通讯作者:
    Oda Akinori

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    2020
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    16K06801
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    2016
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  • 批准号:
    EP/N031687/1
  • 财政年份:
    2016
  • 资助金额:
    $ 9.07万
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    Research Grant
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  • 批准号:
    215143655
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Research Grants
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  • 批准号:
    EP/J011398/1
  • 财政年份:
    2012
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Research Grant
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  • 批准号:
    53940308
  • 财政年份:
    2008
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Priority Programmes
Fundamentals of High Power Impulse Magnetron Sputtering (HIPIMS) - Plasma Studies and Materials Synthesis
高功率脉冲磁控溅射 (HIPIMS) 基础知识 - 等离子体研究和材料合成
  • 批准号:
    EP/D049202/1
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Research Grant
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  • 批准号:
    345848-2007
  • 财政年份:
    2006
  • 资助金额:
    $ 9.07万
  • 项目类别:
    Research Tools and Instruments - Category 1 (<$150,000)
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