Magnetische Nanostrukturen

在这两种情况下，我们可以看到物理上的铁磁特性，以及我们在点阵角中的特性。Vorossetzung is Herstellung von solchen Dot-arrades Aus Teilchen，Deren AbMessungen and Abstände bis in den Bereich Under 10 nm Reichen Sollen，in Dm Elektronische Gröeneffekte and Indirekte Koppengseffekte wirksam den.Zwei Verfahren Sind Dabe Vorgeseen，bzw.Sollen entwickelt Well den：-ber Maskentechnologie soll Mit Hilfe der ElektronenstrahlFlexie ein Gröenbereich bis zu 20-30 nm erschlossen Well den。这是一种灵活的方法，它可以使单链的蛋白质、蛋白质和蛋白质发生3 nm的错误。从德国的铁磁性点阵，到德国的铁磁性点阵，不同的是，这些铁磁性点阵的各向异性和各向异性都在Hinblick Hinblauf磁体的各向异性和各向异性上。

In diesem Forschungsvorhaben sollen Untersuchungen zu grundlegenden, physikalischen Fragen zu magnetischen Eigenschaften kleiner ferromagnetischer Teilchen und der Wechselwirkung solcher Teilchen in einem Dot-Array angestellt werden. Voraussetzung ist dabei die Herstellung von solchen Dot-Arrays aus Teilchen, deren Abmessungen und Abstände bis in den Bereich unter 10 nm reichen sollen, in dem elektronische Größeneffekte und indirekte Kopplungseffekte wirksam werden. Zwei Verfahren sind dabei vorgesehen, bzw. sollen entwickelt werden:- Über Maskentechnologie soll mit Hilfe der Elektronenstrahllithographie ein Größenbereich bis zu 20-30 nm erschlossen werden. Diese Technik zeichnet sich vor allem durch ihre flexiblen Einsatzmöglichkeiten aus.- Mit Masken aus monolagigen, selbstorganisierten ProteinSchichten sollen laterale Strukturbreiten bis zu 3 nm erreicht werden. Diese selbstorganisierenden Schichten bilden regelmäßig ordnende Gitterstrukturen, die sich auf die ferromagnetischen Dot-Arrays übertragen lassen.Untersucht werden sollen die magnetischen Eigenschaften der einzelnen Teilchen und der Arrays vor allem im Hinblick auf magnetische Anisotropien und Kopplungen und auf den Einfluß elektronischer Größeneffekten bei sehr kleinen Teilchen.