^<18>Fのオフビ-ム反跳反応と標識合成への応用

^<18>F的离束反冲反应及其在标记合成中的应用

基本信息

  • 批准号:
    01540501
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.15万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1989
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1989 至 无数据
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

^<18>Fの反跳反応を利用する新しい^<18>Fの標識化法を開発するための基礎的研究を行った。方法は,サイクロトロンからのビ-ム照射に伴う強い放射線分解作用を抑えるため、反応基質をコ-ティングした円筒状のアルミホイルを照射容器の内壁に挿入し、高純度ネオンガスを満たして重陽子を照射した。モデル反応基質とて安息香酸を選び、照射終了後^<2a>Ne(d,α)^<18>F反応による反跳^<18>F原子を捕捉したアルミホイルを照射容器から取出し、アセトニトリルでアルミホイルから安息香酸と共に^<18>F-反応生成物を回収した。実験パラメ-タとしてネオンガス圧力、安息香酸コ-ティング量、重陽子入射部位とアルミホイルとの距離を変えて^<18>Fの標識率を求めた。^<18>F-反応生成物として^<18>F-フルオロベンゼン及び^<18>Fフルオロ安息香酸が高速液体クロマトグラフィ分析で同定された。ネオン圧一定の下で安息香酸の量を変化させ、2.2mg/cm^2で^<18>Fの回収率が一定の約40%に達した。一方安息香酸量一定の下では、ネオン圧力を徐々に増加するとアセトニトリルに回収される^<18>Fの割合も増加し、20kg/cm^2で最高回収率となり^<18>F-フルオロ安息香酸と^<18>F-フルオロベンゼンの生成率は、各々7%と13%であった。これ以上のネオン圧では両者の生成率は逆に減少し、同様な効果が安息香酸をコ-ティングしたアルミホイルの内径を変化させることでも観測された。タ-ゲットとして使用したネオンはエネルギ-モデレ-タとしても作用しその圧力やアルミホイル内径と^<18>F-標識生成物との関係から、生成した^<18>F-標識物は反跳^<18>F原子が充分にその余剰のエネルギ-を失う前に反応したホットアトム反応生成物であることを強く示唆した。本研究で得られた知見は、オフビ-ム反応による^<18>F-標識化合物の直接合成法の開発の可能性を示すものと考えられる。
A <18>new method of identification was developed to study the <18>basis of the anti-jump method. The method is to irradiate the inner wall of the irradiation container with high purity radiation, and to suppress the decomposition of strong radiation. After irradiation, <2a>Ne(d,α) <18><18>F atoms are trapped in the irradiation container, and benzoic acid <18>is recovered. For example, if you want to change the color of the film, you can change the color of the film<18>. <18>F-trans<18>-<18>benzoic acid is a high-speed liquid and its analytical properties are determined. Under <18>certain pressure, the amount of benzoic acid was changed, and the recovery rate of F reached about 40% at 2.2mg/cm^2. The <18>maximum recovery <18>rate of benzoic acid was <18>7% and 13% respectively when the amount of benzoic acid was constant. The production rate of benzoic acid decreases with the increase of production pressure. The <18>relationship between the two is that the F-identifier is not bound to the atom, and the F-identifier is bound to the atom. The <18>F-identifier is bound to the atom, and the F-identifier is bound to the atom<18>. The results of this study <18>demonstrate the possibility of developing direct synthesis of F-labeled compounds.

项目成果

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