Nachweis durch hochauflösende Spektroskopie reaktiver, kurzlebiger, siliciumhaltiger Zwischenstufen in der Gasphase mit Relevanz für Abscheidungsprozesse fester Materialien

通过高分辨率光谱检测气相中与固体材料沉积过程相关的反应性、短寿命、含硅中间体

• 批准号: 5234932
• 负责人: Professor Dr. Peter Jutzi
• 金额: --
• 依托单位: Arbeitsgruppe Anorganische Chemie
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Priority Programmes
• 财政年份: 1995
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1994-12-31 至 2001-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5234932?language=en
• 关键词: Nachweis; durch; hochaufl; sende; Spektroskopie

Kurzlebige Zwischenstufen mit Silicium-Chalkogen-Mehrfachbindungen sind wichtig für anwendungsorientierte Technologien, z. B. die Herstellung von SiO-Filmen durch CVD oder das Ätzen von SiO2-Schichten, sowie für die Grundlagenforschung. Im Vorhaben sollen kurzlebige Moleküle mit Si=O- und Si=S-Doppelbindungen erzeugt werden, nachdem nachgewiesen wurde, daß sich H2SiO und F2SiS durch Pyrolyse der Disilyl-Derivate (H3Si)2O bzw. (F3Si)2S erzeugen lassen. Die in freier Form bisher unbekannten Moleküle F2SiS, F2SiO und H2SiS sollen in der Gasphase mit Hilfe der MMW- und IR-Spektroskopie untersucht werden. Diese kurzlebigen Spezies sollen zum Aufbau höhermolekularer Systeme mit SiOSi- und SiSSi-Bindungen genutzt werden, wobei die Gasphasen-Co-Thermolyse der Disilylchalkogenide mit geeigneten Abfangreagentien sowie in kondensierter Phase mit Donoren durchgeführt werden soll.

含硅-白垩基-金属结合剂的硅树脂材料是一种面向未来的技术。B。CVD法制备SiO2薄膜或SiO2-Schichten薄膜的方法，可用于基础研究。用硅氧键和硅氧键的双韦尔登键合成了硅氧键和硅氧键的分子，然后通过二硅基衍生物（H_3Si）_2 O的热分解得到了H_2SiO和F_2Si_S。（F3 Si）2S的合成。F2 SiS、F2 SiO和H2SiS分子在气相中以自由形式存在，并借助MMW和IR光谱进行分析。该化合物可用于SiOSi-和SiSSi-键合的高分子聚合物体系的制备，其制备方法是将含双硅烷基硫醚的气相色谱法与含氮化合物的液相色谱法相结合。