ヘリウム準安定原子衝突による吸着分子の最外結合・反結合電子軌道占有状態の検出

通过氦亚稳原子碰撞检测吸附分子的最外层成键和反键电子轨道占据状态

基本信息

  • 批准号:
    02650012
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 1.28万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
  • 财政年份:
    1990
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    1990 至 1992
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

本研究は,半導体表面上の単純分子吸着系に準安定原子脱励起分光(MDS)を適用して,吸着分子の電子軌道の立体的描像を得ることを目的にしている。本年度は,昨年からの積み残しである速度制御可能な新しいタイプの準安定原子ビ-ム源の製作と既設のMDS装置を用いた測定,の両面から研究を進めた。1.速度可変ヘリウム準安定原子源の開発:1〜2keVの一次He^+ビ-ムを約100eVまで減速してアルカリ金属原子と衝突させることにより,アルカルs準位からの電子移行でHe^*準安定原子を作る。ここで減速電圧を変化させることにより,生成He^*のエネルギ-を制御した。高効率の三重項He^*生成が期待できるHe -Na衝突系を選んだ結果,He^+→He^*変換効率が約10^<-4>でHe^*フラックス約10 ^8s_<-1>cm^<-2>を得た。これをSi(100)上のK吸着層に照射した結果,MDS-K4sピ-ク位置が熱速度He^*の場合よりも約0.5eV高エネルギ-側へシフトした。He^*-K間反発ポテンシャルの壁に当たったところでオ-ジェ脱励起が起きているものと思われる。2.Cs/Si(100)表面上の酸素吸着状態のMDSーUPS同時測定による研究:MDSにより02pピ-ク位置がUPSによるものより約-1.0eVシフトすること,両者のモニタ-領域の違いを反映したスペクトル形状などから,下地Si原子間のブリッジサイトに侵入した酸素Csと結合した酸素が共存することを見いだした。
In this study, quasi-stable atomic desorption spectroscopy (MDS) is applied to the adsorption of pure molecules on semiconductor surfaces, and three-dimensional imaging of electron orbitals of adsorbed molecules is also studied. This year, we have made progress in the study of speed control, the production of quasi-stable atomic sources, and the use of existing MDS devices. 1. Development of quasi-stable atomic source with variable velocity:1 ~ 2 keV primary He^+ v-1 ~ 100eV deceleration of electron migration from quasi-stable He^+ atom to quasi-stable He^+ atom. The deceleration voltage is changed to generate He^*. As a result, the conversion rate of He^+→He^* is about 10^, and He^<-4>* is about 10 ^s_<-1>cm<-2>. As a result of irradiation of the K adsorption layer on Si(100), MDS-K4s-position and thermal velocity are about 0.5eV. He is a member of the National Committee of the Chinese People's Political Consultative Conference. 2. Study on simultaneous determination of MDS UPS of adsorption state of Cs/Si(100) surface:MDS is about-1.0 eV in position of UPS, and the position of MDS is about-1.0 eV in position of UPS, and the position of MDS is about-1.0 eV in position of UPS.

项目成果

期刊论文数量(4)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
S.Nishigaki(西垣 敏): "Potassium and Oxygen Adsorption on Si(100):Local Charge States Probed with Helium Metastables." Vacuum. 41. 632-634 (1990)
S.Nishigaki:“Si(100) 上的钾和氧吸附:用氦亚稳态探测局部电荷态。”41. 632-634 (1990)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
S.Nishigaki: "Charge Transfer and Promoted Oxygen Uptake at Alkalated Si(100)Surfaces Studied by Auger Deexcitation of Helium Metastables." surface science.
S.Nishigaki:“通过氦亚稳态的俄歇去激发研究了碱化 Si(100) 表面的电荷转移和促进氧吸收。”
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
S.Nishigaki: "Potassium and Oxygen Adsorption Si(100):Local Charge States Probed with Helium Metastables," Vacuum. 41. 632-634 (1990)
S.Nishigaki:“钾和氧吸附 Si(100):用氦亚稳态探测局部电荷态”,真空。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
S.Nishigaki(西垣 敏): "Charge Transfer and Promoted Oxygen Uptake at Alkalated Si(100)Surfaces Studied by Auger Deexcitation of Helium Metastables," surface science. 242. 358-364 (1991)
S.Nishigaki:“通过氦亚稳态的俄歇去激发研究碱化 Si(100) 表面的电荷转移和促进氧吸收”,表面科学 242. 358-364 (1991)。
  • DOI:
  • 发表时间:
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ journalArticles.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ monograph.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ sciAawards.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ conferencePapers.updateTime }}

{{ item.title }}
  • 作者:
    {{ item.author }}

数据更新时间:{{ patent.updateTime }}

野口 精一郎其他文献

野口 精一郎的其他文献

{{ item.title }}
{{ item.translation_title }}
  • DOI:
    {{ item.doi }}
  • 发表时间:
    {{ item.publish_year }}
  • 期刊:
  • 影响因子:
    {{ item.factor }}
  • 作者:
    {{ item.authors }}
  • 通讯作者:
    {{ item.author }}

{{ truncateString('野口 精一郎', 18)}}的其他基金

酸化物超伝導体における結晶粒界の制御と評価
氧化物超导体晶界的控制和评估
  • 批准号:
    01644519
  • 财政年份:
    1989
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
金属超微粒子における超伝導トンネル効果の研究
超细金属颗粒超导隧道效应研究
  • 批准号:
    56103008
  • 财政年份:
    1981
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Special Project Research
金属超微粒子における超伝導トンネル効果の研究
超细金属颗粒超导隧道效应研究
  • 批准号:
    X00040----520710
  • 财政年份:
    1980
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Special Project Research
金属超微粒子における超伝導トンネル効果の研究
超细金属颗粒超导隧道效应研究
  • 批准号:
    X00040----421610
  • 财政年份:
    1979
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Special Project Research
低温比熱測定による超電導金属間化合物の研究
超导金属间化合物的低温比热测量研究
  • 批准号:
    X00080----146130
  • 财政年份:
    1976
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (B)
液体金属・合金の電子状態に関する研究
液态金属及合金电子态研究
  • 批准号:
    X00070----742035
  • 财政年份:
    1972
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (A)

相似海外基金

酸化物半導体表面プラズモンの電気的制御によるウインドウクロミックの創成
通过氧化物半导体表面等离子体的电控制创建窗口变色
  • 批准号:
    24K00917
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
二次元材料アシストエッチングによる半導体表面構造制御
通过二维材料辅助蚀刻控制半导体表面结构
  • 批准号:
    24K01179
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
酸水素化物半導体表面の化学活性に関する基礎的検討
氢氧化物半导体表面化学活性的基础研究
  • 批准号:
    24K08573
  • 财政年份:
    2024
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
半導体表面加工による小型熱放射標準の開発
利用半导体表面处理开发紧凑型热辐射标准
  • 批准号:
    23K19206
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Research Activity Start-up
超低振動表面増強ラマン散乱を利用した半導体表面における高感度な分子認識
使用超低振动表面增强拉曼散射对半导体表面进行高灵敏度分子识别
  • 批准号:
    22KF0170
  • 财政年份:
    2023
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
液体プロセスによる新規低温半導体表面及びカットエッジパッシベーション
使用液体工艺的新型低温半导体表面和切割边缘钝化
  • 批准号:
    21K04134
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
金属(Hf・Zr)/Si半導体表面界面局所構造中シリサイドの酸化反応理解と制御
了解和控制金属(Hf/Zr)/Si半导体表面界面局部结构中硅化物的氧化反应
  • 批准号:
    21K04882
  • 财政年份:
    2021
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
酸化グラフェンを触媒として用いた新規半導体表面加工技術の開発
以氧化石墨烯为催化剂开发新型半导体表面加工技术
  • 批准号:
    20J20411
  • 财政年份:
    2020
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
化合物半導体表面上擬一次元鎖のスピン偏極電子構造
化合物半导体表面准一维链的自旋极化电子结构
  • 批准号:
    19J21516
  • 财政年份:
    2019
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
半導体表面電子状態におけるスピン軌道相互作用
半导体表面电子态中的自旋轨道相互作用
  • 批准号:
    11J00217
  • 财政年份:
    2011
  • 资助金额:
    $ 1.28万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
{{ showInfoDetail.title }}

作者:{{ showInfoDetail.author }}

知道了