Aktive Nanostrukturierung selbstaggregierender Monolagen mittels elektronengestützter Verfahren zur Herstellung von Templaten für lateral definierte elektrochemische Prozesse

使用电子辅助过程对自聚集单分子层进行活性纳米结构，为横向定义的电化学过程生成模板

• 批准号: 5245140
• 负责人: Professor Dr. Armin Gölzhäuser
• 金额: --
• 依托单位: Arbeitsgruppe Physik Supramolekularer Systeme und Oberflächen
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Priority Programmes
• 财政年份: 2000
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1999-12-31 至 2003-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5245140?language=en
• 关键词: Aktive; Nanostrukturierung; selbstaggregierender; Monolagen; mittels

Selbstaggregierende Monolagen (SAMs) amphiphiler organischer Moleküle sollen mittels Elektronen-Projektionslithographie (EPL) strukturiert werden. Bei dieser Technik wird der SAM durch eine Lochmaske mit niederenergetischen Elektronen bestrahlt und dadurch lokal modifiziert. Derzeit können mit EPL 100 nm große Strukturen über Bereiche von 50 µm x 50 µm hergestellt werden. Im Rahmen des Projektes soll die EPL-Technologie so weiterentwickelt werden, daß sie zur routinemäßigen Strukturierung verschiedener Materialien eingesetzt werden kann. Die routinemäßige Maskenherstellung geschieht mittels Elektronenstrahllithographie. Im Rahmen von Kooperationen mit Prof. G. Schmahl (Uni Göttingen) und Dr. K. Edinger (Maryland) wird eine Verkleinerung der Maskenöffnungen auf 30 nm und die Vergrößerung der strukturierten Flächen auf einige mm2 angestrebt. Kolloidmonoschichten und poröse Membranen sollen auf ihre Verwendbarkeit als EPL-Masken getestet werden. Aufgrund zunehmender Nachfrage aus dem Schwerpunkt soll das beantragte Elektronenstrahllithographie-System auch zur Herstellung von Masterstrukturen für Micro Contact Printing und zur direkten SAM-Strukturierung genutzt werden. Die mittels dieser Verfahren hergestellten SAM-Nanostrukturen werden interessierten Gruppen zur Verfügung gestellt, um darauf elektrochemische Abscheidungen durchzuführen.

自组装单体（SAMs）两亲分子有机物分子组装电子探针（EPL）结构韦尔登。这种技术将通过一个带有无源电子器件的Lochmaske来实现SAM，并进行局部修改。Derzeit können mit EPL 100 nm große Strukturen über Bereiche von 50 µm x 50 µm hergestellt韦尔登。在EPL技术的项目中，由于结构的复杂性，材料韦尔登，因此可以进行韦尔登。电子射线照相术中的屏蔽层。我是Rahmen von Kooperation与G. Schmahl（Uni Göttingen）und Dr. K. Edinger（马里兰州）将在30 nm处进行一次掩模检查，并在一个mm 2的角度处进行结构面检查。在EPL-Masken测试时，可使用单芯和多孔膜。通过对微接触印刷主结构和直接自组装结构的改进，使印刷机的电子照相系统能够从印刷机的施波孔中分离出来，从而实现韦尔登印刷。这些中间层将SAM-纳米结构韦尔登用于测试组，以测试电化学吸收。