ディスコデルモライドの立体選択的合成

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本研究は、最近単離構造決定された非常に強い免疫抑制活性を有する新しいタイプの免疫抑制剤と考えられているディスコデルモライドの全合成を行うことを目的とする。その基本的な合成戦略は、当研究室で開発したトリメチルアルミニウムによるγ、δ-エポキシアクリラートへの立体選択的アルキル化反応によりポリプロピオナ-ト構造を立体選択的に構築することである。今回は、4連続不斉中心を含むディスコデルモライドのC1〜C7位までのセグメントの合成を行いこれを効率的に合成した。以下にその合成法を示す。出発原料に1,3-プロパンジオールの片側の水素基をベンジルエーテル化したものを用い、まず水酸基をMoffatt-Swern酸化し、続いてEmmons-Horner反応を行いトランス-α、β-不飽和エステルを得た。エステルをDIBAL-H還元し、得られたアリルアルコールを不斉Sharpless酸化し光学活性のエポキシアルコールを得た。この水酸基を再びMoffatt-Swern酸化、Emmons-Horner反応しethyl(E)-(4R,5R)-7-benzyloxy-4,5-epoxy-2-heptenoateを得た。これを10当量のトリメチルアルミニウムと6当量の水で処理すると100%の位置および立体選択性でメチル化反応が進行した。これをベンズアルデヒドとt-ブトキシカリウムで分子内アセタ-ク化し3位の酸素官能基を立体選択的に導入した。これを70%酢酸水溶液で加熱処理することにより脱アセタール化とラクトン化が一挙に進行した。このラクトンをLDAとヨウ化メチルでメチル化し、必要な4連続不斉中心を全て構築した。ここで水素基をシリルエーテル化し、ベンジルエーテルを脱保護して生じたアルコールをPCCで酸化してアルデヒドとしてC1〜C7までのセグメント合成を完了した。現在同様の手法を用いてC8〜C13、C14〜C24セグメントの合成を行っている。