新規レドックス活性スピロ化合物より生成するπラジカルイオンの性質
新規レドックス活性スピロ化合物より生成するπラジカルイオンの性質
批准号:
11133257
负责人:
杉本 豊成
金额:
$1.41万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
财政年份:
1999
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
1999 至 --
中文摘要
レドックス活性なπ共役系、とくにテトラチアフルバレニル基を有するスピロ化合物は、単一成分系有機合成金属、伝導電子と局在スピンとが共存・相互作用する有機磁性金属や分子スイッチングを構築する上での有望な構成分子として期待される。本年度は、ジエチルチオテトラチアフルバレニル(DET-TTF)-ジセレノラートや-ジチオラート基で置換した、スピロ中心原子がNiやVである中性およびモノアニオン塩の合成を行い、これらのレドックス性質、結晶構造および電気伝導・磁気的性質について検討した。ビス(DET-TTF-ジセレノラートあるいは・ジチオラート)ニッケルのモノアニオンの(n-Hex)_4N^+塩が暗渇色結晶として単離され、これらの結晶構造解析が行われた。これらの(n-Hex)_4N^+塩の固体ESRおよびSQUID測定の結果より、ニッケル原子はNi(III)(S=1/2)の状態にあるが、室温の電気伝導度(σ_<RT>)は10^<-10> S cm^<-1>以下で絶縁体であった。一方、中性ニッケル錯体(1、2)の圧縮ペッレトのσ_<RT>はそれぞれ2.8, 0.05 S cm^<-1>であり、とくに1の半導体の活性化エネルギーは0.014eVと極めて小さかった。従って、1の単結晶は最初の単一成分系有機合成金属になる可能性が大きい。トリス(DET-TTF-ジチオラート)バナジウムのモノアニオンのNet_4^+塩(Net_4^+・3)が黒色柱状結晶として単離され、その結晶構造が決定された。このNet_4^+塩はESR不活性で絶縁体であるので、V(V)(S=0)の錯体と考えらる。対応する中世錯体(3)の圧縮ペレットのσ_<RT>は約10^<-4>S cm^<-1>と余り高くはないが、絶縁体であるトリス(エチレンジチオラート)バナジウム中性錯体と比較すると著しく電気伝導性が向上した。3に含まれる不対電子が優先的にDET-TTF-ジチオラート配位子上に存在するためと考えられる。
英文摘要
レドックス活性なπ共役系、とくにテトラチアフルバレニル基を有するスピロ化合物は、単一成分系有機合成金属、伝導電子と局在スピンとが共存・相互作用する有機磁性金属や分子スイッチングを構築する上での有望な構成分子として期待される。本年度は、ジエチルチオテトラチアフルバレニル(DET-TTF)-ジセレノラートや-ジチオラート基で置換した、スピロ中心原子がNiやVである中性およびモノアニオン塩の合成を行い、これらのレドックス性質、結晶構造および電気伝導・磁気的性質について検討した。ビス(DET-TTF-ジセレノラートあるいは・ジチオラート)ニッケルのモノアニオンの(n-Hex)_4N^+塩が暗渇色結晶として単離され、これらの結晶構造解析が行われた。これらの(n-Hex)_4N^+塩の固体ESRおよびSQUID測定の結果より、ニッケル原子はNi(III)(S=1/2)の状態にあるが、室温の電気伝導度(σ_<RT>)は10^<-10> S cm^<-1>以下で絶縁体であった。一方、中性ニッケル錯体(1、2)の圧縮ペッレトのσ_<RT>はそれぞれ2.8, 0.05 S cm^<-1>であり、とくに1の半導体の活性化エネルギーは0.014eVと極めて小さかった。従って、1の単結晶は最初の単一成分系有機合成金属になる可能性が大きい。トリス(DET-TTF-ジチオラート)バナジウムのモノアニオンのNet_4^+塩(Net_4^+・3)が黒色柱状結晶として単離され、その結晶構造が決定された。このNet_4^+塩はESR不活性で絶縁体であるので、V(V)(S=0)の錯体と考えらる。対応する中世錯体(3)の圧縮ペレットのσ_<RT>は約10^<-4>S cm^<-1>と余り高くはないが、絶縁体であるトリス(エチレンジチオラート)バナジウム中性錯体と比較すると著しく電気伝導性が向上した。3に含まれる不対電子が優先的にDET-TTF-ジチオラート配位子上に存在するためと考えられる。
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M. Iwamatsu et al.: "Synthesis and Electrical Conducting Properties of Unsymmetrical Spiro Compounds Bearing a Tetrathiafulvalenyl Group"Synthetic Metals. 102. 1617-1618 (1999)
M. Iwamatsu 等人:“带有四硫富瓦烯基团的不对称螺环化合物的合成和导电性能”合成金属。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
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作者:
[]
通讯作者:
M. Iwamatsu et al.: "Tetrathiafulvaleno-quinonemethides and-thioquinonemethides"Chemistry Letters. 329-330 (1999)
M. Iwamatsu 等人:“四硫富瓦烯-醌甲基化物和-硫代醌甲基化物”化学快报。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K. Ueda et al.: "Bis(diethylthiotetrathiafulvalenydiselenolato) Nickel Complex: A Superior Organic Conductor to the Corresponding Dithiolato Derivative"Joumal of Materials Chemistry. 9. 2979-2983 (1999)
K. Ueda 等人:“双(二乙基硫代四硫富瓦烯二硒醇)镍络合物:相对于相应二硫醇衍生物的优异有机导体”材料化学杂志。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K. Ueda et al.: "Synthesis and Electrical Conducting and Magnetic Properties of Neutral Bis(Tetrathiafulvalenyldithiolato) Cobalt Complexes"Synthetic Metals. 103. 1976-1977 (1999)
K. Ueda 等人:“中性双(四硫富瓦烯基二硫醇)钴配合物的合成及其导电和磁性”合成金属。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
K. Ueda et al.: "Bis(thioxo-diethylthiotetrathiafulvalenyl)vlidene, a New Donor Molecule with High Electron-Donating Ability Comparable to Tetrathiafulvalenc"Chemistry Letters. 987-988 (1999)
K. Ueda 等人:“双(硫代-二乙基硫代四硫富瓦烯基)亚乙烯基,一种新的供体分子,具有与四硫富瓦伦相当的高电子给体能力”化学快报。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
室温強磁性現象を示すTCNQ塩の磁気秩序機構の解明と磁気特性の改質
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批准号:11224209
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (B)
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资助金额:$25.54万
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财政年份:1999
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
新規レドックス活性スピロ化合物より生成するπラジカルイオンの性質
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批准号:10146249
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas (A)
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资助金额:$1.28万
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财政年份:1998
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
新しい分子磁性系の設計と構築
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批准号:04242104
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$52.29万
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财政年份:1994
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
電子供与性(n)ラジアレンの特異な酸化還元挙動と中間酸化種の特性
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批准号:01648512
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research on Priority Areas
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资助金额:$1.47万
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财政年份:1989
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
チオ置換シクロプロペニウムイオンの反応特性を活用した複素環化合物の新規合成法
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批准号:57550537
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项目类别:Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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资助金额:$1.09万
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财政年份:1982
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
単分子膜, 二分子膜を用いる光化学反応性の制御
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批准号:X00210----575560
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.51万
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财政年份:1980
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
酵素類似反応の開発-修飾クラウンエーテルを用いる位置選択的反応に関する研究
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批准号:X00210----175467
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$0.22万
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财政年份:1976
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负责人:杉本 豊成
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依托单位:
海外基金