マイクロマシンとULSI集積回路の静電気放電からの保護対策の検討と実現

微型机械和超大规模集成电路静电放电保护措施的审查和实施

• 批准号: 03F00793
• 负责人: 藤田 博之
• 金额: $ 0.19万
• 依托单位: The University of Tokyo
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for JSPS Fellows
• 财政年份: 2003
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2003 至 2005
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-03F00793/
• 关键词: MEMS; Electrical Over Stress (EOS); 静電気破壊; ULSIとの融合; 保護回路

本研究は、マイクロマシンとULSI回路を融合して高度な機能を実現する「集積化MEMS」の信頼性を向上させることを目的に、集積化MEMSを破壊する最も重要な原因である、静電気破壊ならびに静電気オーバーストレス(EOS)現象を理解し、一般化可能な保護回路設計指針を構築することを目的としている。実際のマイクロアクチュエータの信頼性を向上させるという実用的な方向と、得られた知識を一般化するという理論的な方向との両面から研究を遂行している。平成15年度の成果は以下に示すとおりである。・MEMSのEOS、静電気破壊に関する文献調査を行い、MEMSについては静電気破壊とその信頼性向上対策に関する発表がほとんど行なわれていないという事実を確認した。・並列マイクロエアバルブ型アクチュエータを例にとり、EOSに起因すると思われる破壊モードの観察に成功した。・上記観察の結果をもとに、EOSからMEMS構造を保護するためのマイクロ構造を考案し、プロセス用フォトマスクを作製し、マイクロアクチュエータの作製プロセスを開始した。・本研究費の補助により、EOS観察を容易に、システマティックに行なうことを可能とする、電気的・工学的測定テストベンチ環境を構築した。

This research focuses on the integration of high-performance ULSI circuits and the realization of high-level functions. Integration MEMS "の信頼性を上させることをpurpose", Integration MEMS を棊するThe most important reason is である, electrostatic ならびにstatic オーバーストレス (EOS) The phenomenon cannot be understood, and the generalization possible and the design guidelines for the protection circuit can be constructed based on the purpose.実记のマイクロアクチュエータの信格性を上させるという実なdirectionalと,get The direction of the theory of generalization of knowledge and the implementation of research on it. The results of FY2015 are shown below.・MEMSのEOS, static electricity leakage壊とその信頼性 upward 徾综合出账がほとんど行なわれていないという事実をconfirmationした.・Parallel マイクロエアバルブtype アクチュエータを example にとり, The cause of EOS is its success.・The results of the above-mentioned inspection and the examination of the EOS MEMS structure and protection structureし、プロセス Use フォトマスクを to make し、マイクロアクチュエータの to make プロセスを to start した.・This research fee subsidy is supported by the EOS Observation System and the システテマティックに行なうことをpossible とする、Electronic ・Engineering Measurement テストベンチEnvironment をConstruction した.