Streifender Ionenbeschuss auf Metalloberflächen: Beschädigung, Ionenstrahlpolieren und Steuerung des Schichtwachstums

金属表面的条纹离子轰击：损伤、离子束抛光和层生长控制

• 批准号: 5337078
• 负责人: Professor Dr. Thomas Werner Michely
• 金额: --
• 依托单位: Institut für Experimentalphysik
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 2001
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 2000-12-31 至 2003-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5337078?language=en
• 关键词: Streifender; Ionenbeschuss; auf; Metalloberfl; chen

Der streifende Beschuß von Oberflächen mit Ionenstrahlen im keV-Energiebereich hat bislang zweierlei Anwendungen: Einerseits führt er bei hoher Ionenstromdichte zur Glättung von Oberflächen, andererseits kann die Messung des spekular reflektierten Ionenstroms als Analyseverfahren für die Oberflächenstruktur beim Schichtwachstum eingesetzt werden. Im vorliegenden Forschungsprojekt soll zunächst der Beschußschaden streifend einfallender Ionen an Oberflächen, Stufenkanten und kleinen Clustern durch Analyse der Schadensbilder einzelner Ionen mittels temperaturvariabler Rastertunnelmikroskopie auf atomarer Skala untersucht werden. Dadurch soll ein atomistisches Verständnis von Schadensbildung, Ausheilung und der glättenden Wirkung der Ionenstrahlen erzielt werden. Im nächsten Schritt soll dieses Verständnis für eine neue Anwendung eines streifenden Ionenstrahls genutzt werden: Ein streifender Ionenstrahl hoher Stromdichte soll während des epitaktischen Schichtwachstums die Wachstumsfront und Schichtmorphologie gezielt steuern. Als Analyseverfahren während des Wachstums kann dabei die Messung der Intensität des spiegelnd reflektierten Stroms des steuernden Strahl selbst und nach der Schichtabscheidung die temperaturvariable Rastertunnelmikroskopie verwendet werden.

在keV-能量范围内利用电离辐射对Oberflächen进行的连续观测有两种可能：一种是在更高的电离层中观测Oberflächen的Glättung，另一种是在Schichtwachstum eingesetzt韦尔登中观测特殊反射的电离层分析。通过对原子核韦尔登上光栅隧道显微镜的温度变化的分析，研究了在大气层上对电离层、湍流和小扰动的影响。Dadenisoll soll ein atomistisches Verständnis von Schadensbildung，Ausheilung und der glättenden Wirkung der Ionenstrahlen erzielt韦尔登. Im nächsten Schritt soll dieses Verständnis für eine neue Anwendung eines streifenden Ionenstrahls genutzt韦尔登：Ein streifender Ionenstrahl hoher Stromtte soll während des epitaktischen Schichtwachstums die Wachstumsfront und Schichtmorphologie gezielt steuern.通过对温度场的分析，可以测量出自稳流和自稳流的反射流强度，并在温度场的作用下测量出韦尔登的温度场。