课题基金 / 基金详情

化合物半導体のフォトニック結晶と発光素子の集積化の研究

化合物半導体のフォトニック結晶と発光素子の集積化の研究
化合物半导体光子晶体与发光器件集成研究
批准号:
05F05350
负责人:
福井 孝志
金额:
$1.54万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份:
2005
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2005 至 2006

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
有機金属気相(MOVPE)選択成長による化合物半導体フォトニック結晶の作製に関する技術確立を目的とし、本年度は主にInGaAs/GaAs単一量子井戸構造を有するナノピラーを三角格子状に配した周期構造の作製を行った。ナノピラーからのフォトルミネセンス(PL)発光スペクトルのピラーサイズ依存性に関して評価し、構造制御の観点から検討を行った。GaAs(111)B基板に三角格子状のSiO_2周期パターンを電子線リソグラフィにより部分的に形成した後、基板開口部にのみInGaAs/GaAs量子井戸を有するサンプル1及び、比較のためGaAsナノピラー上にInGaAs層を配しただけのサンプル2を結晶成長させた。今回作製した三角格子状周期パターンは、ピッチ(a)を430〜704nmで変化させ、開口部の直径(d)との比(d/a)を0.3とした。光学的評価にはμmオーダの微小領域のみを励起し、その発光スペクトルを測定可能な顕微PL法を用いた。走査型電子顕微鏡観察からサンプル1・2共に、(111)B面を上面に、{-110}垂直ファセットを側面に持つ均一な六角形ナノピラーの形成が確認された。直径が小さくなるにつれてナノピラーは高くなるため、それと同時に、サンプル1ではInGaAs井戸層厚が増加すると考えられる。またナノピラーの横方向からの量子閉じ込め効果が支配的であるとすれば発光ピークは高エネルギ側ヘシフトするため、確認された低エネルギ側へのピークシフトは、ナノピラー中のInGaAs層へのIn及びGa原子の取り込まれ方の違いによるものと推察される。観測されたサンプル1・2の長波長側へのピークシフト量の差異は、サンプル1すなわち、InGaAs/GaAs量子井戸構造における、縦方向からの量子閉じ込め効果の寄与にほかならず、ナノピラー中の量子閉じ込め効果を今回初めて確認することに成功したと考えられる。
英文摘要
有機金属気相(MOVPE)選択成長による化合物半導体フォトニック結晶の作製に関する技術確立を目的とし、本年度は主にInGaAs/GaAs単一量子井戸構造を有するナノピラーを三角格子状に配した周期構造の作製を行った。ナノピラーからのフォトルミネセンス(PL)発光スペクトルのピラーサイズ依存性に関して評価し、構造制御の観点から検討を行った。GaAs(111)B基板に三角格子状のSiO_2周期パターンを電子線リソグラフィにより部分的に形成した後、基板開口部にのみInGaAs/GaAs量子井戸を有するサンプル1及び、比較のためGaAsナノピラー上にInGaAs層を配しただけのサンプル2を結晶成長させた。今回作製した三角格子状周期パターンは、ピッチ(a)を430〜704nmで変化させ、開口部の直径(d)との比(d/a)を0.3とした。光学的評価にはμmオーダの微小領域のみを励起し、その発光スペクトルを測定可能な顕微PL法を用いた。走査型電子顕微鏡観察からサンプル1・2共に、(111)B面を上面に、{-110}垂直ファセットを側面に持つ均一な六角形ナノピラーの形成が確認された。直径が小さくなるにつれてナノピラーは高くなるため、それと同時に、サンプル1ではInGaAs井戸層厚が増加すると考えられる。またナノピラーの横方向からの量子閉じ込め効果が支配的であるとすれば発光ピークは高エネルギ側ヘシフトするため、確認された低エネルギ側へのピークシフトは、ナノピラー中のInGaAs層へのIn及びGa原子の取り込まれ方の違いによるものと推察される。観測されたサンプル1・2の長波長側へのピークシフト量の差異は、サンプル1すなわち、InGaAs/GaAs量子井戸構造における、縦方向からの量子閉じ込め効果の寄与にほかならず、ナノピラー中の量子閉じ込め効果を今回初めて確認することに成功したと考えられる。
期刊论文(4)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1088/0957-4484/18/10/105302
发表时间: 2007-03
期刊: Nanotechnology
影响因子: 3.5
作者: [Lin Yang;J. Motohisa;J. Takeda;K. Tomioka;T. Fukui]
通讯作者: Lin Yang;J. Motohisa;J. Takeda;K. Tomioka;T. Fukui
DOI: 10.1063/1.2372710
发表时间: 2006-11
期刊: Applied Physics Letters
影响因子: 4
作者: [Lin Yang;J. Motohisa;J. Takeda;K. Tomioka;T. Fukui]
通讯作者: Lin Yang;J. Motohisa;J. Takeda;K. Tomioka;T. Fukui
Promising low-damage fabrication method for the photonic crystals with hexagonal or triangular air holes : selective area metal organic vapor phase epitaxy
具有六边形或三角形气孔的光子晶体的低损伤制造方法:选择性区域金属有机气相外延
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Optics Express 13・26
影响因子: --
作者: [H.Ito, H.Tamura, S.Kuroda, H.Yamochi, G.Saito, Lin Yang]
通讯作者: Lin Yang
Photonic Crystal Slabs with Hexagonal Air Holes Fabricated by Selective Area Metal Organic Vapor Phase Epitaxy
选择性区域金属有机气相外延制备具有六角形气孔的光子晶体板
DOI: --
发表时间: 2006
期刊: Sensors and Actuators A (To be published in)
影响因子: --
作者: [M.Karppinen, V.P.S.Awana, Y.Morita, H.Yamauchi, Lin Yang]
通讯作者: Lin Yang
グラフェン上のIII-V族半導体ナノワイヤの作製と太陽電池応用
  • 批准号:
    11F01363
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $0.51万
  • 财政年份:
    2011
  • 负责人:
    福井 孝志
  • 依托单位:
化合物半導体ナノワイヤによる高効率太陽電池の研究
  • 批准号:
    23246054
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
  • 资助金额:
    $7.07万
  • 财政年份:
    2011
  • 负责人:
    福井 孝志
  • 依托单位:
有機金属気相選択成長法によるガリウムヒ素単電子メモリの作製と評価
  • 批准号:
    18360142
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 资助金额:
    $5.89万
  • 财政年份:
    2006
  • 负责人:
    福井 孝志
  • 依托单位:
カゴメドツト格子を用いた人工磁性材料の作製
  • 批准号:
    04F04087
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for JSPS Fellows
  • 资助金额:
    $1.92万
  • 财政年份:
    2004
  • 负责人:
    福井 孝志
  • 依托单位:
海外基金