単一電子入力・単一電子出力型記憶素子の研究
単一電子入力・単一電子出力型記憶素子の研究
批准号:
13450117
负责人:
福井 孝志
金额:
$5.95万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
财政年份:
2001
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2001 至 --
中文摘要
平成13年度は、有機金属気相成長(MOVPE)選択成長法により高密度量子ナノ構造の形成技術を確立すること、それを利用した単電子トランジスタの基本的特性や物理を解明すること、および、それらを回路へと応用することを目的として、以下の研究を行った。1.MOVPE選択成長のマスクパターンを適切に設計することにより、高密度GaAs量子ドットアレイや、高密度の量子ドット-量子細線結合構造アレイの形成を試みた。作製された構造のカソードルミネセンス測定から、量子ナノ構造が設計通りに形成されていることが確認された。2.上記の形成技術を基盤として、量子ドットによる単電子トランジスタを形成し、その伝導特性を極低温において詳細に測定した。明瞭なクーロン振動・クーロンダイアモンドが確認されるとともに、ある条件下では、非常に強い量子ドットにおける近藤効果が観測された。特に、強磁場中で観測された近藤効果においては、その微分コンダクタンス特性の零バイアス付近に特異なディップ構造を観測し、それが2段階近藤効果に起因していることを明らかにした。3.相補型インバーター回路への応用を目的として、上記の単電子トランジスタを、2個同一基板上に集積化し、直列接続した回路を試作した。2つの単電子トランジスタの相補的動作を確認し、相補型単電子インバーター回路実現への見通しを得た。
英文摘要
平成13年度は、有機金属気相成長(MOVPE)選択成長法により高密度量子ナノ構造の形成技術を確立すること、それを利用した単電子トランジスタの基本的特性や物理を解明すること、および、それらを回路へと応用することを目的として、以下の研究を行った。1.MOVPE選択成長のマスクパターンを適切に設計することにより、高密度GaAs量子ドットアレイや、高密度の量子ドット-量子細線結合構造アレイの形成を試みた。作製された構造のカソードルミネセンス測定から、量子ナノ構造が設計通りに形成されていることが確認された。2.上記の形成技術を基盤として、量子ドットによる単電子トランジスタを形成し、その伝導特性を極低温において詳細に測定した。明瞭なクーロン振動・クーロンダイアモンドが確認されるとともに、ある条件下では、非常に強い量子ドットにおける近藤効果が観測された。特に、強磁場中で観測された近藤効果においては、その微分コンダクタンス特性の零バイアス付近に特異なディップ構造を観測し、それが2段階近藤効果に起因していることを明らかにした。3.相補型インバーター回路への応用を目的として、上記の単電子トランジスタを、2個同一基板上に集積化し、直列接続した回路を試作した。2つの単電子トランジスタの相補的動作を確認し、相補型単電子インバーター回路実現への見通しを得た。
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Masashi Akabori: "Selective Area MOVPE Growth of two-dimensional photonic crystals having an air-hole array and its application to air-bridge-type structures"Physica E. (to be published). (2002)
Masashi Akabori:“具有气孔阵列的二维光子晶体的选择性区域 MOVPE 生长及其在气桥型结构中的应用”Physica E.(待出版)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Fumito Nakajima: "GaAs dot-wire coupled structures grown by selective area metalorganic vapor phase epitaxy and their application to single electron devices"J. Appl. Phys.. 90. 2606-2611 (2001)
Fumito Nakajima:“选择性区域金属有机气相外延生长的 GaAs 点线耦合结构及其在单电子器件中的应用”J.
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Junichi Motohisa: "Formation of Nano-Scale Heterointerfaces by Selective Area Metalorganic Vapor Phase Epitaxy and Their Applications"Appl. Surf. Sci.. (to be published). (2002)
Junichi Motohisa:“选择性区域金属有机气相外延形成纳米级异质界面及其应用”Appl。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Junichi Motohisa: "Low temperature transport in dual-gated SETs fabricated by selective area metalorganic vapor phase epitaxy"Physica E. (to be published). (2002)
Junichi Motohisa:“通过选择性区域金属有机气相外延制造的双栅极 SET 中的低温传输”Physica E.(待出版)。
DOI:
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发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
Junichiro Takeda: "Formation of Al_xGa_<1-x>As periodic array of micro-hexagonal pillars and air holes by selective area MOVPE"Appl. Surf. Sci.. (to be published). (2002)
Junichiro Takeda:“通过选择性区域MOVPE形成Al_xGa_<1-x>作为微六角柱和气孔的周期性阵列”Appl。
DOI:
--
发表时间:
期刊:
影响因子:
--
作者:
[]
通讯作者:
共 6 条
グラフェン上のIII-V族半導体ナノワイヤの作製と太陽電池応用
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批准号:11F01363
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$0.51万
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财政年份:2011
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负责人:福井 孝志
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依托单位:
化合物半導体ナノワイヤによる高効率太陽電池の研究
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批准号:23246054
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (A)
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资助金额:$7.07万
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财政年份:2011
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负责人:福井 孝志
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依托单位:
有機金属気相選択成長法によるガリウムヒ素単電子メモリの作製と評価
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批准号:18360142
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$5.89万
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财政年份:2006
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负责人:福井 孝志
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依托单位:
化合物半導体のフォトニック結晶と発光素子の集積化の研究
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批准号:05F05350
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2005
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负责人:福井 孝志
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依托单位:
カゴメドツト格子を用いた人工磁性材料の作製
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批准号:04F04087
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项目类别:Grant-in-Aid for JSPS Fellows
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资助金额:$1.92万
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财政年份:2004
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负责人:福井 孝志
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依托单位:
有機金属気相成長高密度量子ナノ構造による単電子集積エレクトロニクス
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批准号:13GS0001
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项目类别:Grant-in-Aid for Creative Scientific Research
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资助金额:$241.28万
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财政年份:2001
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负责人:福井 孝志
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依托单位:
海外基金