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ペアイオンプラズマ制御によるフラーレンダイマー大量合成法の開発

ペアイオンプラズマ制御によるフラーレンダイマー大量合成法の開発
利用成对离子等离子体控制开发富勒烯二聚体大规模合成方法
批准号:
16740310
负责人:
大原 渡
金额:
$2.3万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2005

项目摘要

项目成果

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中文摘要
翻译
1.現有の磁場コイル(3kG)と真空容器(内直径16cm,長さ200cm)を利用し,ドーナッツ状電子銃とフラーレンC_<60>昇華用オーブン付きの加熱銅円筒が設置されている.高エネルギー電子衝突電離によって正イオン(C_<60>^+)が生成され,低エネルギー電子付着によって負イオン(C_<60>^-)が生成されている.生成された負イオンを電位差(0〜200V)をつけた2枚のグリッド間で積極的に静電加速させて,下流域に存在する中性フラーレンや正イオンと衝突させた.グリッド電位差をコントロールパラメータとして,負イオンビームエネルギーを変化させてダイマー合成を行った.2.衝突処理したフラーレンサンプルをMALDI-TOFMSによって質量分析を行ったところ,質量数1452を持つ物質が確認された.これはC_<121>に相当する質量であり,フラグメンテーションC_2から供給されたCと,C_<60>が2個から成るダイマーであると考えている.ダイマーが合成される負イオンビームエネルギーには,最適なエネルギー範囲(60〜180eV)が存在する.積極的な負イオン加速・衝突によって,ダイマー合成量を大幅に向上させることができた.3.TOFMSによって質量分析する際に,レーザによってイオン化しているが,レーザ照射によってダイマーが合成されるという報告がある.そこで,LDI-TOFMSよってレーザ強度に依る質量スペクトルの変化を調べた.C_<60>単体にLDIした場合は,レーザ強度がある閾値を越えるとダイマーC_<119>が主に観測されて,C_<121>は観測されない.すなわち,C_<121>はLDIではなくプラズマプロセスによって合成されたと言える.4.既に報告されている合成されたダイマーは,結合力の弱いダンベル型が主である.材料応用のためには,結合力の強い融合型のダイマーであることが望ましい.レーザ照射や中性ガスとの衝突によってダイマーは解離する.レーザ強度を高めてLDIによって解離されるとC_<112>+nC_2の一連のフラグメンテーションしたダイマーが形成された.ここでも,ほとんどC_<119>は形成されていない.更にMALDIによってイオン化したダイマーを静電加速(加速電圧20kV)して,窒素ガス分子と衝突させた(CDI).ここで,フラグメンテーションしたダイマーは観測されなかったことから,C_<121>の結合力は強いと言える.以上のことから,フラーレン負イオン加速・衝突によって合成されたダイマーは,結合の強い融合型であると考えられる.
英文摘要
1.現有の磁場コイル(3kG)と真空容器(内直径16cm,長さ200cm)を利用し,ドーナッツ状電子銃とフラーレンC_<60>昇華用オーブン付きの加熱銅円筒が設置されている.高エネルギー電子衝突電離によって正イオン(C_<60>^+)が生成され,低エネルギー電子付着によって負イオン(C_<60>^-)が生成されている.生成された負イオンを電位差(0〜200V)をつけた2枚のグリッド間で積極的に静電加速させて,下流域に存在する中性フラーレンや正イオンと衝突させた.グリッド電位差をコントロールパラメータとして,負イオンビームエネルギーを変化させてダイマー合成を行った.2.衝突処理したフラーレンサンプルをMALDI-TOFMSによって質量分析を行ったところ,質量数1452を持つ物質が確認された.これはC_<121>に相当する質量であり,フラグメンテーションC_2から供給されたCと,C_<60>が2個から成るダイマーであると考えている.ダイマーが合成される負イオンビームエネルギーには,最適なエネルギー範囲(60〜180eV)が存在する.積極的な負イオン加速・衝突によって,ダイマー合成量を大幅に向上させることができた.3.TOFMSによって質量分析する際に,レーザによってイオン化しているが,レーザ照射によってダイマーが合成されるという報告がある.そこで,LDI-TOFMSよってレーザ強度に依る質量スペクトルの変化を調べた.C_<60>単体にLDIした場合は,レーザ強度がある閾値を越えるとダイマーC_<119>が主に観測されて,C_<121>は観測されない.すなわち,C_<121>はLDIではなくプラズマプロセスによって合成されたと言える.4.既に報告されている合成されたダイマーは,結合力の弱いダンベル型が主である.材料応用のためには,結合力の強い融合型のダイマーであることが望ましい.レーザ照射や中性ガスとの衝突によってダイマーは解離する.レーザ強度を高めてLDIによって解離されるとC_<112>+nC_2の一連のフラグメンテーションしたダイマーが形成された.ここでも,ほとんどC_<119>は形成されていない.更にMALDIによってイオン化したダイマーを静電加速(加速電圧20kV)して,窒素ガス分子と衝突させた(CDI).ここで,フラグメンテーションしたダイマーは観測されなかったことから,C_<121>の結合力は強いと言える.以上のことから,フラーレン負イオン加速・衝突によって合成されたダイマーは,結合の強い融合型であると考えられる.
期刊论文(9)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: 10.1016/j.tsf.2004.07.036
发表时间: 2005-03
期刊: Thin Solid Films
影响因子: 2.1
作者: [W. Oohara;H. Iwata;D. Date;R. Hatakeyama]
通讯作者: W. Oohara;H. Iwata;D. Date;R. Hatakeyama
Properties of Pair-Ion Plasma Using Fullerenes
使用富勒烯的对离子等离子体的特性
DOI: --
发表时间: 2004
期刊: Workshop on Theoretical Plasma Physics Book of Abstracts
影响因子: --
作者: [K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, W.Oohara, G.Sato, W.Oohara, G.Sato, W.Oohara, R.Hatakeyama]
通讯作者: R.Hatakeyama
Property of Electrostatic Waves Propagating along Magnetic Field Lines in Pair Fullerene-Ion Plasma
富勒烯离子等离子体中静电波沿磁场线传播的特性
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Proceedings of Plasma Sciences Symposium 2005/ The 22^<nd> Symposium on Plasma Processing
影响因子: --
作者: [K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, W.Oohara, G.Sato, W.Oohara]
通讯作者: W.Oohara
Creation of Novel Structured Nanocarbons Base and Plasma Technology
新型结构纳米碳基底和等离子体技术的创建
DOI: --
发表时间: 2005
期刊: Journal of the Vacuum Society of Japan 48・3
影响因子: --
作者: [K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama]
通讯作者: R.Hatakeyama
9
    Verification that a hydrogen ionic plasma protected by a dipole magnetic field is negative-index metamaterials
    • 批准号:
      21H01057
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额:
      $10.98万
    • 财政年份:
      2021
    • 负责人:
      大原 渡
    • 依托单位:
    ペアナノ分子イオンプラズマ利用のフラーレンダイマー形成新機構
    • 批准号:
      14780376
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额:
      $2.37万
    • 财政年份:
      2002
    • 负责人:
      大原 渡
    • 依托单位:
    生体神経細胞模擬プラズマの生成・制御による開放系境界膜機能の探究
    • 批准号:
      12780350
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
    • 资助金额:
      $1.54万
    • 财政年份:
      2000
    • 负责人:
      大原 渡
    • 依托单位:
    海外基金