ペアイオンプラズマ制御によるフラーレンダイマー大量合成法の開発
ペアイオンプラズマ制御によるフラーレンダイマー大量合成法の開発
批准号:
16740310
负责人:
大原 渡
金额:
$2.3万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2004
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2004 至 2005
中文摘要
1.現有の磁場コイル(3kG)と真空容器(内直径16cm,長さ200cm)を利用し,ドーナッツ状電子銃とフラーレンC_<60>昇華用オーブン付きの加熱銅円筒が設置されている.高エネルギー電子衝突電離によって正イオン(C_<60>^+)が生成され,低エネルギー電子付着によって負イオン(C_<60>^-)が生成されている.生成された負イオンを電位差(0〜200V)をつけた2枚のグリッド間で積極的に静電加速させて,下流域に存在する中性フラーレンや正イオンと衝突させた.グリッド電位差をコントロールパラメータとして,負イオンビームエネルギーを変化させてダイマー合成を行った.2.衝突処理したフラーレンサンプルをMALDI-TOFMSによって質量分析を行ったところ,質量数1452を持つ物質が確認された.これはC_<121>に相当する質量であり,フラグメンテーションC_2から供給されたCと,C_<60>が2個から成るダイマーであると考えている.ダイマーが合成される負イオンビームエネルギーには,最適なエネルギー範囲(60〜180eV)が存在する.積極的な負イオン加速・衝突によって,ダイマー合成量を大幅に向上させることができた.3.TOFMSによって質量分析する際に,レーザによってイオン化しているが,レーザ照射によってダイマーが合成されるという報告がある.そこで,LDI-TOFMSよってレーザ強度に依る質量スペクトルの変化を調べた.C_<60>単体にLDIした場合は,レーザ強度がある閾値を越えるとダイマーC_<119>が主に観測されて,C_<121>は観測されない.すなわち,C_<121>はLDIではなくプラズマプロセスによって合成されたと言える.4.既に報告されている合成されたダイマーは,結合力の弱いダンベル型が主である.材料応用のためには,結合力の強い融合型のダイマーであることが望ましい.レーザ照射や中性ガスとの衝突によってダイマーは解離する.レーザ強度を高めてLDIによって解離されるとC_<112>+nC_2の一連のフラグメンテーションしたダイマーが形成された.ここでも,ほとんどC_<119>は形成されていない.更にMALDIによってイオン化したダイマーを静電加速(加速電圧20kV)して,窒素ガス分子と衝突させた(CDI).ここで,フラグメンテーションしたダイマーは観測されなかったことから,C_<121>の結合力は強いと言える.以上のことから,フラーレン負イオン加速・衝突によって合成されたダイマーは,結合の強い融合型であると考えられる.
英文摘要
1.現有の磁場コイル(3kG)と真空容器(内直径16cm,長さ200cm)を利用し,ドーナッツ状電子銃とフラーレンC_<60>昇華用オーブン付きの加熱銅円筒が設置されている.高エネルギー電子衝突電離によって正イオン(C_<60>^+)が生成され,低エネルギー電子付着によって負イオン(C_<60>^-)が生成されている.生成された負イオンを電位差(0〜200V)をつけた2枚のグリッド間で積極的に静電加速させて,下流域に存在する中性フラーレンや正イオンと衝突させた.グリッド電位差をコントロールパラメータとして,負イオンビームエネルギーを変化させてダイマー合成を行った.2.衝突処理したフラーレンサンプルをMALDI-TOFMSによって質量分析を行ったところ,質量数1452を持つ物質が確認された.これはC_<121>に相当する質量であり,フラグメンテーションC_2から供給されたCと,C_<60>が2個から成るダイマーであると考えている.ダイマーが合成される負イオンビームエネルギーには,最適なエネルギー範囲(60〜180eV)が存在する.積極的な負イオン加速・衝突によって,ダイマー合成量を大幅に向上させることができた.3.TOFMSによって質量分析する際に,レーザによってイオン化しているが,レーザ照射によってダイマーが合成されるという報告がある.そこで,LDI-TOFMSよってレーザ強度に依る質量スペクトルの変化を調べた.C_<60>単体にLDIした場合は,レーザ強度がある閾値を越えるとダイマーC_<119>が主に観測されて,C_<121>は観測されない.すなわち,C_<121>はLDIではなくプラズマプロセスによって合成されたと言える.4.既に報告されている合成されたダイマーは,結合力の弱いダンベル型が主である.材料応用のためには,結合力の強い融合型のダイマーであることが望ましい.レーザ照射や中性ガスとの衝突によってダイマーは解離する.レーザ強度を高めてLDIによって解離されるとC_<112>+nC_2の一連のフラグメンテーションしたダイマーが形成された.ここでも,ほとんどC_<119>は形成されていない.更にMALDIによってイオン化したダイマーを静電加速(加速電圧20kV)して,窒素ガス分子と衝突させた(CDI).ここで,フラグメンテーションしたダイマーは観測されなかったことから,C_<121>の結合力は強いと言える.以上のことから,フラーレン負イオン加速・衝突によって合成されたダイマーは,結合の強い融合型であると考えられる.
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DOI:
10.1016/j.tsf.2004.07.036
发表时间:
2005-03
期刊:
Thin Solid Films
影响因子:
2.1
作者:
[W. Oohara;H. Iwata;D. Date;R. Hatakeyama]
通讯作者:
W. Oohara;H. Iwata;D. Date;R. Hatakeyama
Properties of Pair-Ion Plasma Using Fullerenes
使用富勒烯的对离子等离子体的特性
DOI:
--
发表时间:
2004
期刊:
Workshop on Theoretical Plasma Physics Book of Abstracts
影响因子:
--
作者:
[K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, W.Oohara, G.Sato, W.Oohara, G.Sato, W.Oohara, R.Hatakeyama]
通讯作者:
R.Hatakeyama
Property of Electrostatic Waves Propagating along Magnetic Field Lines in Pair Fullerene-Ion Plasma
富勒烯离子等离子体中静电波沿磁场线传播的特性
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Proceedings of Plasma Sciences Symposium 2005/ The 22^<nd> Symposium on Plasma Processing
影响因子:
--
作者:
[K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama, W.Oohara, G.Sato, W.Oohara]
通讯作者:
W.Oohara
Creation of Novel Structured Nanocarbons Base and Plasma Technology
新型结构纳米碳基底和等离子体技术的创建
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Journal of the Vacuum Society of Japan 48・3
影响因子:
--
作者:
[K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama, R.Hatakeyama]
通讯作者:
R.Hatakeyama
Structual Control of Nanocarbon Materials by Novel Plasma Processing
通过新型等离子体处理控制纳米碳材料的结构
DOI:
--
发表时间:
2005
期刊:
Novel Materials Proceeding by Advanced Electromagnetic Energy Sources
影响因子:
--
作者:
[K.Nishihara, A.Sasaki, T.Nishikawa, A.Sunahara, R.Hatakeyama]
通讯作者:
R.Hatakeyama
共 9 条
Verification that a hydrogen ionic plasma protected by a dipole magnetic field is negative-index metamaterials
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批准号:21H01057
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项目类别:Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
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资助金额:$10.98万
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财政年份:2021
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负责人:大原 渡
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依托单位:
ペアナノ分子イオンプラズマ利用のフラーレンダイマー形成新機構
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批准号:14780376
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项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
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资助金额:$2.37万
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财政年份:2002
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负责人:大原 渡
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依托单位:
生体神経細胞模擬プラズマの生成・制御による開放系境界膜機能の探究
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批准号:12780350
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项目类别:Grant-in-Aid for Encouragement of Young Scientists (A)
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资助金额:$1.54万
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财政年份:2000
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负责人:大原 渡
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依托单位:
海外基金