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集束イオンビームによる3次元ナノ構造体の機能物性探索とデバイス応用研究

利用聚焦离子束探索三维纳米结构的功能特性及器件应用研究

基本信息

批准号：
06J06163
负责人：
中松健一郎
金额：
$ 1.79万
依托单位：
University of Hyogo
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for JSPS Fellows
财政年份：
2006
资助国家：
日本
起止时间：
2006 至 2008
项目状态：
已结题

来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-06J06163/
关键词：
ナノ集束イオンビーム励起化学表面反応電子線ホログラフィーバイプリズムフィラメントナノワイヤーダイアモンド様炭素干渉稿励起化学気相成長スプリングバネ定数走査型電子顕微鏡(SEM)マイクロマニピュレーターキャピラリー励起化学気層成長弾性定数プラズマパッタコーティング金

项目摘要

集束イオンビーム励起化学表面反応(FIB-CVD)の空中配線技術を用いて作製された、材質ダイアモンドライクカーボン(DLC)の表面の滑らかなナノワイヤーをフィラメントとして応用し、電子線ホログラフィーのための電子線バイプリズムを作製することに初めて成功した。イオンビームの種類はGa,加速電圧は30kV,ビーム電流は1pAであり、使用した反応性ガスはフェナントレンである。DLCフィラメントの線幅は80nmと非常に微細であり、長さは15μmと電子線ホログラフィーを行う上で十分な長さである。加速電圧200kVの透過型電子顕微鏡を用いた特性評価の結果、真直ぐで綺麗な、とても縞質の良い干渉縞を得ることができた。さらに、石英棒を熱し引き伸ばして作製される直径400nmの従来の電子線バイプリズムとの干渉性の比較実験を行ったところ、その空間分解能を劣化させることなく、同じ干渉領域において縞コントラストを大きく上昇させることに成功した。例えば、干渉領域220nmにおいて、得られた縞コントラストが直径400nmのフィラメントでは0.1であったのに対し、今回開発した直径80nmのフィラメントでは0.45であり、0.35ポイントも上昇させることができた。これは、線幅の微細なバイプリズムフィラメントを用いることで高精度な電子線ホログラフィーが可能であることを意味している。これらの結果から、FIB-CVDを用いて作製された微細フィラメントを有する電子線バイプリズムが、従来の電子線バイプリズムに取って代わるものとなるのは間違いない。

The airborne wiring technology of FIB-CVD has been successfully applied to the surface of DLC. Type of application: Ga, acceleration voltage: 30kV, application current: 1pA, application resistance: Ga DLC line width is 80nm, very fine, long, 15μm, electron line width is very long. The results of the evaluation of the characteristics of the transmission electron micromirrors with accelerating voltage of 200kV show that the optical properties of the mirrors are excellent and the optical properties of the mirrors are excellent. In addition, quartz rods were heated and stretched to a diameter of 400nm, and the interference properties of the incoming electron lines were compared. For example, in the dry area of 220nm, the diameter of the film is 400nm, the diameter of the film is 0.1 nm, and the diameter of the film is 80nm, the diameter of the film is 0.45 nm, and the diameter of the film is 0.35 nm. This is the case with high-precision electronic wires. As a result of this, FIB-CVD is used to control the fine particles in the plasma.