Next-Generation High-Level Synthesis System Based on Deep Submicron Technology
基于深亚微米技术的下一代高水平合成系统
基本信息
- 批准号:18700049
- 负责人:
- 金额:$ 2.43万
- 依托单位:
- 依托单位国家:日本
- 项目类别:Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
- 财政年份:2006
- 资助国家:日本
- 起止时间:2006 至 2008
- 项目状态:已结题
- 来源:
- 关键词:
项目摘要
システムLSI設計技術は,配線幅が90nmや65nmといったディープサブミクロン時代に突入し,その設計生産性を向上するには,システムの動作レベルからシステムLSIを自動設計することを可能とした「高位合成技術」が極めて有効である.本研究ではディープサブミクロン技術を想定した物理設計指向の高位合成アルゴリズムを提案しならびに高位合成フローを構築した.構築した高位合成フローを利用することにより,従来の設計フローに比較して,30%以上の動作速度向上を確認した.
The LSI design technology has been developed in the era of line width from 90nm to 65nm, and the design productivity has been improved. In this study, we propose a high-level synthesis method based on physical design. Construction of high-level synthesis of high-level synthesis of high-level
项目成果
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专利数量(0)
Partially-Parallel LDPC Decoder Achieving High-Efficiency Message-Passing Schedule
- DOI:10.1093/ietfec/e89-a.4.969
- 发表时间:2006-04
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:K. Shimizu;T. Ishikawa;N. Togawa;Takeshi Ikenaga;Satoshi Goto
- 通讯作者:K. Shimizu;T. Ishikawa;N. Togawa;Takeshi Ikenaga;Satoshi Goto
Unknown response masking with minimized observable response loss and mask data
未知响应屏蔽,最小化可观察响应损失和屏蔽数据
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:Youhua Shi;Nozomu Togawa;Masao Yanagisawa;and Tatsuo Ohsuki
- 通讯作者:and Tatsuo Ohsuki
FIFOバッファによる高效率Message-Passingスケジュールを用いたLDPC復号器
使用具有 FIFO 缓冲区的高效消息传递调度的 LDPC 解码器
- DOI:
- 发表时间:2006
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:清水一範;石川達之;戸川望;池永剛;後藤敏
- 通讯作者:後藤敏
スキャンチェインの構造に依存しないAESスキャンベース攻撃
不依赖扫描链结构的基于AES扫描的攻击
- DOI:
- 发表时间:2009
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:奈良竜太;戸川望;柳澤政生;大附辰夫
- 通讯作者:大附辰夫
周辺回路を含む証AES-LSIへのスキャンベース攻撃
对包括外围电路在内的 AES-LSI 进行基于扫描的攻击
- DOI:
- 发表时间:2008
- 期刊:
- 影响因子:0
- 作者:奈良竜太;戸川望;柳澤政生;大附辰夫
- 通讯作者:大附辰夫
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TOGAWA Nozomu其他文献
ハードウェアトロイ検出手法の実装と課題
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- 影响因子:0
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TOGAWA Nozomu
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- 影响因子:0
- 作者:
HASEGAWA Kento;YANAGISAWA Masao;TOGAWA Nozomu - 通讯作者:
TOGAWA Nozomu
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- 影响因子:0
- 作者:
OYA Masaru;YANAGISAWA Masao;TOGAWA Nozomu - 通讯作者:
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