Deposition of diamond films at low substrate temperature using nanopulse plasma

使用纳脉冲等离子体在低基底温度下沉积金刚石薄膜

基本信息

  • 批准号:
    19360331
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 11.56万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
  • 财政年份:
    2007
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2007 至 2009
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

低基板温度でダイヤモンド薄膜を合成する方法を開発した.パルス幅1μs未満のナノパルス電圧をフィラメント重畳させて,メタン+水素のプラズマからダイヤモンド膜合成を試みた結果,-5kV程度の高出力ナノパルスを援用することにより,フィラメント温度1500℃,基板温度はおよそ400℃でのダイヤモンドの合成に成功した.さらに,プラズマの発光の時間変化を計測し,フィラメントの低温化とともにパルス同士の相互作用が弱くなること,低温合成においては,ナノパルスによる結晶終端の水素引き抜き反応が結晶成長に大きな影響を与えていることを明らかにした.
The method of synthesis of thin films at low substrate temperature is effective. The temperature range is 1 μ s. The temperature range is 1 μ s. The temperature is very high, the temperature of the substrate is below 400 ℃, the temperature of the substrate is 400 ℃, the temperature of the substrate is 400 ℃, and the temperature of the substrate is 400 ℃. The synthesis of the film is successful. The results show that the synthesis of the film is successful. The temperature is high. The temperature is high. The temperature is 1500 ℃. Temperature, temperature,

项目成果

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专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
ナノパルスプラズマと熱フィラメントを併用したダイヤモンド膜の合成
使用纳脉冲等离子体和热灯丝合成金刚石薄膜
Preparation of DLC films at atmospheric pressure by nanopulse plasma CVD
常压纳脉冲等离子体CVD制备DLC薄膜
DLCの応用技術
DLC应用技术
  • DOI:
  • 发表时间:
    2007
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Masanori Saito;Takao Saito;Yoshimasa Kondo;Hiroya Murakami;Naoto Ohtake;N. Ohtake;大竹尚登
  • 通讯作者:
    大竹尚登
Effect of High-Voltage Positive Nano-Pulse Assist on the Hot-Filament CVD Diamond Growth
高压正纳米脉冲辅助对热丝CVD金刚石生长的影响
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Yoshihiko Mochiduki;Masanori Saito;T. Aida;Hiroya Murakami;Naoto Ohtake
  • 通讯作者:
    Naoto Ohtake
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  • 资助金额:
    $ 11.56万
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