Development of dry precision punting process utilizing rapid surface coating

利用快速表面涂层开发干式精密冲孔工艺

• 批准号: 22656163
• 负责人: OHTAKE Naoto
• 金额: $ 2.22万
• 依托单位: Tokyo Institute of Technology
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
• 财政年份: 2010
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2010 至 2011
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-22656163/
• 关键词: 塑性加工; プラズマ; コーティング; パルス放電; 打ち抜き; DLC

This research aims development of dry and precision punching process utilizing rapid Diamond-like carbon(DLC) coating. DLC coating was performed at atmospheric pressure by nano-pulse plasma chemical vapor deposition method. DLC films deposited contain less than 27 atm.% of hydrogen and exhibits larger than 10 GPa in nano-indentation hardness. Coating process was applied to punching process and we found that punching force was stabilized by DLC coatings because DLC coating prevent from adhesion of aluminum work piece on punch surface.

本研究旨在开发利用快速类金刚石(DLC)涂层的干式精密冲压工艺。采用纳米脉冲等离子体化学气相沉积方法在常压下制备了类金刚石薄膜。所沉积的DLC膜含氢量小于27atm%，纳米压痕硬度大于10 Gpa。将涂层工艺应用于冲压过程中，发现由于DLC涂层防止了铝件与凸模表面的粘结，所以DLC涂层稳定了冲裁力。

项目成果

大気圧下でのDLC膜合成とその機械的特性評価

常压DLC膜的合成及其力学性能评价

• 发表时间: 2010
• 期刊: 日本機械学会第18回機械材料・材料加工技術講演会講演論文集
• 作者: 宮武直;大竹尚登
• 通讯作者: 大竹尚登

Development of DLC Coating Applied Dry Press Working Process

DLC涂层干压工艺的开发

• 发表时间: 2011
• 作者: Toshiharu Hirama;Nao Miyatake;Naoto Ohtake
• 通讯作者: Naoto Ohtake

ナノパルスプラズマCVDによる大気圧下でのダイヤモンド状炭素膜の合成

常压纳脉冲等离子体CVD合成类金刚石碳薄膜

• 发表时间: 2011
• 期刊: セラミックス
• 作者: 大竹尚登

ナノパルスプラズマCVD 法により準大気圧合成されたDLC 膜の各種特性

使用纳脉冲等离子体CVD法在负压下合成的DLC薄膜的各种性能

• 发表时间: 2010
• 期刊: 第71回応用物理学会学術講演会講演予稿集
• 作者: 宮武直;大竹尚登
• 通讯作者: 大竹尚登