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Study on the modeling of reactive sputter deposition including the transport process of sputtered and gas particles

Study on the modeling of reactive sputter deposition including the transport process of sputtered and gas particles
反应溅射沉积建模研究，包括溅射粒子和气体粒子的传输过程
批准号：
19560048
负责人：
NAKANO Takeo
金额：
$2.83万
依托单位：
Seikei University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2009
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-19560048/
关键词：
反応性スパッタリングモデリング薄膜堆積プロセス

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Reactive sputter deposition process has been studied for the precise control of deposited film composition. We clarified the effects of transport process of sputtered metal atoms and sticking probability of reactive gases. Especially, the former leads the dependence of the composition on total gas pressure, which has not been pre-dicted by conventional process models. We also studied the characteristics of pulse power sputtering, which has been proved to be able to modify the film structure.
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パルスoff期のターゲット電位を変化させたパルスマグネトロンスパッタによる薄膜構造制御
通过在脉冲关闭期间改变靶电位来控制脉冲磁控溅射的薄膜结构
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [中野武雄, 原良輔, 日留川紀彦, 馬場茂]
通讯作者： 馬場茂
Effect of background gas environment on oxygen incorporation in TiN films deposited using UHV reactive magnetron sputtering
DOI： 10.1016/j.vacuum.2008.04.014
发表时间： 2008-10-15
期刊： VACUUM
影响因子： 4
作者： [Nakano, Takeo, Hoshi, Ken'ichiroh, Baba, Shigeru]
通讯作者： Baba, Shigeru
Effects of vacuum environment on oxygen impurity during the reactive sputtering deposition of metal nitrides
金属氮化物反应溅射沉积过程中真空环境对氧杂质的影响
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [N.Hirukawa, T.Nakamura, A.Suzuki, T.Nakano, S.Baba]
通讯作者： S.Baba
薄膜ハンドブック(第2版)
薄膜手册（第二版）
DOI： --
发表时间： 2008
期刊：
影响因子： --
作者： [中野武雄, 他]
通讯作者： 他
共 15 条
    Film structure modification using high power pulsed magnetron sputtering with target voltage control during pulse-off period
    • 批准号：
      24560063
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.41万
    • 财政年份：
      2012
    • 负责人：
      NAKANO Takeo
    • 依托单位：
      Seikei University
    海外基金