Film structure modification using high power pulsed magnetron sputtering with target voltage control during pulse-off period

使用高功率脉冲磁控溅射在脉冲关闭期间控制靶电压来修改薄膜结构

• 批准号: 24560063
• 负责人: NAKANO Takeo
• 金额: $ 3.41万
• 依托单位: Seikei University
• 依托单位国家: 日本
• 项目类别: Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
• 财政年份: 2012
• 资助国家: 日本
• 起止时间: 2012-04-01 至 2015-03-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-24560063/
• 关键词: 大電力パルススパッタリング; プラズマ電位; 薄膜構造制御; 微細電子放出源; 銅薄膜; 堆積粒子エネルギー; 大電力パルススパッタ; プラズマ電位制御

项目成果

大電力パルススパッタを用いた薄膜堆積と微小電子源陰極作製

使用高功率脉冲溅射的薄膜沉积和微电子源阴极制造

• 发表时间: 2015
• 作者: 齋藤悠大;門井裕樹;板村賢明;中野武雄;中野武雄
• 通讯作者: 中野武雄

大電力パルススパッタのイオン化金属粒子を用いた薄膜構造の制御

高功率脉冲溅射中电离金属粒子控制薄膜结构

• 作者: 中野武雄;馬場 茂
• 通讯作者: 馬場 茂

三極スパッタを用いたプラズマ電位制御における電極配置の影響

电极排列对三极管溅射等离子体电位控制的影响

• 作者: 馬橋琢哉;中野武雄;馬場 茂
• 通讯作者: 馬場 茂

Fabrication of precious metals recovery materials using grape seed-waste

利用葡萄籽废料制造贵金属回收材料

• DOI: 10.1016/j.susmat.2014.11.005
• 发表时间: 2015
• 期刊: Sust. Mater. Technol.
• 作者: Motoki Inoue;Takeo Nakano;Akihiro Yamasaki
• 通讯作者: Akihiro Yamasaki

Growth of target race track profile during magnetron sputtering

磁控溅射过程中靶材跑道轮廓的生长

• 发表时间: 2015
• 期刊: J. Vac. Soc. Jpn.
• 作者: Takeo Nakano;Yudai Saitou;Mariko Ueda;Noriaki Itamura;Shigeru Baba
• 通讯作者: Shigeru Baba