Preparation of perovskite bismuth-based compound thin films by hot isostatic pressing
Preparation of perovskite bismuth-based compound thin films by hot isostatic pressing
热等静压制备钙钛矿铋基化合物薄膜
批准号：
19560736
负责人：
KOBUNE Masafumi
金额：
$1.83万
依托单位：
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2007
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2007 至 2008
中文摘要
翻译
常温スパッタ法により(001)配向(Bi0.5La0.5)(Ni0.5Ti0.5)O3 [BLNT]結晶核上に非晶質BLNT膜を作製し、等方高圧アニール(HIP)法により至適に調整された酸素分圧下で結晶化を行い、結晶核と同方向の配向性とペロブスカイト構造をもつBLNT薄膜の作製に成功した。作製した膜の諸特性(構造及び電気特性)評価を行い、すぐれた強誘電体であることを実証した
英文摘要
常温スパッタ法により(001)配向(Bi0.5La0.5)(Ni0.5Ti0.5)O3 [BLNT]結晶核上に非晶質BLNT膜を作製し、等方高圧アニール(HIP)法により至適に調整された酸素分圧下で結晶化を行い、結晶核と同方向の配向性とペロブスカイト構造をもつBLNT薄膜の作製に成功した。作製した膜の諸特性(構造及び電気特性)評価を行い、すぐれた強誘電体であることを実証した
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Structural and ferroelectric properties of bismuth-based compound thin films crystallized by hot isostatic pressing
热等静压结晶铋基化合物薄膜的结构和铁电性能
热等静压结晶铋基化合物薄膜的结构和铁电性能
DOI：
--
发表时间：
2008
期刊：
影响因子：
--
作者：
[H. Tada, et al.]
通讯作者：
et al.
Growth of ferroelectric bismuth lanthanum nickel titanate thin films by rf magnetron sputtering
射频磁控溅射生长铁电钛酸铋镧镍薄膜
射频磁控溅射生长铁电钛酸铋镧镍薄膜
DOI：
10.1063/1.2713352
发表时间：
2007
期刊：
Journal of Applied Physics
影响因子：
3.2
作者：
[M. Kobune, K. Fukushima, T. Yamaji, H. Tada, T. Yazawa, H. Fujisawa, M. Shimizu, Y. Nishihata, D. Matsumura, J. Mizuki, Hideshi Yamaguchi, Y. Kotaka, K. Honda]
通讯作者：
K. Honda
スパッタリング法による(Bi,Nd)(Ni_0.5Ti_0.5)O_3ペロブスカイト化合物薄膜の成長
溅射法生长(Bi,Nd)(Ni_0.5Ti_0.5)O_3钙钛矿化合物薄膜
溅射法生长(Bi,Nd)(Ni_0.5Ti_0.5)O_3钙钛矿化合物薄膜
DOI：
--
发表时间：
2007
期刊：
影响因子：
--
作者：
[多田 英人, ほか]
通讯作者：
ほか
DOI：
10.1143/jjap.46.6938
发表时间：
2007-10
期刊：
Japanese Journal of Applied Physics
影响因子：
1.5
作者：
[K. Fukushima;M. Kobune;T. Yamaji;H. Tada;A. Mineshige;T. Yazawa;H. Fujisawa;M. Shimizu;Y. Nishihata;J. Mizuki;Hideshi Yamaguchi;K. Honda]
通讯作者：
K. Fukushima;M. Kobune;T. Yamaji;H. Tada;A. Mineshige;T. Yazawa;H. Fujisawa;M. Shimizu;Y. Nishihata;J. Mizuki;Hideshi Yamaguchi;K. Honda
Formation mechanism in perovskite structure of (Bi, Ln)(Ni, Ti)O_3 thin films fabri- cated by rf magnetron sputtering
射频磁控溅射制备(Bi,Ln)(Ni,Ti)O_3薄膜钙钛矿结构的形成机制
射频磁控溅射制备(Bi,Ln)(Ni,Ti)O_3薄膜钙钛矿结构的形成机制
DOI：
--
发表时间：
2009
期刊：
J. Korean Phys. Soc. (accepted)
影响因子：
--
作者：
[H. Oshima, M. Kobune, H. Tada, K. Fukushima, D. Horii, A. Tamura, Y. Daiko, A. Mineshige, T. Yazawa, H. Yamaguchi and K. Honda]
通讯作者：
H. Yamaguchi and K. Honda
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