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A novel technique to make nanogap with atomically flat electrodes

A novel technique to make nanogap with atomically flat electrodes
一种用原子级扁平电极制造纳米间隙的新技术
批准号:
19760023
负责人:
KUROKAWA Shu
金额:
$2.25万
依托单位:
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2008

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项目成果

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Silicon on insulator基板を使用することで,比較的簡便な方法でSPM(走査プローブ顕微鏡)観察に適したナノギャップを作成した.実際にギャップ部で電圧降下が起っていること,電極表面が1nm以下の平坦差に保たれていることを確かめた.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: NANOTECHNOLOGY 20
影响因子: --
作者: [Horiguchi K, Tsutsui M, Kurokawa S, Sakai A]
通讯作者: Sakai A
Conductance of Si nanowaires formed by breaking Si-Sijunctions
通过破坏Si-Si结形成的Si纳米线的电导
DOI: --
发表时间: 2007
期刊: Journal of Applied Physics 102
影响因子: --
作者: [T. Iwanari, T. Sakata, Y. Miyatake, S. Kurokawa, A. Sakai]
通讯作者: A. Sakai
A direct observation of nanosized contacts by STM
通过 STM 直接观察纳米级接触
DOI: --
发表时间: 2007
期刊:
影响因子: --
作者: [K. Fujita, S. Kurokawa, A. Sakai]
通讯作者: A. Sakai
走査プローブ顕微鏡(実験物理科学シリーズ6)
扫描探针显微镜(实验物理科学系列6)
DOI: --
发表时间: 2009
期刊:
影响因子: --
作者: [K. Fujita, S. Kurokawa, A. Sakai, 黒川 修(一部分担)]
通讯作者: 黒川 修(一部分担)
Conductance measurement at nanoscale using face to face dual tip Scanning Tunneling Microscopy
  • 批准号:
    23760032
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 资助金额:
    $3.0万
  • 财政年份:
    2011
  • 负责人:
    KUROKAWA Shu
  • 依托单位:
海外基金