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Damage mechanism of thin film at elevated temperature due to atomic migration and evolution of microstructure

Damage mechanism of thin film at elevated temperature due to atomic migration and evolution of microstructure
原子迁移和微观结构演化引起的高温薄膜损伤机制
批准号:
19760060
负责人:
SHIBUTANI Tadahiro
金额:
$1.79万
依托单位国家:
日本
项目类别:
Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
财政年份:
2007
资助国家:
日本
项目状态:
已结题
起止时间:
2007 至 2008

项目摘要

项目成果

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本研究は、組織変化を伴う原子輸送による欠陥発生・成長メカニズムを解明し高温環境下での損傷評価手法を確立することを目的としている。局所的なクリープ変形によって形成される多軸応力勾配は、欠陥を急速に成長させる。薄膜-基板界面での微視構造変化を考慮した応力解析を行い、原子輸送による欠陥発生には2種類のモードがあることを明らかにするとともに微視組織変化を考慮した破壊モデルを提案した。また、欠陥発生は結晶サイズに大きく依存することを指摘し、その妥当性をナノインデンテーション法により確認した。
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会议论文
Tin Whiskers: How to Manage and Mitigate the Risks
锡晶须:如何管理和降低风险
DOI: --
发表时间: 2007
期刊: Proceedings of the International Symposium on High Density Packaging and Microsystem Integration
影响因子: --
作者: [T. Shibutani, 他, T. Shibutani, T. Shibutani]
通讯作者: T. Shibutani
錫ウィスカ発生における局所成長した金属間化合物の影響
局部生长的金属间化合物对锡晶须产生的影响
DOI: --
发表时间: 2009
期刊: エレクトロニクス実装学会誌 12巻、1号
影响因子: --
作者: [澁谷忠弘, 山下拓馬, 于強, 白鳥正樹]
通讯作者: 白鳥正樹
DOI: 10.1016/j.microrel.2008.04.009
发表时间: 2008-07
期刊: Microelectron. Reliab.
影响因子: --
作者: [T. Shibutani;Qiang Yu;M. Shiratori;M. Pecht]
通讯作者: T. Shibutani;Qiang Yu;M. Shiratori;M. Pecht
Pressure Induced Tin Whisker Formation on SnCu Finish by Nanoindentation Creep
通过纳米压痕蠕变在 SnCu 表面上压力诱导锡晶须的形成
DOI: --
发表时间: 2008
期刊:
影响因子: --
作者: [T. Shibutani, 他, T. Shibutani, T. Shibutani, 澁谷忠弘]
通讯作者: 澁谷忠弘
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    Digital monitoring for prognostics to defects due to atomic migration
    • 批准号:
      21760068
    • 项目类别:
      Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
    • 资助金额:
      $2.66万
    • 财政年份:
      2009
    • 负责人:
      SHIBUTANI Tadahiro
    • 依托单位:
    国内基金
    海外基金
    334型拓扑节线半金属薄膜的理论计算与对称性分析研究
    金属薄膜微纳褶皱可控成形及其柔性电极应用
    • 批准号:
    • 项目类别:
      省市级项目
    • 资助金额:
      --
    • 批准年份:
      2023
    • 负责人:
      邓宇君
    • 依托单位:
    金属纳米阵列与金属薄膜复合结构的光场调控及折射率传感研究
    • 批准号:
      62365012
    • 项目类别:
      地区科学基金项目
    • 资助金额:
      31万元
    • 批准年份:
      2023
    • 负责人:
      王向贤
    • 依托单位:
    反应扩散协同诱导下镓基液态金属在金属薄膜上的自组织微观结构及其光、电性能研究