Geometrische Struktur von verborgenen Grenzflächen

隐藏界面的几何结构

• 批准号: 5368457
• 负责人: Professor Dr. Carsten Westphal
• 金额: --
• 依托单位: Lehrstuhl für Experimentelle Physik I
• 依托单位国家: 德国
• 项目类别: Research Grants
• 财政年份: 1997
• 资助国家: 德国
• 起止时间: 1996-12-31 至 2004-12-31
• 项目状态: 已结题
• 来源: https://gepris.dfg.de/gepris/projekt/5368457?language=en
• 关键词: Geometrische; Struktur; von; verborgenen; Grenzfl

Es soll die Photoelektronenbeugung zur Analyse von inneren Strukturen eingesetzt und weiterentwickelt werden. Aufgrund der mittleren freien Austrittstiefe der Photoelektronen ist mit ihr ein Bereich bis zu einer Tiefe von etwa 20 Lagen unter der Oberfläche experimentell zugänglich. Die Untersuchungen sollen am System Antimon auf Silizium(111) durchgeführt werden. Die Struktur an der Oberfläche soll mit der niederenergetischen Elektronenbeugung (LEED) bestimmt werden, indem die Intensitäten der LEED-Reflexe aufgenommen und ausgewertet werden. Die Element-spezifische Verteilung an der Oberfläche kann aus quantitativem XPS erfolgen. Aus beiden Informationen zusammen läßt sich die Antimonmenge an und unter der Oberfläche abschätzen. Die Struktur unter der Oberfläche kann durch den Vergleich von experimentellen und simulierten Photoelektronenbeugungsdaten ermittelt werden. Im zweiten Teil des Projektes ist der gesteuerte und kontrollierte Einbau von Antimon in die obersten Lagen vom Silizium geplant. Hierfür werden Präparationsparameter und Oberflächeneigenschaften (Rauhigkeit, Orientierung, Stufendichte) variiert. Es soll untersucht werden, ob durch den Zusammenhang zwischen Strukturen an und unter der Oberfläche eine gezielte Präparation unter der Oberfläche erreicht werden kann.

本文研究了光电子特性的内在结构特性分析和内部结构特性分析。光电电子学与电子学之间的关系：光电电子学与电子学之间的关系：光电电子学与电子学之间的关系：光电电子学与电子学之间的关系：光电电子学与电子学之间的关系。硅酸（111）反导系统研究进展[j]。Die Struktur and der Oberfläche derderniederenergetischen Elektronenbeugung (LEED) best - evaluation werden, indem Die Intensitäten derderleed - reflex aufgenommen and ausgewertet werden。Die Element-spezifische verilung and der Oberfläche kann .定量XPS erfolgen。ausen Informationen zusammen läßt，即antimonmonge，并在Oberfläche abschätzen下运行。在Oberfläche下的Die Struktur， kann durch den Vergleich von实验和模拟光电器件。在此基础上，提出了一种新的研究方法，即从硅片的角度研究硅片的结构和结构。hierff<s:1> r werden Präparationsparameter and Oberflächeneigenschaften (Rauhigkeit, Orientierung, Stufendichte) variiert。他卖给了untersucht werden， ob durch den Zusammenhang zwischen Strukturen和und under Oberfläche eine gezielte Präparation under Oberfläche erreicht werden kann。