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Plasma-Assist Effect on the Sputter-Deposition Process of Transparent Conductive Metal-doped Zinc Oxide Thin Films

Plasma-Assist Effect on the Sputter-Deposition Process of Transparent Conductive Metal-doped Zinc Oxide Thin Films
等离子体辅助对透明导电金属掺杂氧化锌薄膜溅射沉积过程的影响
批准号：
20540485
负责人：
MATSUDA Yoshinobu
金额：
$2.91万
依托单位：
Nagasaki University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2008
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2008 至 2010
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20540485/
关键词：
スパッタリング誘導結合プラズマ透明導電膜酸化亜鉛プレーナマグネトロン電気導電率吸収分光熱流束アルミ添加酸化亜鉛

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Zinc oxide (ZnO) is an environmentally-friendly, low-cost and promising transparent conductive material to replace indium tin oxide (ITO) which has been widely-used so far. Inductively coupled plasma assisted magnetron sputtering has been applied for the deposition of transparent conductive aluminum-doped zinc oxide (AZO) thin films. Good quality AZO thin films with high transmittance and low resistivity have been successfully obtained by the assist with ICP.
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会议论文
LEDを用いたスパッタAl原子の吸収スペクトル測定
使用 LED 测量溅射铝原子的吸收光谱
DOI： --
发表时间： 2010
期刊：
影响因子： --
作者： [A.Sunahara, C.Hongbo, T.Johzaki, H.Nagatomo, K.Mima, H.Yoshiki, 砂原淳, 砂原淳, 松田良信, 吉木宏之, 松田良信, 砂原淳, 吉木宏之, 平嶋彰典]
通讯作者： 平嶋彰典
Al添加ZnOターゲットを用いたマグネトロンスパッタ におけるアーキング現象の観察
Al掺杂ZnO靶材磁控溅射中电弧现象的观察
DOI： --
发表时间： 2008
期刊：
影响因子： --
作者： [吉木宏之, 石山謙, 平田慎太郎, Y.Matsuda, H. Yoshiki, Y.Matsuda, 吉木宏之, 松田良信, 吉木宏之, 松田良信, 吉木宏之, 松田良信]
通讯作者： 松田良信
Deposition of Transparent Conducting Al-Doped ZnO Thin Films by ICP-Assisted Sputtering
ICP 辅助溅射沉积透明导电 Al 掺杂 ZnO 薄膜
DOI： --
发表时间： 2010
期刊： Proceedings of TENCON 2010 IEEE Region 10 Conference, Fukuoka Japan
影响因子： --
作者： [R.Shindo, Y.Matsuda]
通讯作者： Y.Matsuda
熱流束捕集面積がサーマルプローブの時間応答特性に及ぼす影響
热流采集面积对热探头时间响应特性的影响
DOI： --
发表时间： 2010
期刊：
影响因子： --
作者： [北川博章]
通讯作者： 北川博章
共 35 条
    Development of retarding field energy analyzer that can measure energy distribution of negative ions
    • 批准号：
      16K04995
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $3.08万
    • 财政年份：
      2016
    • 负责人：
      MATSUDA Yoshinobu
    • 依托单位：
      Nagasaki University
    Studies on Reactive Sputtering Processes of Oxide Thin Films
    • 批准号：
      11680488
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.02万
    • 财政年份：
      1999
    • 负责人：
      MATSUDA Yoshinobu
    • 依托单位：
      Nagasaki University
    海外基金