课题基金 / 基金详情

Study on nanocrystalline silicon planar cathodes with low emission divergence and narrow electron energy spread

Study on nanocrystalline silicon planar cathodes with low emission divergence and narrow electron energy spread
低发射发散窄电子能展纳米晶硅平面阴极研究
批准号：
20560333
负责人：
SHIMAWAKI Hidetaka
金额：
$2.91万
依托单位：
Hachinohe Institute of Technology
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2008
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2008 至 2010
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-20560333/
关键词：
微小冷陰極トンネル電子放射エミッションプロファイルエネルギー分析シリコン微結晶真空ナノエレクトロニクストンネル放射平面型冷陰極

项目摘要

项目成果

SHIMAWAKI Hidetaka的其他基金

相关文献

中文摘要
翻译
点击翻译按钮获取中文摘要
英文摘要
We investigated emission uniformity from the planar cathodes based on nc-Si prepared by pulsed Nd : YAG laser ablation. Distributions of electron emission showed strong dependence on thin metal morphology. The emission occurred at limited parts of the emission area for the cathode with discontinuous metal and the whole for the cathode with continuous metal due to series resistance effects. Continuity and conductivity of thin metal film are important for uniform and high directional emission from the planar cathodes.
期刊论文(0)
专著(0)
科研奖励(0)
会议论文
Evaluation of emission uniformity of nanocrystalline silicon planar cathodes
DOI： 10.1116/1.3271165
发表时间： 2010-04
期刊： Journal of Vacuum Science & Technology. B. Nanotechnology and Microelectronics: Materials, Processing, Measurement, and Phenomena
影响因子： --
作者： [H. Shimawaki;K. Murakami;Y. Neo;H. Mimura;F. Wakaya;M. Takai]
通讯作者： H. Shimawaki;K. Murakami;Y. Neo;H. Mimura;F. Wakaya;M. Takai
nc-Si MOSカソードのエミッション均一性の評価
nc-Si MOS阴极发射均匀性评价
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [嶋脇秀隆, 村上勝久, 木田庸, 根尾陽一郎, 三村秀典, 若家富士夫, 高井幹夫]
通讯作者： 高井幹夫
Emission uniformity of nanocrystalline silicon based metal-oxide-semiconductor cathodes
纳米晶硅基金属氧化物半导体阴极的发射均匀性
DOI： --
发表时间： 2009
期刊： Tech. Digest of the 22nd Int. Vacuum Nanoelectronics Conf.
影响因子： --
作者： [H. Shimawaki, K. Murakami, Y. Kida, Y. Neo, H. Mimura, F. Wakaya, and M. Takai]
通讯作者： and M. Takai
Intensity Distribution of Electron Emission from nc-Si MOS Cathode
nc-Si MOS 阴极电子发射强度分布
DOI： --
发表时间： 2009
期刊： Proc. of the 16th Int. Display Workshops
影响因子： --
作者： [H. Shimawaki, K. Murakami, Y. Neo, H. Mimura, F. Wakaya, and M. Takai]
通讯作者： and M. Takai
共 7 条
    Study on enhancement in emission current of plane-type cathodes based on nanocrystalline silicon
    • 批准号：
      18560342
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.47万
    • 财政年份：
      2006
    • 负责人：
      SHIMAWAKI Hidetaka
    • 依托单位：
      Hachinohe Institute of Technology
    Study on electron emission from nanocrystalline silicon
    • 批准号：
      16560306
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.98万
    • 财政年份：
      2004
    • 负责人：
      SHIMAWAKI Hidetaka
    • 依托单位：
      Hachinohe Institute of Technology
    Study on the energy distribution of semiconductor emitters
    • 批准号：
      13650366
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.24万
    • 财政年份：
      2001
    • 负责人：
      SHIMAWAKI Hidetaka
    • 依托单位：
      Hachinohe Institute of Technology
    Basic study on modurated field emission using semiconductor field emitter arrays
    • 批准号：
      11650338
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.11万
    • 财政年份：
      1999
    • 负责人：
      SHIMAWAKI Hidetaka
    • 依托单位：
      Tohoku University