Analyses of chemical reaction producing carbonized-metal for ULSI plasma etching process

ULSI等离子刻蚀工艺碳化金属化学反应分析

基本信息

  • 批准号:
    20760023
  • 负责人:
  • 金额:
    $ 2.75万
  • 依托单位:
  • 依托单位国家:
    日本
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for Young Scientists (B)
  • 财政年份:
    2008
  • 资助国家:
    日本
  • 起止时间:
    2008 至 2009
  • 项目状态:
    已结题

项目摘要

This study was for plasma etching technology in fabrication of ULSI MOSFET gate with a few ten nm size and hafnium oxide as an insulating material. In CF_4/Ar plasmas with addition of CO or H_2 resulting in making the gas phase carbon-rich, the etch rates of Si and SiO_2 were decreased. On the other hand, that of HfO_2 was increased, which implied that HfO_2 could be etched in the reaction of carbonized-hafnium formed as an etch product.
本研究系以氧化铪为绝缘材料,探讨电浆蚀刻技术在超大规模半导体场效电晶体闸极制程中之应用。在CF_4/Ar等离子体中加入CO或H_2使气相富碳,降低了Si和SiO_2的刻蚀速率。另一方面,HfO_2的腐蚀速率增加,这意味着HfO_2可以在碳化铪的腐蚀反应中被腐蚀。

项目成果

期刊论文数量(0)
专著数量(0)
科研奖励数量(0)
会议论文数量(0)
专利数量(0)
マイクロアレイ用基板及びその製造方法
微阵列基板及其制造方法
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
  • 通讯作者:
高誘電率(High-k)材料のエッチング反応
高介电常数(High-k)材料的蚀刻反应
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    高橋和生;高橋麗
  • 通讯作者:
    高橋麗
COおよびH2添加CF4プラズマにおけるHfO2のエッチング特性
HfO2 在添加 CO 和 H2 的 CF4 等离子体中的蚀刻特性
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    美山遼;高橋和生
  • 通讯作者:
    高橋和生
COおよびH_2添加CF_4プラズマにおけるHfO_2のエッチング特性
HfO_2在CO和H_2添加CF_4等离子体中的刻蚀性能
  • DOI:
  • 发表时间:
    2010
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    美山遼;高橋和生
  • 通讯作者:
    高橋和生
Etching of diamond-like carbon in fluorocarbon plasmas
氟碳等离子体中类金刚石碳的蚀刻
  • DOI:
  • 发表时间:
    2008
  • 期刊:
  • 影响因子:
    0
  • 作者:
    Rei Takahashi;Kazuo Takahashi
  • 通讯作者:
    Kazuo Takahashi
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  • 批准号:
    03805008
  • 财政年份:
    1991
  • 资助金额:
    $ 2.75万
  • 项目类别:
    Grant-in-Aid for General Scientific Research (C)
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知道了