Nanostrukturierung von Photolacken in flüssiger Umgebung mit Rastersondenmikroskopen

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Der Antragsteller konnte erfolgreich das von ihm entwickelte Nanolithographieverfahren, welches eine dreidimensionale Strukturierung von konventionellen Photolackschichten mit einem Rasterkraftmikroskop in flüssiger Entwicklerumgebung ermöglicht, zur Erzeugung positiver und negativer Geometrien einsetzen. Dabei wurde die Abhängigkeit von z.B. Auflagekraft und Rastergeschwindigkeit untersucht. Eine vollständige Beschreibung des Prozesses ist bislang noch nicht möglich. Dies soll insbesondere durch detaillierte Untersuchungen der thermischen und elektrochemischen Parameter mittels der hochaufgelösten Rastersondentechnik erfolgen. Der Antragsteller will hierzu sowohl etablierte als auch von ihm neu entwickelte Rastersondenmikroskopietechniken einsetzen, welche sowohl eine in situ-Strukturierung der Probenoberfläche als auch die höchstortsaufgelöste Charakterisierung der fest/flüssig-Phasengrenzfläche vor, während und nach der Strukturierung zulassen.