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High Precision Measurement of Plasma Density in Atmospheric Pressure Plasma

High Precision Measurement of Plasma Density in Atmospheric Pressure Plasma
大气压等离子体中等离子体密度的高精度测量
批准号：
21540509
负责人：
TOYODA Hirotaka
金额：
$2.83万
依托单位：
Nagoya University
依托单位国家：
日本
项目类别：
Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
财政年份：
2009
资助国家：
日本
项目状态：
已结题
起止时间：
2009 至 2011
来源：
https://kaken.nii.ac.jp/grant/KAKENHI-PROJECT-21540509/
关键词：
シュタルク効果大気圧プラズマ電界計測電子密度計測発光分光大気圧プラズ

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Atmospheric pressure plasma is used in various application areas and this trend requires diagnostic technique that enables precise plasma density measurement. Focusing on Stark broadening, we have successfully measured spatiotemporal variation of the plasma density as well as external electric field in atmospheric pressure microwave plasma and have obtained a guideline to measure plasma density with high accuracy.
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大気圧パルスマイクロ波プラズマにおける時空間発光分光計測
大气压脉冲微波等离子体中的时空发射光谱测定
DOI： --
发表时间： 2010
期刊：
影响因子： --
作者： [鎌田安住, 石島達夫, 豊田浩孝]
通讯作者： 豊田浩孝
Time Resolved Measurement of H_β Emission from Atmospheric-Pressure Pulsed Microwave Plasma
大气压脉冲微波等离子体 H_β 发射的时间分辨测量
DOI： --
发表时间： 2010
期刊：
影响因子： --
作者： [A.Kamata, H.Yang, T.Ishijima, H.Toyoda]
通讯作者： H.Toyoda
Eemporal-Spatial Measurement of Electric Field Using Stark Spectroscopy in Atmospheric-pressure Pulsed Slot-antenna Microwave Plasma
大气压脉冲缝隙天线微波等离子体中斯塔克光谱法的时空电场测量
DOI： --
发表时间： 2012
期刊：
影响因子： --
作者： [T. Murase, T. Ishijima and H. Toyoda]
通讯作者： T. Ishijima and H. Toyoda
Temporal variation of plasma density in atmospheric pressure pulsed-microwave plasma
大气压脉冲微波等离子体中等离子体密度的时间变化
DOI： --
发表时间： 2009
期刊：
影响因子： --
作者： [H. Toyoda, H. Yang, T. Ishijima]
通讯作者： T. Ishijima
共 13 条
    Magnet-free microwave sputter deposition with uniform target utilization
    • 批准号：
      24654189
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Challenging Exploratory Research
    • 资助金额：
      $2.41万
    • 财政年份：
      2012
    • 负责人：
      TOYODA Hirotaka
    • 依托单位：
      Nagoya University
    Development of New Magnetron Plasma Source with Particle Energy Control
    • 批准号：
      18540489
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $2.12万
    • 财政年份：
      2006
    • 负责人：
      TOYODA Hirotaka
    • 依托单位：
      Nagoya University
    Surface Reaction Processes of Fluorocarbon Molecule and Fundamental Research on New Etching Process
    • 批准号：
      15540474
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (C)
    • 资助金额：
      $1.98万
    • 财政年份：
      2003
    • 负责人：
      TOYODA Hirotaka
    • 依托单位：
      Nagoya University
    Lower-Temperature Deposition of Poly-crystalline Silicon Film by High-Density Plasma
    • 批准号：
      09558055
    • 项目类别：
      Grant-in-Aid for Scientific Research (B)
    • 资助金额：
      $4.29万
    • 财政年份：
      1997
    • 负责人：
      TOYODA Hirotaka
    • 依托单位：
      Nagoya University
    海外基金